- •6.Статистика электронов в примесных полупроводниках: Донорный полупроводник
- •7. Статистика электронов в примесных полупроводниках: Акцепторный полупроводник
- •Закон действующих масс
- •Сильно легированные полупроводники
- •17. Трехэлектродные лампы (триоды)
- •Компенсированные полупроводники
- •Недостатки триодов
- •19. Ионизация газов. Упругие и неупругие столкновения. Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия. Скорости генерации и рекомбинации
- •Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия
- •20.Несамостоятельный разряд в газе. Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •21. Лавинный разряд. Явление усиления тока при наличии ионизирующего соударения
- •22. Самостоятельный разряд. Лавинный разряд при объемной ионизации электронами и гамма-процессах на катоде
- •Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации
- •6. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •Скорости генерации и рекомбинации
- •11.Эффект Шоттки
- •23.Зажигание самостоятельного разряда. Развитие и установление самостоятельного разряда
- •Процесс развития самостоятельного разряда
- •Развитие и установление самостоятельного разряда
- •1.Зоны разрешенных значений энергии в кристалле. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •2.Собственные полупроводники. Локальные уровни в запрещенной зоне.
- •Локальные уровни в запрещенной зоне
- •12.Автоэлектронная эмиссия
- •3.Функция распределения в статистике Ферми-Дирака, функция плотности состояний
- •4. Концентрация электронов и дырок в полупроводнике
- •5.Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
- •8. Статистика электронов в металлах
- •10.Формула для плотности тока термоэлектронной эмиссии (Формула Ричардсона-Дешмена)
- •13.Фотоэлектронная эмиссия: основные закономерности, процессы, квантовый выход
- •24.Напряжение зажигания самостоятельного разряда. Формы самостоятельного разряда
- •Тлеющий разряд
- •1)Распределение потенциала между катодом и анодом в тлеющем разряде
- •2)Вольт-амперная характеристика тлеющего разряда:
- •27.Линзы-диафрагмы, Бипотенциальные линзы, Одиночные линзы. Магнитные линзы
- •28. Устройство электронного микроскопа. Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
- •Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
- •26.Движение электрона в однородном электрическом поле. Электростатическая электронная линза
- •Электростатическая электронная линза
- •Магнитные линзы
- •9.Поверхностный потенциальный барьер для электронов в металле (Работа выхода)
- •Дуговой разряд
- •Коронный разряд
- •Искровой разряд
- •18. Тетроды и пентоды
- •25.Электронная оптика
- •14.Фотоэлектронная эмиссия из металлов, диэлектриков и полупроводников
- •15.Вторичная электронная эмиссия.Фэу
2.Собственные полупроводники. Локальные уровни в запрещенной зоне.
Химически чистые полупроводники называются собственными полупроводниками. Это тела из химических элементов: германия (Ge), кремния (Si), селена (Se), теллура (Te) и химических соединений: арсенида галлия (GaAs), арсенида индия (InAs), антимонида индия (InSb), карбида кремния(SiC).
На рисунке приведена зонная структура собственного полупроводника.
При T = 0 К, его валентная зона укомплектована полностью, а зона проводимости является пустой. Поэтому при Т = 0 К собственный полупроводник как и диэлектрик является изолятором.
Однако
при T > 0 К благодаря
термическому возбуждению электронов
валентной зоны часть из них приобретает
энергию, достаточную для преодоления
запрещенной зоны и перехода в зону
проводимости. Это приводит к появлению
в зоне проводимости свободных электронов,
а в валентной зоне свободных уровней –
дырок (!) На эти свободные уровни
могут переходить электроны этой зоны.
При наличии поля
возникает ток. Ток возникает по двум
причинам: 1) благодаря перемещению
против поля электронов в зоне проводимости
и 2) благодаря перемещению дырок по полю
в валентной зоне.
Чем у́же запрещенная зона и выше температура, тем больше образуется электронов и дырок (электронно-дырочных пар) и тем более высокую электропроводность приобретает кристалл.
Отметим, что в состоянии теплового равновесия электроны стремятся занять наинизшие состояния, так что в равновесии дырка оказывается у потолка валентной зоны, где ее энергия равна нулю. Увеличение энергии дырок соответствует направлению от потолка валентной зоны ко дну.
Локальные уровни в запрещенной зоне
Полупроводники практически любой степени чистоты содержат примесные атомы, которые создают собственные энергетические уровни, которые называются примесными. Эти уровни могут располагаться как в разрешенных, так и в запрещенных зонах полупроводников. Часто примеси вносят специально (легирование).
12.Автоэлектронная эмиссия
Закон
термоэлектронной эмиссии с поправкой
Шоттки дает очень хорошее совпадение
с экспериментом вплоть до полей
В/см.
Однако при больших
плотность тока начинает превосходить
значения, подсчитанные по формуле
Ричардсона-Дешмена-Шоттки. При очень
больших полях ток существует даже при
холодном катоде (!).
Это явление – явление электронной
эмиссии при холодном катоде получило
название автоэлектронной эмиссии.
Явление автоэлектронной эмиссии не находит объяснения в классической механике и классической электродинамике. Оно объясняется квантовой механикой, в которой используется волновое представление электронов и прохождение электронных волн сквозь потенциальный барьер – туннелирование.
Туннелирование – туннельный эффект осуществляется с определенной долей вероятности – прозрачностью потенциального барьера: D.
Прозрачность D зависит
от высоты и ширины барьера. А именно,
чем выше и шире барьер, тем меньше
прозрачность. Для электронов, у которых
энергия
,
при Ɛ=0 ширина потенциального барьера
равна бесконечности и D=0.
При Ɛ>0 барьер имеет конечную ширину
и D
0.
Чем больше напряженность поля Ɛ, тем
меньше ширина и высота потенциального
барьера и тем больше D.
Решение задачи для плотности тока
электронов, проходящих сквозь потенциальный
барьер, дает для плотности тока:
.
Из этого выражения следует, что плотность
тока i увеличивается
при увеличении напряженности электрического
поля Ɛ за счет 1) множителя
перед экспонентой и 2) присутствия Ɛ в
показателе экспоненты.
