- •6.Статистика электронов в примесных полупроводниках: Донорный полупроводник
- •7. Статистика электронов в примесных полупроводниках: Акцепторный полупроводник
- •Закон действующих масс
- •Сильно легированные полупроводники
- •17. Трехэлектродные лампы (триоды)
- •Компенсированные полупроводники
- •Недостатки триодов
- •19. Ионизация газов. Упругие и неупругие столкновения. Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия. Скорости генерации и рекомбинации
- •Длина свободного пробега. Эффективное сечение взаимодействия
- •20.Несамостоятельный разряд в газе. Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •21. Лавинный разряд. Явление усиления тока при наличии ионизирующего соударения
- •22. Самостоятельный разряд. Лавинный разряд при объемной ионизации электронами и гамма-процессах на катоде
- •Экспериментальное определение коэффициента рекомбинации
- •6. Распределение электронов по длинам свободного пробега
- •Скорости генерации и рекомбинации
- •11.Эффект Шоттки
- •23.Зажигание самостоятельного разряда. Развитие и установление самостоятельного разряда
- •Процесс развития самостоятельного разряда
- •Развитие и установление самостоятельного разряда
- •1.Зоны разрешенных значений энергии в кристалле. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники
- •2.Собственные полупроводники. Локальные уровни в запрещенной зоне.
- •Локальные уровни в запрещенной зоне
- •12.Автоэлектронная эмиссия
- •3.Функция распределения в статистике Ферми-Дирака, функция плотности состояний
- •4. Концентрация электронов и дырок в полупроводнике
- •5.Положение уровня Ферми и концентрация свободных носителей заряда в собственных полупроводниках
- •8. Статистика электронов в металлах
- •10.Формула для плотности тока термоэлектронной эмиссии (Формула Ричардсона-Дешмена)
- •13.Фотоэлектронная эмиссия: основные закономерности, процессы, квантовый выход
- •24.Напряжение зажигания самостоятельного разряда. Формы самостоятельного разряда
- •Тлеющий разряд
- •1)Распределение потенциала между катодом и анодом в тлеющем разряде
- •2)Вольт-амперная характеристика тлеющего разряда:
- •27.Линзы-диафрагмы, Бипотенциальные линзы, Одиночные линзы. Магнитные линзы
- •28. Устройство электронного микроскопа. Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
- •Разрешающая способность и увеличение электронного микроскопа
- •26.Движение электрона в однородном электрическом поле. Электростатическая электронная линза
- •Электростатическая электронная линза
- •Магнитные линзы
- •9.Поверхностный потенциальный барьер для электронов в металле (Работа выхода)
- •Дуговой разряд
- •Коронный разряд
- •Искровой разряд
- •18. Тетроды и пентоды
- •25.Электронная оптика
- •14.Фотоэлектронная эмиссия из металлов, диэлектриков и полупроводников
- •15.Вторичная электронная эмиссия.Фэу
6.Статистика электронов в примесных полупроводниках: Донорный полупроводник
Получим выражение для концентрации электронов на примесном уровне Eпр, считая, что примесь одного сорта:
где
Nпр – концентрация
примесных атомов с энергией Eпр,
g – величина, связанная со степенью
вырождения уровня Eпр.
Для доноров
,
а для акцепторов g =2.
Будем рассматривать полупроводники с малой концентрацией примеси, которые при комнатной температуре являются невырожденными полупроводниками. Рассмотрим сначала низкие температуры.
Е
сли
в полупроводник введена донорная примесь
с малой энергией ионизации Eиd,
то при низких температурах число
электронов, попавших в зону проводимости
с донорных уровней, будет значительно
превышать число электронов, возбужденных
из валентной зоны. В этом случае
переходами из валентной зоны можно
пренебречь. Тогда число
электронов в зоне проводимости n
будет равно числу свободных мест на
донорных уровнях Nd+
:
Д
ля
невырожденного полупроводника для n
имеем:
а
число свободных мест на донорных уровнях
Nd+
с учетом того, что теперь Nпр=
Nd, а Епр=Еd,
равно:
Приравняв
n согласно (3) и Nd+
согласно (4), получим:
Р
ассмотрим
область очень низких
температур, когда EF–Ed
>> kT. В этом случае
единицей в знаменателе правой части
уравнения (5) можно пренебречь и тогда
(5) перепишется
откуда
При T → 0 EF → (Ec+Ed)/2, то есть уровень Ферми стремится к середине между дном зоны проводимости Ес и уровнем Ed. Заметим, что при T → 0, Nd+ → 0, как это видно из (4), то есть доноры (как это и должно быть при абсолютном нуле температуры!) не ионизированы.
Однако при дальнейшем повышении
температуры, уровень Ферми, достигнув
максимума, начинает понижаться и при
некоторой температуре T
= Ts
пересекает уровень Ed.
Но при T ≈ Ts
пользоваться уравнением (6) уже
нельзя, так как оно было получено при
условиях EF–Ed
>> kT или Nd+
<< Nd,
которые теперь не выполняются.
Действительно, из (4) следует, что при
совпадении уровня Ферми с уровнем Ed
мы имеем Nd+
= Nd/3.
В этом случае величину EF
следует определять из более общего
уравнения (5). Найдем температуру Ts
из условия: EF = Ed:
Отсюда, учитывая, что Ec
– Ed
= Eud,
получаем
7. Статистика электронов в примесных полупроводниках: Акцепторный полупроводник
Формулы для энергии Ферми и концентрации носителей в полупроводниках p-типа получают аналогично. Они имеют тот же вид, что и для донорных полупроводников, если сделать замену Nc → Nv, Eud → Eua, Ec–EF → EF–Ev. Зависимость EF(T), будет выглядеть следующим образом:
Зависимость lnp=f(1/T) совершенно аналогична кривой lnn=f(1/T) для донорного полупроводника.
Закон действующих масс
Как
для собственных, так и для примесных
невырожденных полупроводников
произведение концентраций электронов
и дырок есть постоянная величина, не
зависящая от степени легирования:
Формула
называется
законом действующих масс. Произведение
концентрации электронов и дырок в
полупроводнике не зависит от степени
его легирования (Nd или
Nа), а зависит только от
температуры. Оно равно квадрату
в собственном полупроводнике.
Из закона действующих масс следует, что в примесных полупроводниках в области примесной проводимости концентрация неосновных носителей (дырок – в донорном полупроводнике) оказывается намного меньше, чем в собственном полупроводнике. Это объясняется тем, что установление равновесной концентрации определяется не только генерацией носителей, то есть тепловым возбуждением электронов с донорных уровней в n-полупроводнике, но и их рекомбинацией. Когда в зоне проводимости появляется большое число электронов с донорных уровней, то освобожденные уровни в валентной зоне гораздо быстрее занимаются электронами, чем в собственном полупроводнике, что приводит к резкому уменьшению концентрации дырок.
Отметим, что закон действующих масс справедлив только для невырожденных полупроводников.
