Список использованных источников
[1] Королев
М.А. Технология, конструкции и методы
моделирования кремниевых интегральных
микросхем : в 2 ч. /М.А.Королев, Т.Ю. Крупкина,
М.А. Ревелева; под общей ред. Ю.А. Чаплыгина.
– М.: БИНОМ. Лаборатория знаний, 2007.
[2] Лапшинов
Б.А. Л 24 Технология литографических
процессов. Учебное пособие – Московский
государственный институт электроники
и математики. М., 2011. – 95 с.
[3] Климатическая
камера: устройство и виды климатических
камер для испытаний [Электронный ресурс]
/ Mvdrb.ru – Промышленный вакуум и оборудовани
– Москва, 2024. Режим доступа:
https://mvdrb.ru/klimaticheskaya-kamera-ustrojstvo-i-vi
Дата доступа: 10.03.2024.
[4] ГОСТ
16962-71. Государственный стандарт Союза
ССР. Изделия электронной техники и
электротехники. Механические и
климатические воздействия. Требования
и методы испытаний (утв. и введен в
действие Постановлением Госстандарта
СССР от 30.03.1986 № 2942) (ред. от 01.01.1990) //
Государственный комитет СССР по
стандартам. - М.: ИПК Издательство
стандартов, 1987.
[5] Берлин
Е., Двинин С., Сейдман Л. / Вакуумная
технология, М.: Техносфера, 2007.
[6] Agarval
R., Samson S. and Bhansali B. / Fabrication of vertical mirrors using
plasma etch and KOH:IPA polishing – Journal of micromechanics and
microengineering, 2007, N 17, p. 25-35
