- •1.Зоны разрешенных значений энергии в кристалле. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •2.Собственные полупроводники. Локальные уровни в запрещенной зоне.
- •Локальные уровни в запрещенной зоне
- •12.Автоэлектронная эмиссия
- •3.Функция распределения в статистике Ферми-Дирака, функция плотности состояний
- •4. Концентрация электронов и дырок в полупроводнике
- •5.Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
- •8. Статистика электронов в металлах
- •6.Статистика электронов в примесных полупроводниках: Донорный полупроводник
- •7. Статистика электронов в примесных полупроводниках: Акцепторный полупроводник
- •Закон действующих масс
- •Сильно легированные полупроводники
- •Компенсированные полупроводники
- •10.Формула для плотности тока термоэлектронной эмиссии (Формула Ричардсона-Дешмена)
- •13.Фотоэлектронная эмиссия: основные закономерности, процессы, квантовый выход
- •14.Фотоэлектронная эмиссия из металлов, диэлектриков и полупроводников
- •15.Вторичная электронная эмиссия.Фэу
- •18. Тетроды и пентоды
- •17. Трехэлектродные лампы (триоды)
- •Недостатки триодов
- •19. Ионизация газов. Упругие и неупругие столкновения. Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия. Скорости генерации и рекомбинации
- •Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия
- •Скорости генерации и рекомбинации
- •11.Эффект Шоттки
- •20.Несамостоятельный разряд в газе. Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации
- •6. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •21. Лавинный разряд. Явление усиления тока при наличии ионизирующего соударения
- •22. Самостоятельный разряд. Лавинный разряд при объемной ионизации электронами и гамма-процессах на катоде
- •23.Зажигание самостоятельного разряда. Развитие и установление самостоятельного разряда
- •Процесс развития самостоятельного разряда
- •Развитие и установление самостоятельного разряда
- •24.Напряжение зажигания самостоятельного разряда. Формы самостоятельного разряда
- •Тлеющий разряд
- •1)Распределение потенциала между катодом и анодом в тлеющем разряде
- •2)Вольт-амперная характеристика тлеющего разряда:
- •Дуговой разряд
- •Коронный разряд
- •Искровой разряд
- •25.Электронная оптика
- •26.Движение электрона в однородном электрическом поле. Электростатическая электронная линза
- •Электростатическая электронная линза
- •27.Линзы-диафрагмы, Бипотенциальные линзы, Одиночные линзы. Магнитные линзы
- •Магнитные линзы
- •9.Поверхностный потенциальный барьер для электронов в металле (Работа выхода)
- •28. Устройство электронного микроскопа. Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
- •Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
1.Зоны разрешенных значений энергии в кристалле. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
Р
асположим
ионы Na в узлах кристаллической
решетки кристалла натрия так, чтобы
расстояния между ионами Na
были велики и взаимодействием
между ними можно было пренебречь.
Тогда каждый рассматриваемый электрон
будет находиться возле своего иона
бесконечно долго так как его удерживает
потенциальный барьер кулоновского поля
иона.
При
сближении ионов до нормальных расстояний
потенциальные кривые налагаются друг
на друга и дают следующую результирующую
кривую потенциальной энергии:
Для
Na оказалось, что высота
барьера ниже первоначального положения
уровня валентного электрона. В таком
случае этот электрон беспрепятственно
передвигается по кристаллу. Его волновая
функция делокализуется на весь
кристалл. Это означает, что электроны
обобществляются – каждый из
них теперь принадлежит всему
кристаллу (!).
Даже если потенциальные барьеры понизились не настолько, чтобы они оказались ниже первоначального уровня валентного электрона в отдельном атоме, обобществление все равно происходит. Оно происходит из-за туннельного эффекта.
Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
В каждой энергетической зоне состояния электронов отличаются друг от друга значениями волнового вектора k. В свою очередь, каждому значению k соответствует два состояния электронов, различающиеся проекцией спина. Таким образом, в энергетической зоне содержится 2N состояний электронов.
По характеру заполнения зон электронами все тела делятся на две группы.
К
1-ой группе относятся тела, у
которых над целиком заполненными зонами
расположена зона, заполненная лишь
частично.
Такая зона возникает тогда, когда атомный уровень, из которого она образуется, заполнен в атоме не полностью (!).
Так, у Na на 3s-орбитали только 1 электрон (а не два), поэтому в твердом теле натрия образуется 3s-зона, заполненная только наполовину (а не полностью).
Частично заполненная зона может образовываться и при наложении заполненных зон на пустые (или частично заполненные). Это имеет место у щелочно-земельных элементов и бериллия Be.
Наличие зоны, заполненной лишь частично, присуще металлам.
Ко
2-ой группе относятся тела, у которых
над целиком заполненными зонами
расположены пустые зоны.
Тела этой группы образуются:
элементами IV группы таблицы Менделеева (углерод-алмаз, кремний, германий, серое олово).
многими химическими соединениями: оксидами металлов, карбидами, галогенидами щелочных металлов (как например, NaCl).
Верхняя, целиком заполненная электронами зона, называется валентной. Свободная или частично заполненная электронами зона, которая находится над валентной зоной и отделена от нее энергетической щелью Eg (запрещенной зоной), называется зоной проводимости.
По ширине запрещенной зоны Eg, тела 2-ой группы делятся на диэлектрики и полупроводники. Это деление условно. Обычно к диэлектрикам относят тела с Eg > 3 эВ (Eg (алмаз)=5,2 эВ, Eg (Al2O3)=7 эВ). К полупроводникам относят тела с Eg ≤ 1,5 эВ (Eg (германий) = 0,66 эВ, Eg (кремний) = 1,08 эВ, Eg (арсенид галлия (GaAs)) = 1,43 эВ).
