книги / Технологическое проектирование микросхем СВЧ
..pdfГерметичность корпуса, оцениваемая но величине натека ния, непостоянна. По мере эксплуатации МЭИ СВЧ происхо дит ухудшение герметичных свойств, в результате натекание воздуха увеличивается. Так, при испытаниях корпусов, со держащих металлостеклянные спаи, величина натекания уве личилась с 7,5 • 10-12 до 1 10-11 м3 • Па/с для каждого^цая (объем корпуса 25 х 50, 8 X 12 мм; условия испытаний: 10 тем пературных циклов от - 65 до +125 °С; удары с ускорением 5000 д).
В некоторых случаях толстопленочные резисторы нахо дятся в газовых средах. Особенно чувствительны серебряно палладиевые резисторы к водороду. Причинами его появле ния в герметизированных МЭИ СВЧ являются “загрязнение” газообразного азота, которым заполняют хорпуса МЭИ СВЧ; а также накопление водорода в замкнутых объемах за счет выделения его из органических веществ, используемых для монтажа ЭРК или защиты пленочных элементов (например, клей ВК9-1 и УР-231, эмаль АС-95, шпатлевка ЭП-00-10 и др.). При взаимодействии серебряно-палладиевых резисто ров с газовой смесью, содержащей водород, происходит умень шение электросопротивления резисторов, при этом скорость уменьшения сопротивления зависит от концентрации водоро да. Так, в атмосфере чистого водорода уменьшение электро сопротивления на 20 % произошло за 12 мин; при уменьшении концентрации водорода скорость уменьшения электросопроти вления серебряно-палладиевых резисторов и величины этих изменений снижаются.
Зависимость скорости изменения электросопротивлений серебряно-палладиевых резисторов от концентрации водоро да приведена на рис. 9.18. Следует отметить характер скоро сти изменения электросопротивления: скорость первоначаль но увеличивается, а затем начинает уменьшаться. Такой ха рактер изменения скорости позволяет сделать предположение о том, что процесс изменения электросопротивления связан с
Рис. 9.18. Зависимость скорости изменения электросопротивления серебряно-палладие вых резисторов VR о т времени г взаимодей
ствия с водородом при его содержании: 100 (1), 20 (2), 100 (3) и 1 Ц) %
диффузией водорода в структуру серебро-палладий и обрат ной диффузией восстановленных атомов токопроводящей фазы к поверхности проводника.
Помимо газовых “загрязнений” , попадающих внутрь гер метичного корпуса, возможно также выделение нежелатель ных газовых веществ из материалов, находящихся внутри кор пуса МЭИ СВЧ. Их наличие ускоряет протекание коррозион ных процессов.
При изготовлении МЭИ СВЧ находят применение поли мерные электроизоляционные материалы на основе эпоксид ных смол. Они используются для закрепления ЭРК на плате, плат к корпусу; местной “герметизации” ЭРК и др. Эти же материалы используют для защиты резистивных элементов. Ж идкие компаунды, используемые для этого, представляют собой многокомпонентные системы, состоящие из смолы, отвердителя, катализатора, наполнителя, красителя и других добавок. Каждый из компонентов играет определенную роль в формировании эксплуатационных свойств композиций и од новременно может влиять на электрофизические параметры резистивной пленки.
К защитным материалам, используемым в производстве МЭИ СВЧ, относятся: жидкий герметик на основе эпоксидной смолы ЭД-20; компаунд Ф-47 на основе фенолформальдегид ной смолы; эмаль АС-95 и др.
Наиболее опасными веществами, присутствующими в по лимерных материалах, являются ионы щелочных металлов, хлора, фтора, а такж е активные вещества, содержащие ами ногруппы, оксид углерода и др. Наибольшее коррозионное действие на проводниковую структуру хром - медь - серебро оказывают эпоксидные компаунды, такие, как ЭК-23, ЭКХО, ЭК-91, содержащие в своем составе алифатические амины, применяемые в качестве отвердителей. Наименьшее коррози онное действие оказывают компаунды с ангидридными и по лиамидными отвердителями.
Изменения сопротивлений резисторов после 1000-часово го хранения в нормальных условиях для тонкопленочных ре зисторов из сплава РС-3710 при защите его составом ЭД-20 составили 0 ,0 6 ... 0,1 %.
Заключение
Микроэлектронные изделия СВЧ-диапазона - неотъем лемая часть большинства радиоэлектронных средств (РЭС). Их использование с другими микроэлектронными изделиями позволило улучшить технико-экономические характеристики РЭС. Накоплен большой опыт в области разработки и экс плуатации МЭИ СВЧ, создана база для их промышленного производства.
Повышение эффективности производства МЭИ СВЧ не разрывно связано с совершенствованием их конструкции и технологии изготовления, основу которой составляют прин ципы технологического проектирования.
