
Шмариович Василий Михайлович. Реферат. Методы выращивания монокристаллов карбида кремния (SiC)
.pdfМинистерство образования и науки РФ Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение
высшего образования «Национальный исследовательский университет «МЭИ»
Институт радиотехники и электроники им. В. А. Котельникова
РЕФЕРАТ
на тему:
Методы выращивания монокристаллов карбида кремния
(SiC)
Выполнил студент 1-го курса гр. ЭР-01-23
Шмариович В. М. __________
Проверил Холодный Д. С. ____________
Москва 2024
Содержание |
|
Введение........................................................................................................... |
3 |
Глава 1. Методы выращивания монокристаллов карбида |
|
кремния............................................................................................................. |
4 |
1.1. Метод Ачесона............................................................................. |
4 |
1.2. Высокотемпературный синтез.................................................... |
7 |
1.3. Плазмодинамический (плазмохимический) метод и |
|
микроволновое спекание.................................................................... |
9 |
1.4. Метод Лели................................................................................... |
9 |
Глава 2. Метод ЛЭТИ................................................................................ |
11 |
2.1. Первые результаты..................................................................... |
11 |
2.2. Получение монокристаллов карбида кремния.................... |
12 |
2.3. Установка для выращивания объемных монокристаллов |
|
карбида кремния (SiC)...................................................................... |
13 |
2.3.1. Внутреннее устройство установки................................ |
13 |
2.3.2. Характеристики и примеры........................................... |
15 |
Заключение.................................................................................................... |
17 |
Список используемой литературы...................................................... |
18 |
Введение
Монокристаллы карбида кремния (SiC) представляют собой ключевой и важный материал, широко используемый в различных отраслях современной технологии, таких как электроника, энергетика, авиация и другие, из-за их уникальных свойств – высокая термостойкость, химическая инертность и электронные характеристики.
Процесс выращивания монокристаллов SiC является сложным и требует применения специальных технологий. Существуют различные методы выращивания монокристаллов карбида кремния: метод Ачесона, Лели, ЛЭТИ, высокотемпературный синтез, плазмохимический метод, золь-гель способ. Каждый из этих методов имеет свои особенности, позволяя получать монокристаллы SiC с определенными характеристиками. Постоянные исследования и разработки в этой области направлены на улучшение процессов выращивания монокристаллов SiC с целью расширения их применения в различных технологических сферах.
Как утверждается в сборнике [1], наиболее распространенным методом синтеза является метод сублимации. Он применяется как для получения абразивного материала, так и для выращивания монокристаллов, предназначенных для полупроводниковой электроники. Метод основан на переносе материала от горячего источника к затравке, находящейся при более низкой температуре.
Глава 1. Методы выращивания монокристаллов карбида кремния
На настоящий момент существует множество способов синтеза карбида кремния., а получение наноразмерных порошков карбида кремния возможно несколькими методами, например, такими как методы Ачесона, Лели, высокотемпературного синтеза, микроволнового спекания, Золь-гель метод, CVD. Однако сегодня существуют значительные проблемы, не позволяющие применять данные методы в промышленных масштабах и связанные, в зависимости от метода синтеза, чаще всего с высокой стоимостью прекурсоров, энергозатратностью технологий, недостаточной дисперсностью и широким распределением по размерам.
1.1.Метод Ачесона
Вучебном пособии [2] авторы пишут, что технический карбид кремния в промышленности получают по методу Ачесона. В соответствии с этим методом карбид кремния синтезируют в электрической печи с нагревательным элементом в виде графитового стержня, без изоляции камеры от атмосферы.

Рис.1. Метод Ачесона. Сверху: установка перед началом процесса синтеза. Снизу: установка после процесса синтеза: 1 – непрореагировавшая смесь; 2 – кристаллы SiC в
полостях вблизи графитового стержня;
3 – графитовый стержень с электродами; 4 – аморфный SiC
Смесью углерода (графита, кокса), кварцевого песка (SiO2) с добавлением опилок и поваренной соли обкладывают нагревательный стержень, после чего температуру в печи поднимают примерно до 2700 °С. После кратковременной выдержки температуру несколько снижают и при 2000 °С выдерживают печь в течение нескольких суток.
Общая схема процесса производства приведена на рисунке 2 [3].

Рис.2. – Технологическая схема получения порошков карбида кремния методом Ачесона
Общими недостатками такого метода, как утверждает автор работы [3], является:
–сильное загрязнение получаемого продукта, малый выход SiC;
–неконтролируемое структуро- и формообразование кристаллов;
–выброс в атмосферу огромного количества моно- и диоксида углерода;
–ручная разбраковка продуктов реакции осуществляется в условиях очень высокой запыленности рабочего пространства;
–быстрый износ элементов электропечи;
–высокая продолжительность процесса получения продукта во времени. Сегодня активно развиваются пути избавления от выявленных недостатков
процесса синтеза методом Ачесона.

