- •1.Зоны разрешенных значений энергии в кристалле. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •2.Собственные полупроводники. Локальные уровни в запрещенной зоне.
- •Локальные уровни в запрещенной зоне
- •12.Автоэлектронная эмиссия
- •3.Функция распределения в статистике Ферми-Дирака, функция плотности состояний
- •4. Концентрация электронов и дырок в полупроводнике
- •5.Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
- •8. Статистика электронов в металлах
- •6.Статистика электронов в примесных полупроводниках: Донорный полупроводник
- •7. Статистика электронов в примесных полупроводниках: Акцепторный полупроводник
- •Закон действующих масс
- •Сильно легированные полупроводники
- •Компенсированные полупроводники
- •10.Формула для плотности тока термоэлектронной эмиссии (Формула Ричардсона-Дешмена)
- •13.Фотоэлектронная эмиссия: основные закономерности, процессы, квантовый выход
- •14.Фотоэлектронная эмиссия из металлов, диэлектриков и полупроводников
- •15.Вторичная электронная эмиссия.Фэу
- •18. Тетроды и пентоды
- •17. Трехэлектродные лампы (триоды)
- •Недостатки триодов
- •19. Ионизация газов. Упругие и неупругие столкновения. Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия. Скорости генерации и рекомбинации
- •Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия
- •Скорости генерации и рекомбинации
- •11.Эффект Шоттки
- •20.Несамостоятельный разряд в газе. Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации
- •6. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •21. Лавинный разряд. Явление усиления тока при наличии ионизирующего соударения
- •22. Самостоятельный разряд. Лавинный разряд при объемной ионизации электронами и гамма-процессах на катоде
- •23.Зажигание самостоятельного разряда. Развитие и установление самостоятельного разряда
- •Процесс развития самостоятельного разряда
- •Развитие и установление самостоятельного разряда
- •24.Напряжение зажигания самостоятельного разряда. Формы самостоятельного разряда
- •Тлеющий разряд
- •1)Распределение потенциала между катодом и анодом в тлеющем разряде
- •2)Вольт-амперная характеристика тлеющего разряда:
- •Дуговой разряд
- •Коронный разряд
- •Искровой разряд
- •25.Электронная оптика
- •26.Движение электрона в однородном электрическом поле. Электростатическая электронная линза
- •Электростатическая электронная линза
- •27.Линзы-диафрагмы, Бипотенциальные линзы, Одиночные линзы. Магнитные линзы
- •Магнитные линзы
- •9.Поверхностный потенциальный барьер для электронов в металле (Работа выхода)
- •28. Устройство электронного микроскопа. Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
- •Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
6.Статистика электронов в примесных полупроводниках: Донорный полупроводник
Получим выражение для концентрации электронов на примесном уровне Eпр, считая, что примесь одного сорта:
где
Nпр – концентрация
примесных атомов с энергией Eпр,
g – величина, связанная со степенью
вырождения уровня Eпр.
Для доноров
,
а для акцепторов g =2.
Будем рассматривать полупроводники с малой концентрацией примеси, которые при комнатной температуре являются невырожденными полупроводниками. Рассмотрим сначала низкие температуры.
Е
сли
в полупроводник введена донорная примесь
с малой энергией ионизации Eиd,
то при низких температурах число
электронов, попавших в зону проводимости
с донорных уровней, будет значительно
превышать число электронов, возбужденных
из валентной зоны. В этом случае
переходами из валентной зоны можно
пренебречь. Тогда число
электронов в зоне проводимости n
будет равно числу свободных мест на
донорных уровнях Nd+
:
Д
ля
невырожденного полупроводника для n
имеем:
а
число свободных мест на донорных уровнях
Nd+
с учетом того, что теперь Nпр=
Nd, а Епр=Еd,
равно:
Приравняв
n согласно (3) и Nd+
согласно (4), получим:
Р
ассмотрим
область очень низких
температур, когда EF–Ed
>> kT. В этом случае
единицей в знаменателе правой части
уравнения (5) можно пренебречь и тогда
(5) перепишется
откуда
При T → 0 EF → (Ec+Ed)/2, то есть уровень Ферми стремится к середине между дном зоны проводимости Ес и уровнем Ed. Заметим, что при T → 0, Nd+ → 0, как это видно из (4), то есть доноры (как это и должно быть при абсолютном нуле температуры!) не ионизированы.
Однако при дальнейшем повышении
температуры, уровень Ферми, достигнув
максимума, начинает понижаться и при
некоторой температуре T
= Ts
пересекает уровень Ed.
Но при T ≈ Ts
пользоваться уравнением (6) уже
нельзя, так как оно было получено при
условиях EF–Ed
>> kT или Nd+
<< Nd,
которые теперь не выполняются.
Действительно, из (4) следует, что при
совпадении уровня Ферми с уровнем Ed
мы имеем Nd+
= Nd/3.
В этом случае величину EF
следует определять из более общего
уравнения (5). Найдем температуру Ts
из условия: EF = Ed:
Отсюда, учитывая, что Ec
– Ed
= Eud,
получаем
Температура Ts называется температурой истощения примеси. Из этого выражения видно, что чем больше Eud, тем выше Ts. Температура истощения примеси зависит также и от Nd. А именно, чем больше Nd, тем больше Ts. Это происходит потому что, чем больше концентрация донорной примеси Nd, тем больше вероятность захвата (возврата) электронов из зоны проводимости на донорные уровни. Поэтому, чтобы достичь истощения при бо'льших Nd , необходимо поднять температуру.
О
бычно
температура истощения примеси невелика.
Так, для примеси в германии Eud
=0,01 эВ и Nd
=1016 см-3, Ts
= 30 К. Теперь получим концентрацию
электронов в зоне проводимости при
очень низких температурах. Для этого
выражение для EF
(
):
П
рологарифмировав
(9), получим:
Зависимость (логарифмическая) первого
слагаемого в (10) от T гораздо
более слабая, чем второго, поэтому
зависимость ln n
от 1/T в области низких
температур примерно линейная с угловым
коэффициентом
.
Р
ассмотрим
теперь область истощения примеси (T
~ TS).
При небольшом превышении температуры
над TS
практически все электроны переходят
с донорных уровней в зону проводимости
(в этом случае fпр(Eпр)=0
и Nd+
= Nd).
Тогда
При этом, поскольку Nd не зависит от температуры, концентрация электронов n тоже является температурной константой (см. рисунок).
Найдем
энергию Ферми в этой области температур
из условия:
Она равна Число состояний зоны проводимости
Nc увеличивается с повышением
температуры, и уже при T
= TS,
Nc >
Nd,
поэтому
имеет отрицательный знак и
увеличивается по модулю с повышением
температуры. Тогда согласно (13) уровень
Ферми понижается.
Рассмотрим
область собственной проводимости.
При высоких температурах в концентрацию
электронов будут вносить заметный вклад
электроны, возбуждаемые из валентной
зоны. Концентрация электронов снова
начнет расти (область 3 на рисунке) и, в
конце концов, станет практически равной
концентрации ni
в собственном полупроводнике (см.
графики зависимостей lnn
от 1/T и EF от Т). За температуру
перехода Ti
к собственной проводимости
п
ринимают
температуру, при которой ni
совпадает с концентрацией электронов
в донорном полупроводнике в области
истощения Nd:
откуда, согласно
получаем:
.Отсюда
