Реферат / Реферат_0207_МаликовБИ
.pdf3.Область применения карбида кремния
1.Применение в электронике:
Карбид кремния был первым коммерчески важным полупроводниковым материалом. кристаллический радиоактивный детекторный диод из
«карборунда» (синтетического карбида кремния) был запатентован Генри Харрисоном Чейзом Данвуди в 1906 году. Он нашел широкое применение в корабельных приемниках.
Полевые транзисторы на основе карбида кремния раскрывают новые применения при более высокой мощности и напряжении. В качестве прямой замены IGBT-транзисторов и кремниевых MOSFET-транзисторов, полевые транзисторы из карбида кремния демонстрируют работу с низким потерями при высоких температурах, низкое сопротивление в открытом состоянии на всём диапазоне температур и низкие потери при коммутации. MOSFET-
транзисторы из карбида кремния, имея более высокие напряжения пробоя,
лучшие показатели охлаждения и устойчивости к температуре, благодаря своим характеристикам могут изготавливаться физически компактными.
IGBT-транзисторы (биполярные транзисторы с изолированным затвором)
используются в первую очередь при коммутируемых напряжениях выше 600
В, но материалы на основе карбида кремния позволяют использовать
MOSFET-транзисторы при напряжениях до 1700 В и более высоких токах.
Также MOSFET-транзисторы на основе карбида кремния обладают значительно меньшими потерями при коммутации по сравнению с IGBT-
транзисторами и работают при сравнительно более высоких частотах.
Явление электролюминесценции было открыто в 1907 году с использованием карбида кремния, и первые коммерческие светодиоды были основаны на SiC. Желтые светодиоды, изготовленные из 3C-SiC,
производились в Советском Союзе в 1970-х годах, а синие светодиоды (6H-
SiC) во всем мире в 1980-х годах.
11
Производство светодиодов вскоре прекратилось, когда появился другой материал, нитрид галлия показал в 10–100 раз более яркое свечение. Эта разница с непрямой запрещенной зоной SiC, тогда как GaN имеет прямую запрещенную зону, обеспечивающее световое излучение. Тем не менее, SiC
по-прежнему является одним из важных компонентов светодиодов – это популярная подложка для выращивания устройств на основе GaN, а также служит теплораспределителем в мощных светодиодах.
2.Использование в производстве:
Всовременной гранильной мастерской карбид кремния является популярным абразивом из-за его прочности и низкой стоимости. В
обрабатывающей промышленности из-за его высокой твёрдости он
используется |
в абразивной |
обработке в |
таких |
процессах |
как шлифование, хонингование, водоструйная |
резка и пескоструйная |
|||
обработка. |
Частицы карбида |
кремния ламинируются на |
бумагу для |
|
создания шлифовальной шкурки. |
|
|
|
|
Суспензии мелкодисперсных порошков карбида кремния в масле,
глицерине или этиленгликоле используются в процессе проволочной резки полупроводниковых монокристаллов на пластины.
3. Карбид кремния в ядерной энергетике:
Благодаря высокой устойчивости к воздействию внешних неблагоприятных факторов, включая природные, высокой прочности и твёрдости, низкому коэффициенту теплового расширения и низкому коэффициенту диффузии примесей и продуктов деления реакционноспечённый карбид кремния нашёл применение в ядерной энергетике.
Карбид кремния, наряду с другими материалами, используется в качестве слоя из триструктурально-изотропного покрытия для элементов
12
ядерного топлива в высокотемпературных реакторах, в том числе в газоохлаждаемых реакторах.
Из карбида кремния изготавливаются пеналы для длительного хранения и захоронения ядерных отходов.
4. Производство графена:
SiC является идеальной подложкой для выращивания графена, потому что он имеет аналогичную кристаллическую структуру и постоянную решетки. Это позволяет графену расти эпитаксиально на SiC, что приводит к высококачественному графену с небольшим количеством дефектов.
5. Точная оптика:
Жесткость, высокая теплопроводность и низкий коэффициент теплового расширения делают карбид кремния термостабильным материалом в широком диапазоне рабочих температур. Это обуславливает широкое применение карбидкремниевых матриц для изготовления зеркальных элементов в различных оптических системах, например, в астрономических телескопах или в системах передачи энергии с использованием лазерного излучения. Развитие технологий (химическое осаждение паров) позволяет создавать диски из поликристаллического карбида кремния до 3,5 метров в диаметре. Заготовки зеркал могут формироваться различными методами,
включая прессование чистого мелкого порошка карбида кремния под высоким давлением.
13
ЗАКЛЮЧЕНИЕ
Таким образом, карбид кремния - один из тех материалов, которые имеют большие перспективы в будущем и большую применимость в настоящем.
Из довольно значимых устройств на основе карбида кремния также стоит упомянуть:
·туннельные диоды;
·высоковольтные оптические переключатели;
·светодиоды с яркостью до 10000 Кд/м2, работающие при температуре от 77
до 600K;
· разнообразные датчики (газов, органических веществ, радиации;
температуры, давления), работающие в самых неблагоприятных условиях;
·маломощные транзисторы и стабилитроны для работы в неблагоприятных условиях;
·ячейки оперативной памяти и логические микросхемы;
·микроэлектромеханические устройства (МЭМС) и переключатели для СВЧ-
антенн.
Рассматривая современный уровень развития SiC-электроники, можно сказать, что это направление уже доказало свою эффективность и приносит плоды. В будущем же можно ожидать более развитую технологию производства и, как следствие, значительно улучшенные электрофизические параметры.
14