1.2. Высокотемпературный синтез
Автор работы [3] считает, что высокотемпературный синтез (CS – combustion synthesis) является эффективным методом для производства широкого спектра материалов, включая порошки и чистые продукты из керамики, интерметаллидов, композитов и функционально градуированных материалов. Есть два режима высокотемпературного синтеза: самораспространяющийся высокотемпературный синтез (СВС или SHS – self-propagating hightemperature synthesis) и синтез объемного горения (VCS – volume combustion synthesis).
Рис.3. – Два режима высокотемпературного синтеза СВС и VCS
При режиме СВС (рисунок 3, а), в момент локального начала самостоятельная реакция мгновенно распространяется сквозь гетерогенную среду смеси реагентов в виде волны посредством экзотермических химических реакций, приводящих к синтезу желаемого продукта. Температура волнового фронта имеет, как правило, довольно высокие значения (2000-4000 К) [3].
Во время синтеза объемного сгорания (VCS) (рисунок 3, б), весь образец нагревается равномерно в управляемом режиме, пока реакция происходит одновременно во всем объеме. Этот режим синтеза больше подходит для слабо
экзотермических реакций, которые требуют подогрева перед зажиганием, и иногда его называют режимом теплового взрыва [3].
Также, существует множество разновидностей этого метода, которые решают проблемы, например, с реакционной способностью. Так зарубежные авторы описывают оптимизацию предварительного нагрева реактивной смеси, а также предлагают использовать электрический ток для подогрева. Также существует большая проблема с опасностью возгорания, которую тоже стараются решить.
Таким образом, можно выделить следующие преимущества СВС:
–короткое время синтеза (порядка нескольких минут);
–малые потери энергии (внутренняя химическая энергия системы преимущественно расходуется для производства продукта);
–простота технологического оборудования; - возможность синтеза продукта высокой чистоты;
–возможность получения продукта наноразмерной дисперсности.
В работе [3] делается вывод, что соответствие состава и структуры получаемого продукта заданным значения может быть достигнуто путем рационального подбора пропорций компонентов и режима синтеза. Но чаще всего продукт получается грубодисперсным, а значит не имеет преимуществ перед смесью, которая синтезирована традиционными методами.
Кроме того, для метода СВС чаще всего используется более дорогое сырье, в системе Si-C нелегко провести независимый процесс СВС, и необходимо повышать реакционную способность прекурсоров различными способами, а также требуется дополнительная энергия.
1.3. Плазмодинамический (плазмохимический) метод и микроволновое спекание
Как утверждается в работе [3], для данного метода используется плазма низкой температуры (4000 – 10000 К) и соответствующего фазового состава.
При высоких температурах плазмы все исходные материалы переходят в газообразное состояние ионизации. Присутствие ионов приводит к более высокой скорости взаимодействия. На следующем этапе в результате процесса тушения выделяются продукты взаимодействия. Изменяя место и скорость закалки, можно получить порошок с заданным составом, формой и размером частиц [4].
Основным недостатком химического синтеза в плазме, как утверждается в работе [3], является широкое распределение частиц по размерам (от 5 нм до 5000 нм), как следствие, наличие довольно крупных (до 1-5микрон) частиц, то есть низкая селективность процесса и высокое содержание примесей в порошке. Особенно это заметно, когда используются дуговые плазменные реакторы, из-за загрязнения продуктами эрозии электродов.
1.4. Метод Лели
Для получения более чистого продукта был разработан новый метод синтеза в 1955 году Яном Лели. Этот метод позволяет получать изделия в виде монокристаллов с неправильными шестиугольными чешуйками. Впервые метод Лели или PVT был реализован в атмосфере аргона при температуре окружающей среды около 2500 °С в графитовом контейнере, что привело к ограничению размера кристаллов карбида кремния. На основании SiC кристалла, синтезированного этим методом, стало возможным изучить его основные фундаментальные свойства, и к тому времени стало ясно, что данный метод не подходит для серийного производства, особенно электронных устройств.

В учебном пособии [2] приводится описание метода Лели. Метод Лели – это процесс получения чистого карбида кремния из технических с использованием процесса сублимации и конденсации. Полый цилиндр, изготовленный из технического карбида кремния, помещается в графитовый тигель и отделяется от внешней поверхности цилиндра, где максимальная температура составляет 2500 ° C. После нагревания карбид сублимируется и оседает на внутренней поверхности, где температура ниже. Этот метод позволяет выращивать как очень чистые (полуизолирующие) кристаллы, так и легированные кристаллы n- и p-типа (общее содержание примесей можно снизить до 10, введя лигатуры в газообразную атмосферу.10^18...10^19 см^3).
Рис.4. Метод Лели. Слева – оригинальный ростовой тигель, справа – тигель с внутренним пористым графитовым цилиндром: 1 – отложения SiC; 2 – графитовая ячейка; 3 –
монокристаллы SiC; 4 – исходный спеченный порошок SiC; 5 – углеродный остаток после процесса роста; 6 – высокопористый графитовый цилиндр
С открытием ценных свойств карбида кремния в качестве полупроводника исследование оптимального метода выращивания кристаллического SiC стало актуальной темой в материаловедении. Так появился метод ЛЭТИ.