Скачиваний:
0
Добавлен:
21.06.2024
Размер:
1.31 Mб
Скачать

ФОТОЛЮМИНЕСЦЕНЦИЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ТВЁРДЫХ РАСТВОРОВ

Целью работы является исследование фотолюминесценции и определе-

ние компонентного состава материалов на основе полупроводниковых твер-

дых растворов.

2.1 Понятие фотолюминесценции

Люминесценция – это излучение, избыточное над тепловым при данной температуре и обладающее длительностью, значительно превышающей пе-

риод световых колебаний. Люминесценция возникает вследствие квантовых переходов из верхнего возбужденного энергетического состояния в нижнее с испусканием электромагнитного излучения, т. е. определяется процессами, об-

ратными поглощению света. Для наблюдения люминесценции вещество прин-

ципиально необходимо вывести из состояния термодинамического равнове-

сия, т. е. возбудить.

Для большинства твердых тел люминесцентные свойства выражены очень слабо. Легирование вещества специальными примесями с целью повы-

шения эффективности люминесценции называется активацией, а сами при-

меси активаторами люминесценции. Активированные диэлектрики, обладаю-

щие высокой эффективностью люминесценции в видимой области спектра,

называются кристаллофосфорами или люминофорами. Элементарными про-

цессами, обусловливающими люминесценцию в таких веществах, обычно яв-

ляются внутрицентровые оптические переходы, т. е. электронные переходы между энергетическими уровнями, принадлежащими иону (или атому) акти-

ватора. Такую люминесценцию иногда называют мономолекулярной. Люмино-

форы активно используются в лампах и светодиодах с переизлучением, в

первую очередь в белых светодиодах.

Существует несколько видов люминесценции в зависимости от способа возбуждения (фотолюминесценция, катодолюминесценция и др.) В большин-

стве полупроводниковых излучателей используется электролюминесценция

1

люминесценция, возбуждаемая внешним электрическим полем. Наиболее эф-

фективным методом электрического возбуждения является инжекция неос-

новных носителей заряда через р–n-переход при приложении к нему прямого напряжения U. Такая люминесценция называется инжекционной.

По способу возбуждения атома или молекулы выделяют следующие виды люминесценции:

1. Фотолюминесценция – возбуждение происходит в результате погло-

щения электромагнитной энергии (обычно видимого или ультрафиолетового диапазонов).

2. Катодолюминесценция – возбуждение производится электронным ударом по атому или молекуле вещества (наблюдается в кинескопах, элек-

тронно-лучевых трубках и т.п..).

3. Электролюминесценция – возбуждение атомов и молекул произво-

дится электрическим полем.

4. Рентгенолюминесценция – возбуждение производится рентгенов-

скими лучами.

5. Хемилюминесценция – возбуждение происходит в результате хими-

ческой реакции, по схеме: А + В → АВ* → АВ + hν (квант люминесценции). 6. Биолюминесценция - возбуждение молекул происходит в результате

биохимических реакций, происходящих в живом организме.

Существуют и другие разновидности люминесценции по способу воз-

буждения. Заметим, что благодаря люминесценции различные виды энергии преобразуются в электромагнитное излучение, часто видимого диапазона спектра и это широко используется на практике (экраны кинескопов, рентге-

нолюминесцентные экраны, электронно-оптические преобразователи и др.).

По длительности все случаи люминесценции делят на флуоресценцию – свечение вещества, прекращающееся практически одновременно с прекраще-

нием возбуждения, и фосфоресценцию – свечение, продолжающееся значи-

тельное время после прекращения возбуждения. Однако следует принять во внимание, что определения вышеуказанных процессов иногда связывают не с

2

длительностью, а с природой свечения. Тогда флуоресценция – это самостоя-

тельное свечение молекул, а фосфоресценция – рекомбинационное свечение кристаллов.

Возможные энергетические состояния молекулы можно представить в виде схемы энергетических уровней. На рисунке 2.1 изображена такая схема.

Каждый электронный уровень расщепляется на серию колебательных, а каж-

дый колебательный – на серию тесно расположенных вращательных уровней

(на рисунке 2.1 изображены вращательные уровни лишь у низшего колеба-

тельного уровня основного электронного состояния).

Рисунок 2.1 – Переходы, при которых возникают спектры поглощения и спектры испускания флуоресценции

При комнатной температуре большинство молекул находится на самом нижнем колебательном уровне основного электронного состояния (на рисунке

3

2.1 уровень 0 состояния S0). Переходы с поглощением света – это переходы с указанного уровня на вышележащие (на рисунке 2.1 обозначены буквами а и б). Вращательные уровни расположены столь близко друг к другу, что спек-

трально не различимы, потому, можно иметь в виду, что каждая линия коле-

бательного уровня – есть набор вращательных.

