Скачиваний:
2
Добавлен:
01.07.2024
Размер:
787.97 Кб
Скачать

5.3. Концентрация носителей заряда в сильнолегированных слоях

При высоких концентрациях (С > 1019 см–3) легирующие примеси в кремнии (B, P, As, Sb) склонны образовывать кластеры, а при определенных условиях и выделения. В результате концентрация носителей заряда в сильнолегированных слоях оказывается меньше концентрации легирующей примеси. Связь между концентрацией примеси С и концентрацией носителей заряда (электронов n или дырок p) для каждой примеси описывается своим соотношением. Для бора в кремнии соотношение имеет вид [8]

(5.5)

где см–3; k = 8.62 · 10–5 эВ/° – постоянная Больцмана; Т – абсолютная температура.

Для фосфора в кремнии связь описывается многочленом [10]

(5.6)

где N1 = 2.0 · 1021 см–3, N2 = 4.5 · 1020 см–3, N3 = 3.4 · 1020 см–3, N4 = 3.2 × × 1020 см–3, N5 = 3.0 · 1020 см–3.

Для мышьяка в кремнии соотношение имеет вид [11]

(5.7)

где см–3.

Для сурьмы в кремнии пользуются соотношением [12]

n = Cs при СCs и n = С при ni < С < Сs, (5.8)

где Сs – предельная растворимость сурьмы в кремнии при температуре диффузии или отжига (см. прил. 3); ni – собственная концентрация носителей заряда в кремнии при той же температуре.

При концентрациях примеси вблизи собственной концентрации носителей во всех случаях концентрация носителей заряда определяется соотношением:

(5.9)

5.4. Термическое окисление

Термическое окисление описывается следующим дифференциальным уравнением (см., например, [6]):

(5.10)

где y – толщина оксида; t – время окисления; Kl и Kp – константы скоростей параболического и линейного окисления соответственно. В технологии ИМС газ-окислитель обычно разбавляют неактивным газом-носителем (Ar, N2), а также увлажняют сухой кислород парами воды или соляной кислоты. В этом случае константы линейного и параболического окисления определяются относительными парциальными давлениями окислителей O2 (pсух) и H2O (pпар):

Параметры температурной зависимости констант скорости окисления кремния в сухом кислороде и водяном паре приведены в прил. 4.

При низких уровнях легирования (С < 1019 см–3) эти константы не зависят от концентрации примеси и уравнение (5.10) при начальном условии y = y0 при t = t0 сводится к квадратному уравнению

имеющему при y0 = 0, t0 = 0 известное решение

(5.11)

Выражение (5.11) описывает линейно-параболический закон термического окисления (линейный при параболический при ).

При высоких уровнях легирования (С > 1019 см–3) скорость окисления возрастает. Согласно модели [13] это происходит вследствие увеличения полной относительной концентрации вакансий (Cvt), связанной с константой скорости линейного окисления соотношением

где Kli – константа скорости линейного окисления слаболегированного материала, – подстроечный параметр; (Cvi и Cv – полные концентрации вакансий в собственном и несобственном полупроводниках, соответственно). Полная концентрация вакансий в собственном полупроводнике равна сумме концентраций нейтральных V0, положительных V+, отрицательных V и дважды отрицательно заряженных V= вакансий

Полная концентрация вакансий в несобственном полупроводнике зависит от концентрации носителей заряда n и p следующим образом:

(5.12)

Концентрации заряженных вакансий в собственном полупроводнике определяются энергетическими уровнями ( ) соответствующих вакансий в запрещенной зоне:

где Ev и Ec – положения потолка валентной зоны и дна зоны проводимости; Еfi – уровень Ферми в собственном полупроводнике. В кремнии эВ, эВ, эВ [14]. Ширина запрещенной зоны и собственная концентрация носителей ni в кремнии являются функциями температуры T [6], [14]:

C увеличением уровня легирования кремния бором возрастает также и коэффициент параболического окисления вследствие увеличения коэффициента диффузии окислителя в легированном оксиде [14]:

где Kпi – константа параболического окисления слаболегированного материала; С – концентрация примеси на границе раздела Si–SiO2; r – подстроечный параметр:

При термическом окислении неоднородно легированного слоя константы окисления становятся функциями глубины прокисления кремния x = ay (a = 0.45), а через глубину и функцией времени окисления. Дифференциальное уравнение (5.10) становится нелинейным вида

его необходимо решать численными методами.

Расчет концентраций носителей заряда n и p в (5.12) проводится по концентрации примеси в легированных слоях с использованием выражений (5.5)–(5.9).

Соседние файлы в папке Александров