Технологическое проектирование рассмотрено авторами как система организационно-технических мероприятий, кото рую условно можно представить в виде замкнутой цепочки, состоящей из отдельных звеньев, расположенных по окружно сти (см. рис. 8.1).
Основными элементами этой цепочки являются: техноло гическая документация - материалы - оборудование - произ водственные рабочие - производственная среда - технологиче ские процессы и маршруты.
В центре замкнутой окружности находится предмет раз работки и производства - МЭИ СВЧ, - конструктивно-тех нологические особенности которого определяют содержание и характеристики основных звеньев.
Руководство по формированию отдельных звеньев и це почки в целом осуществляют инженеры-технологи. Им при надлежит главенствующая и объединяющая роль - в связи с
чем они поставлены в вершину условного конуса, которая свя зана со всеми звеньями системы.
Подробное рассмотрение отдельных элементов системы составило одно из направлений изложения материала книги.
Книга поможет студентам при изучении соответствую щих дисциплин, связанных с конструированием и технологи ей изготовления МЭИ СВЧ, а практическое использование ее облегчит и ускорит проведение работ по их разработке и внед рению в производство.
336
П Р И Л О Ж Е Н И Е
I. Составы растворов для травления некоторых материалов
Материал |
|
|
Состав раствора |
Параметры |
травления |
|
пленки |
|
|
|
температу |
скорость, |
|
|
|
|
|
ра, вС |
мхм/мин |
|
Медь |
Н2 О2 (15 мл) : НС1 (15 мл) : Н2 О (70 мл) |
2 0 - 2 5 |
2 |
- 3 |
||
Алюминий |
Н3 РО4 |
(0 , 1 |
л) Н20 (0,1 л); |
2 0 - 3 0 |
0,2-0,3 |
|
Тантал |
Н3 РО4 |
(50 мл) : HN03 ( 2 0 мл) : СН3СООН (25 мл) |
4 0 - 6 0 |
0,2-0,3 |
||
HF ( 1 0 |
мл) : HNO3 (70 мл) |
2 0 - 2 5 |
0,02 |
- 0,04 |
||
Титан |
Н2 О (1 |
мл) |
HNO3 (3 мл) : HF ( 6 мл) |
2 0 - 2 5 |
0,03 |
- 0,04 |
Хром |
НС1 (в присутствии катализатора-алюминия) |
6 0 - 8 0 |
0,06 |
- 0,08 |
||
Никель |
R3 [Fe(CN)6] (330 г/л) : NaOH (500 г/л) : Н20 |
4 0 - 5 0 |
0,03 - ОД |
|||
Н3 РО4 |
(17 мл) H N 03 (17 мл) : СНзСООН (66 мл) Н20 (50 мл) |
5 0 - 6 0 |
0,04 - 0,05 |
|||
Резистивный |
HNO3 (50 мл) : HF (50 мл) : Н20 (50 мл) |
2 0 - 2 5 |
0,2 - 0,5 |
|||
сплав PC - 3710 |
|
|
|
|
|
|
Двуоксид кремния |
HF (9 мл) : NH4 F (30 г) : Н20 (60 мл) |
2 0 - 2 5 |
0,04 - 0,06 |
|||
Нитрид кремния |
Н 3 Р О 4 |
|
|
160 - 180 |
0,005 - 0,007 |
|
Паста на основе |
J2«p (18 г) : KJ (80 г) : вода дистиллированная (60 мл) |
2 5 - 3 0 |
1 0 - 1 5 |
|||
серебра (3713) |
|
|
|
|
|
|
П р и м е ч а н и е . Плотность кислот 7 , г/см3: НС1 - 1,19; Н3РО 4 - 1,81; HNO 3 - 1,4; HF - 1,14.