Флуоресценция происходит при переходе с уровня 0 состояния S1 на лю-

бой колебательно-вращательный уровень основного состояния. На рисунке 2.1

такие переходы обозначены буквой c. Такие переходы являются возвращени-

ями электрона в невозбуждённое состояние и сопровождаются быстрыми из-

лучениями фотонов. Эмиссионные характеристики флуоресценции приблизи-

тельно 108 с-1, типичное время жизни флуоресценции – 10 нс.

В отличие от флуоресцентного, фосфоресцентное вещество излучает по-

глощённую энергию не сразу. Большие времена свечения связывают с «запре-

щёнными» энергетическими переходами в веществе. Испускание поглощён-

ного излучения проходит с более низкой интенсивностью, и в течение дли-

тельного времени (до нескольких часов). Как было отмечено выше, фосфорес-

ценция связана с рекомбинационным свечением кристаллов. Такое свечение возникает при воссоединении двух частей центра свечения, которые были от-

делены друг от друга при возбуждении. Таким способом рекомбинируют элек-

трон и ион, образовавшиеся в результате ионизации, или две части диссоции-

рованной молекулы, разъединённые при возбуждении. Энергия, которая вы-

деляется при таком воссоединении, идёт на возбуждение частицы люмино-

фора, что приводит к высвечиванию возбуждённой частицы – молекулы или иона. Такое возбуждение может быть либо самостоятельным, либо вынужден-

ным; при этом любой из указанных типов высвечивания возникает в зависи-

мости от состояния, в котором частица оказалась в результате возбуждения: в

обычном или метастабильном. Характерная особенность рекомбинационного свечения состоит в том, что две частицы, полученные в результате возбужде-

ния, могут вернуться не друг к другу, а к другим частицам, образовавшимся в другом акте возбуждения.

4

Фотолюминесценция – это один из видов люминесценции. Различие за-

ключается лишь в виде возбуждения, из-за которого происходит процесс лю-

минесценции. В случае с фотолюминесценцией возбуждающим фактором яв-

ляется оптическое излучение (инфракрасный, видимый, ультрафиолетовый свет).

2.1.1 Применение фотолюминесценции

Люминесцентные методы включают в себя исследования с использова-

нием флуоресценции (флуориметрия) и фосфоресценции (фосфориметрия).

Наиболее широко люминесцентные измерения используются как методы ана-

лиза и контроля за протеканием химических и биохимических реакций, а

также для кинетических исследований быстрых реакций электронно-возбуж-

денных молекул.

Применение люминесценции для аналитических целей включает широ-

кую область использования ее для идентификации веществ, для обнаружения малых концентраций веществ, для контроля изменений, претерпеваемых ве-

ществом, для определения степени чистоты веществ. Широко применяются измерения люминесценции при изучении кинетики обычных химических ре-

акций. Высокая чувствительность метода позволяет фиксировать малую сте-

пень превращения веществ, а иногда по люминесценции промежуточных со-

единений становится возможным установить механизм химической реакции.

2.1.2 Полупроводниковые твёрдые растворы

Большое значение для оптической электроники и лазерной техники имеют материалы, свойства которых можно плавно изменять в заданных пре-

делах. К таким материалам относятся твёрдые растворы.

Твёрдые растворы – фазы переменного состава, в которых атомы раз-

личных элементов расположены в общей кристаллической решётке. Могут быть неупорядоченными (с хаотическим расположением атомов), частично или полностью упорядоченными. Экспериментально упорядоченность опре-

деляют, главным образом, рентгеновским структурным анализом. Способ-

ность образовывать твёрдые растворы свойственна всем кристаллическим

5

твёрдым телам. В большинстве случаев она ограничена узкими пределами концентраций, но известны системы с непрерывным рядом твёрдых растворов

(например, Cu-Au, Ti-Zr, GaAs-GaP).

Твёрдые растворы делятся на растворы замещения, внедрения и вычита-

ния. Идеальным твёрдым раствором замещения считается кристалл с идеаль-

ной решёткой, по соответствующим узлам которой статистически независимо распределены различные атомы составляющих твёрдый раствор компонен-

том. Непрерывный ряд твёрдых растворов замещения образуется, как правило,

между соединениями, постоянные решёток которого различаются не более чем на 7-8%. Чем меньше разница ∆a/a, тем ближе твёрдый раствор к идеаль-

ному. Как правило, используют изовалентные твёрдые растворы замещения, в

которых замещаемый и замещающий атомы находятся в одном столбце Пери-

одической таблицы элементов, а образующие твёрдый раствор компоненты принадлежат к одной группе соединений. Твёрдые растворы между различ-

ными группами материалов, например АIIIBV – AIIBVI, называются гетерова-

лентными. Период идентичности идеального твёрдого раствора замещения

AxB1-x образованного соединениями А и В, линейно изменяется от aA к aB (закон Вегарда): a 1−= А + (1 - ) В. Каждый из составляющих его атомов располагается в своём узле решётки. Поэтому в идеальном твёрдом растворе трансляционная симметрия в геометрии решётки сохраняется.

