- •6.Статистика электронов в примесных полупроводниках: Донорный полупроводник
- •7. Статистика электронов в примесных полупроводниках: Акцепторный полупроводник
- •Закон действующих масс
- •Сильно легированные полупроводники
- •17. Трехэлектродные лампы (триоды)
- •Компенсированные полупроводники
- •Недостатки триодов
- •19. Ионизация газов. Упругие и неупругие столкновения. Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия. Скорости генерации и рекомбинации
- •Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия
- •20.Несамостоятельный разряд в газе. Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •21. Лавинный разряд. Явление усиления тока при наличии ионизирующего соударения
- •22. Самостоятельный разряд. Лавинный разряд при объемной ионизации электронами и гамма-процессах на катоде
- •Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации
- •6. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •Скорости генерации и рекомбинации
- •11.Эффект Шоттки
- •23.Зажигание самостоятельного разряда. Развитие и установление самостоятельного разряда
- •Процесс развития самостоятельного разряда
- •Развитие и установление самостоятельного разряда
- •1.Зоны разрешенных значений энергии в кристалле. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •2.Собственные полупроводники. Локальные уровни в запрещенной зоне.
- •Локальные уровни в запрещенной зоне
- •12.Автоэлектронная эмиссия
- •3.Функция распределения в статистике Ферми-Дирака, функция плотности состояний
- •4. Концентрация электронов и дырок в полупроводнике
- •5.Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
- •8. Статистика электронов в металлах
- •10.Формула для плотности тока термоэлектронной эмиссии (Формула Ричардсона-Дешмена)
- •13.Фотоэлектронная эмиссия: основные закономерности, процессы, квантовый выход
- •24.Напряжение зажигания самостоятельного разряда. Формы самостоятельного разряда
- •Тлеющий разряд
- •1)Распределение потенциала между катодом и анодом в тлеющем разряде
- •2)Вольт-амперная характеристика тлеющего разряда:
- •27.Линзы-диафрагмы, Бипотенциальные линзы, Одиночные линзы. Магнитные линзы
- •28. Устройство электронного микроскопа. Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
- •Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
- •26.Движение электрона в однородном электрическом поле. Электростатическая электронная линза
- •Электростатическая электронная линза
- •Магнитные линзы
- •9.Поверхностный потенциальный барьер для электронов в металле (Работа выхода)
- •Дуговой разряд
- •Коронный разряд
- •Искровой разряд
- •18. Тетроды и пентоды
- •25.Электронная оптика
- •14.Фотоэлектронная эмиссия из металлов, диэлектриков и полупроводников
- •15.Вторичная электронная эмиссия.Фэу
5.Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
П
оложение
уровня Ферми в собственных полупроводниках
можно найти из условия равенства
количества электронов в зоне проводимости
ni
количеству дырок в валентной зоне pi:
где индекс i – обозначает принадлежность к собственному полупроводнику.
Приравняв
n (формула (14)) к p
(формула (19)), будем иметь:
Отсюда,
используя соотношение EFi
– EV
= Eg –
(Ec –
EFi),
или
За
счет того, что mp
≠ mn,
уровень Ферми несколько сдвинут
относительно середины запрещенной
зоны. Если бы массы дырки и электрона
были равны: mp
= mn,
то уровень Ферми был бы расположен точно
посередине запрещенной зоны. Как видно
из (21), при T=0 он, действительно, расположен
посередине запрещенной зоны. Если T >
0, то при mp
> mn
уровень Ферми сдвигается вверх,
а при mn
> mp
– вниз. Поскольку, как правило, разница
между mp
и mn
небольшая, то этим сдвигом часто
пренебрегают. Тогда Ec
– EFi
= EFi
– EV
= Eg/2.
Получим концентрацию свободных носителей в собственном полупроводнике:
О
тсюда
видно, что концентрация носителей заряда
в собственном полупроводнике определяется
шириной запрещенной зоны Eg
и температурой. Причем зависимость
ni
(или pi)
от температуры очень резкая. Так,
для гермения с Eg
= 0,66 эВ, увеличение температуры от
100 до 600 К приводит к повышению ni
на 17 порядков (!).
П
рологарифмировав
получим:
Так как
зависит от температуры гораздо слабее,
чем 1/T, график зависимотсти
lnni
от 1/T представляет собой
приблизительно прямую линию с угловым
коэффициентом – Eg/2k.
8. Статистика электронов в металлах
Электроны
в металлах, как известно, заполняют
верхнюю зону только частично. При
температуре Т = 0 К электроны занимают
все нижние состояния зоны проводимости
(по одному на состояние). Верхним
уровнем является уровень Ферми. Чему
же равна энергия уровня Ферми при Т = 0
К? Для ответа на этот вопрос запишем
формулу для общего числа электронов
(концентрации) в виде:
так как при Т = 0 К в пределах интегрирования
(Ec
E
EF)
функция
.
В металлах функция плотности состояний
g(E) имеет
вид:
почти по всей зоне проводимости, а mn ≈ me (me – масса свободного электрона). Пусть Ec = 0, тогда
после
взятия интеграла получим
Откуда
для энергии Ферми будем иметь
Зная EF – максимальную
энергию электронов в металле при T
= 0 K, можно вычислить также
максимальную скорость электрона
vmax,
исходя из формулы для кинетической
энергии электрона
:
Эта
скорость vmax
≈ 106 м/с (!) (И это
при 0 К!). Как уже было сказано ранее,
при
0 К. Состояние электронного газа при
таком условии называется вырожденным.
Вообще состояние электронного газа
любого материала (не только металлов,
но и полупроводников) с
является вырожденным.
При
T > 0 К электроны с уровней
в интервале энергии ~ kT
около уровня Ферми переходят на более
высокие уровни. Так как условие kT
<< EF
выполняется всегда (при Tкомн
величина kT ≈ 0,025эВ, а EF
≈ 5эВ), энергия изменяется только у
небольшой части электронов вблизи ЕF.
Положение уровня Ферми при T
> 0 K найдем из условия
неизменности концентрации от температуры:
Этот интеграл, к сожалению, не может быть представлен в виде аналитической функции. Приближенно из него получается, что
г
де
EF(0)
– энергия Ферми при Т = 0 К.
Согласно (7) энергия Ферми очень слабо зависит от температуры, Так, например, при комнатной температуре изменение EF составляет всего ≈10-3 %. Уровень Ферми несколько понижается с температурой, так как плотность состояний g(E) увеличивается с E.
Полученные выражения справедливы для одновалентных металлов, у которых валентные электроны заполняют лишь одну энергетическую зону.
