КР_ПУТО_Синяк
.pdf
Таблица 3.5 – Связь параметров микросхемы и требуемого класса чистоты
Год |
1987 |
1993 |
1998 |
2000 |
2006 |
2012 |
|
|
|||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
Информационная емкость |
|
|
|
|
|
|
|
(СБИС ДОЗУ), мегабит (М), |
1-4М |
16-64М |
256М |
1Г |
16Г |
64Г |
|
гигабит (Г) |
|
|
|
|
|
|
|
Минимальный топологический |
0,8-1,0 |
0,35-0,6 |
0,25 |
0,15 |
0,10 |
0,032 |
|
размер, мкм |
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
Требуемый класс чистоты |
4 |
3-4 |
2 |
1 |
< 1 |
< 1 |
|
помещений |
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
Прогресс в развитии функциональных требований к микроэлектронике, исключительно высокий масштаб инвестиций предъявляют строгие требования к уровню качества. Электроника становится самой крупной отраслью мировой промышленности. На микроэлектронику приходится наибольшая доля отвсех строящихся в мире чистых помещений, на строительство и эксплуатацию которых расходуются миллионы долларов в год.
21
СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТИОЧНИКОВ
[1].Wikipedia [Электронный ресурс]. – Режим доступа : https://en.wikipedia.org/wiki/Molecular-beam_epitaxy
[2].Хелпикс [Электронный ресурс]. – Режим доступа : https://helpiks.org/6-
66715.html
[3].Энциклопедия m-protect.ru [Электронный ресурс]. – Режим доступа : https://m-protect.ru/wiki/index.php/Времяпролетный_масс-спектрометр
[4].Спектромасс [Электронный ресурс]. – Режим доступа : https://www.spectromass.ru/novosti/preimushhestvo-vremyaprolyotnyh- mass-spektrometrov/
[5].Берлин Е.В., Двинин С.А., Сейдман Л.А. Вакуумная технология и оборудование для нанесения и травления тонких пленок.- М.: Техносфера, 2007. – 176 с.
[6].Королев Б. И. и др. Основы вакуумной техники: Учеб. для учащихся техникумов. – М.: Энергия, 1975. – 416 с.
[7].Вакуумное оборудование [Электронный ресурс]. – Режим доступа : https://vacym.com/lovushki-vakuumnye/
[8].Вакуумная техника: Справочник / Е. С. Фролов, В.Е.Микайчев, А.Т.Александрова и др.; под общ. ред. Е. С. Фролова, В. Е. Минайчева.
– М.: Машиностроение, 1985. –360 с.
22