В системах, в которых принимают участие преимущественно металлы,

твёрдые растворы образуются лишь теми элементами, которые, во-первых,

имеют один и тот же тип кристаллической решётки, во-вторых, имеют близкие по размерам атомные радиусы (отличающиеся не более чем на 15 %) и, в-тре-

тьих, находятся не слишком далеко друг от друга в электрохимическом ряду напряжений. В твёрдых растворах на основе полупроводников и диэлектри-

ков, благодаря более «рыхлым» кристаллическим решёткам образование твёр-

дых растворов замещения возможно и при большем различии атомных радиу-

сов.

6

При более существенном различии компонентов по размерам или элек-

тронной структуре, возможно внедрение атомов одного элемента в междоуз-

лия решётки, образованной другим элементом. Подобные твёрдые растворы часто образуются при растворении неметаллов (B, H2, O2, N2, C) в металлах.

Для нестехиометрических соединений характерны твёрдые растворы вычита-

ния. Они возникают за счёт появления вакантных узлов в кристаллической ре-

шётке, которые образуются при растворении одного из компонентов в хими-

ческом соединении.

Возможность изменения состава полупроводниковых твёрдых раство-

ров привела к повсеместному их использованию. Изменение содержания од-

ного из компонентов в растворе позволяет плавно и довольно в широких пре-

делах регулировать основные параметры материала, такие как параметры ре-

шётки, ширину запрещённой зоны, показатель преломления, диэлектрическую проницаемость, теплопроводность и т. п. Эти параметры для элементарных полупроводников являются фиксированными. Это позволяет получать мате-

риал с точно заданным набором основных характеристик, что особенно важно при создании приборов оптоэлектроники, интегральной оптики, приборов на основе гетеропереходов и варизонных структур. Спрос на материалы с воз-

можностью влияния на указанные параметры привёл к повсеместному иссле-

дованию различных твёрдых растворов, их производству и применению.

2.1.3 Характеристики твёрдых растворов AIIIBV

Для оптоэлектроники большое значение имеют твёрдые растворы полу-

проводников группы AIIIBV. Такие растворы образуются при замещении как в анионной, так и в катионной подрешётках, либо в обеих одновременно. Для образования трёхкомпонентного твёрдого раствора замещение происходит только в одной из двух подрешёток. Из трёхкомпонентных растворов наиболее близки к идеальным системы типа GaAs-AlAs, поскольку разница между ко-

валентными радиусами атомов Al и Ga не превышает 0,5%, и они близки по электроотрицательности.

7

Параметры зонной структуры плавно изменяются с изменением состава твёрдого раствора. Так как валентная зона в полупроводниках AIIIBV имеет схожую структуру, то основные изменения в энергетическом спектре их твёр-

дых растворов определяются различием в структуре зон составляющих их компонентов. Основное значение имеют ширины различных энергетических зазоров Г, , . Характер их изменения зависит от состава твёрдого рас-

твора. В зависимости от значения того или иного минимума зоны проводимо-

сти, определяется минимальная ширина запрещенной зоны и делается вывод о характере зонной структуры. Зависимость их отклонения от линейности в данной точке зоны Бриллюэна может быть представлена квадратичной функ-

цией состава x в виде:

 

( ) = (0) +

[

(1) − (0)] ∙ − ∙ ∙ (1 − ) ≡

(2.1)

 

 

 

 

 

 

≡ ∙ (1)

+ (1 − ) ∙ (0) − ∙ ∙ (1 − )

 

 

 

 

 

 

Коэффициент нелинейности c положительный и тем больше, чем больше отличаются по своим свойствам атомы замещаемых и замещающих компонент. Значения коэффициента нелинейности с и некоторые параметры наиболее часто используемых для создания гетеропереходов материалов при-

ведены в таблицах 2.1, 2.2 для различных твёрдых растворов AIIIBV.

Таблица 2.1 – Параметры нелинейности для некоторых твёрдых растворов на основе соединений AIIIBV.

Твердый раствор

Г

 

 

 

 

 

(Г)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

AlGaAs

-0,127+1,310x

0,55

0

0

-

 

 

 

 

 

 

 

 

GaInAs

0,477

1,4

0,33

 

0,15

 

0,0091

AlInAs

0,70

0

-

0,15

0,049

 

 

 

 

 

 

GaAsP

0,19

0,24

0,16

 

-

 

-

GaInP

0,65

0,20

1,03

0

0,051

 

 

 

 

 

 

AlInP

-0,48

0,38

-

 

-0,19

 

0,22

AlGaP

0

0,13

-

-

-

 

 

 

 

 

 

AlAsP

0,22

0,22

0,22

 

-

 

-

InAsP

0,19

0,24

0,16

-

-

 

 

 

 

 

 

GaInSb

0,415

0,33

0,4

 

0,1

 

0,0092

AlInSb

0,43

-

-

0,25

-

 

 

 

 

 

 

AlGaSb

-0,044+1,22x

0

0

 

0,3

 

-

 

 

8

 

 

 

 

 

 

Продолжение таблицы 2.1

GaAsSb

1,43

1,2

1,2

0,6

-

 

 

 

 

 

 

InAsSb

0,67

0,6

0,6

1,2

0,035

AlAsSb

0,8

0,28

0,28

0,15

-

 

 

 

 

 

 

GaPSb

2,7

2,7

2,7

-

-

AlPSb

2,7

2,7

2,7

-

-

 

 

 

 

 

 

InPSb

1,9

1,9

1,9

0,75

-

 

 

 

 

 

 

Таблица 2.2 – Некоторые параметры наиболее часто используемых для созда-

ния гетеропереходов материалов

 

Параметр

Si

Ge

GaAs

AlAs

InAs

GaP

InP

GaSb

AlSb

InSb

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

a, нм

0,5431

0,5658

0,5653

0,5660

0,6058

0,5451

0,5869

0,6096

0,6136

0,6479

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ħ , мэВ

 

64

37

36

50

30

51

43

29

42

24

 

(300 К), эВ

1,12

0,66

1,42

2,15

0,35

2,27

1,34

0,75

1,62

0,18

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(0 К), эВ

 

1,17

0,74

1,52

2,23

0,42

2,35

1,42

0,81

1,69

0,23

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

с( )

X

L

Г

X

Г

X

Г

Г

X

Г

 

Г, эВ

 

3,5

0,80

-

3,02

-

2,78

-

-

2,30

-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

∆, эВ

0,044

0,29

0,34

0,28

0,38

0,08

0,11

0,75

0,67

0,98

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

, эВ

 

4,01

4,13

4,07

3,51

4,92

4,3

4,38

4,06

3,65

4,59

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,54

0,28

0,5

0,5

0,41

0,67

0,6

0,28

0,4

0,4

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,15

0,044

0,082

0,15

0,026

0,17

0,12

0,050

0,11

0,02

 

Г

-

-

0,067

0,150

0,022

-

0,077

0,04

-

0,014

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0,92

1,64

1,3

1,1

-

4,8

-

-

1,0

-

 

 

0,19

0,082

0,23

0,19

-

0,25

-

-

0,26

-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

11,9

16,2

13,2

10,1

15,1

11,1

12,6

15,7

12,0

16,8

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

, м2В−1с−1

0,15

0,39

0,92

-

3,3

0,02

0,5

0,77

0,02

8

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

, м2В−1с−1

 

0,045

0,19

0,04

-

0,05

0,012

0,01

0,1

0,04

0,13

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Если при изменении х не происходит смены абсолютного минимума зоны проводимости, то характер зонной структуры не меняется. Например,

твердые растворы GaxIn1-xAs и InAsxSb1-x во всём диапазоне изменения 0≤х≤1

обладают прямой структурой энергетических зон. Если при изменении состава положение минимума зоны проводимости меняется, то в зависимости ( )

наблюдается излом. На рисунке 2.2 представлены изменения энергетических зазоров в трёхкомпонентных твёрдых растворах, часто применяемых в каче-

стве основных рабочих материалов оптоэлектронных устройств.

9

Рисунок 2.2 – Изменение энергетических зазоров в трёхкомпонентных твёр-

дых растворах полупроводников группы AIIIBV

Для точного определения ширины запрещённой зоны и типа энергети-

ческой структуры в твёрдом растворе с известным значением x необходимо провести сравнение зависимостей энергетических зазоров от состава. В систе-

мах с разными структурами зон (когда один компонент прямозонный, а другой непрямозонный) существующий переходный состав – это такое значение кон-

центрации одного из компонентов, когда происходит переход из прямой структуры зон в непрямую.

Особенность зонной структуры соединения GaAs1-xPx заключается в из-

менении положений минимумов, которые расположены в направлениях (000)

и (100), зоны проводимости относительно друг друга с изменением состава. В GaAs, чья ширина запрещённой зоны 1,38 эВ при 300 К, два минимума разде-

лены энергетическим зазором 0,36 эВ, и в направлении (000) минимум зоны проводимости наиболее низкий (рисунок 2.3).

10