II. Состав газов и характеристика систем травления некоторых материалов, применяемых в производстве ГИС и полупроводниковых ИС СВЧ
Материал
А1
Сг Au
Ti, Та
SiÛ2
Si Фоторезист
Рабочий газ
Аг
СС1<
СС14 + 02
Аг
CF3 C1
C F 4 + о 2
CHF3
Аг
CF4 + О2 SiCl4l СЬ, SiF4
0 2
Вид травления |
Тип системы травления |
|
Ионное |
ВЧ диодная с ионным ис |
|
|
точником, магнетронная |
|
Ионно-химическое |
То же |
|
Плазмохимическое |
Цилиндрические реакторы |
|
Ионное |
С ионным источником |
|
Плазмохимическое |
Цилиндрический реактор |
|
я |
я |
я |
Ионно-химическое |
Планарный реактор |
|
Ионное |
С ионным источником |
|
Плазмохимнчесхое |
Цилиндрический реактор |
|
я |
я |
я |
п |
я |
я |
Характер травления
Анизотропное неселективное
Анизотропное селективное Изотропное высокоселективкое Анизотропное неселективное Изотропное высокоселективное
ля
Анизотропное селективное Анизотропное неселективное Изотропное высохоселективное Изотропное селективное
яя
337
III. Составы электролитов и растворов, применяемых для осаждения металлов и сплавов в производстве ГИС СВЧ
Осаж |
Состав электролита или раствора |
Параметры осаждения |
||
даемый |
|
темпе- |
плот- |
ско- |
металл |
|
ратура |
ность |
рость, |
|
|
раство- |
тока, |
мкм/ч |
|
|
ра, вС |
А/дм2 |
|
Медь |
Медь сернокислая - 80 ... 90 г/л, |
50-60 |
0 , 5 - 0,8 |
7 -1 0 |
|
калий пирофосфорнокислый - 400 г/л, |
|
|
|
калий азотнокислый - 10 г/л, аммиак водный (25 %) - 3 мг/л (pH 8 . . . 8,9)
Золото
Серебро
Н икель
Медь сернокислая - 200... 250 г/л, |
15-25 |
0 , 7 - 1,0 |
10-14 |
|
кислота серная - 50 г/л (плотность |
|
|
|
|
1,84 г/см3), блескообраэующая до |
|
|
|
|
бавка - 0,6 мл/л, вода дистилли |
|
|
|
|
рованная - до 1 л (pH 8 - 9 ) |
|
|
|
|
Днцианоаурат калия - 9 ... 10 г/л, |
15-25 |
0,6 - 0,7 |
6 - 7 |
|
калий лимоннокислый одноэамещен- |
|
|
|
|
ный - 60... 80 г/л, кобальт сернокис |
|
|
|
|
лый 1 г/л, вода дистиллированная - |
|
|
|
|
до 1 л (pH 4,5 ... 4,7) |
|
|
|
|
Серебро азотнокислое - 36... 43 г, ка |
15-25 |
0,1-0,3 |
2 - 6 |
|
лий железосинеродистый - 100... 150 г, |
|
|
|
|
калий углекислый - |
40... 50 г, |
|
|
|
калий роданистый - |
100... 180 г, вода |
|
|
|
дистиллированная до - 1 л |
|
|
|
|
Никель сернокислый - 200 г/л, |
15-25 |
0 , 5 - 0,6 |
1 0 - 1 2 |
|
натрий хлористый - |
10 г/л, |
|
|
|
натрий фтористый - 6 г/л, |
|
|
|
|
нафталин - 1,5 дисульфокислоты, |
|
|
|
|
динатриевая соль - |
4 г/л, |
|
|
|
вода дистиллированная - до 1 л
|
(pH 5,8 .. .6,3) |
|
|
О лово |
Двухлористое олово - 5... 8 г/л, |
15-25 |
0,4 - 0,5 |
(хими |
тиомочевина - 35... 45 г/л, |
|
|
ческое) |
кислота серная (плотность 1,84 г/см3) - |
|
|
|
30... 40 г/л, вода дистилли |
|
|
|
рованная до - 1 л |
|
|
Осаж
даемый
металл
Сплав Sn-Bi
Состав электролита или раствора |
Параметры осаждения |
||
|
темпе |
плот |
ско |
|
ратура |
ность |
рость, |
|
раство- |
тока, |
мкм/ч |
|
ра,*С |
А/дм2 |
|
Олово сернокислое - 30.. .40 г/л, |
1525 |
0,25 - 1 |
1 0 - 1 2 |
кислота серная ( 7 = 1,84 г/см3) - 1 0 0 .. . 115 г/л; висмут азотно кислый - 0 , 3 . . . 0 , 8 г/л, натрий хлористый - 0 , 3 . . . 0 , 8 г/л, препа рат ОП-Ю, клей мездровый - 2 . . . 5 г/л; спирт этиловый рек тификованный - 50 мл/л, вода дистиллированная - до 1 л
IV. Состав и техническая характеристика основного технологического оборудования, используемого в производстве МЭИ СВЧ
Оборудо |
Тип |
Назначение |
Техническая |
вание |
|
|
характеристика |
Д л я о с а ж д е н и я т о н к и х п л е н о к
Установка УВН-75Р-3 вакуумная
механизи
рованная
Установка УВН-74ПЗ вакуумного напыления
Установка УВН-75П1 вакуумного напыления
Для |
нанесения |
Производительность - |
|
в вакууме пленок |
115 подложек* за цикл; |
||
металлов и ди число напыляемых ма |
|||
электриков |
спо |
териалов: распыляе |
|
собами |
ионно |
мых - 1 ; испаряемых - |
|
плазменного |
и |
3 |
|
электронно-лу |
|
||
чевого |
испаре |
|
|
ния |
|
|
Производительность - |
Для |
нанесения |
в вакууме про 40 подложек за цикл,
водящих слоев с |
число напыляемых ма |
|||
резистивным |
териалов: резистивных |
|||
подслоем; |
|
обес |
- 1 ; проводниковых - 1 |
|
печивает |
|
дву |
|
|
стороннее |
нане |
|
||
сение |
покрытий |
|
||
и металлизацию |
|
|||
отверстий |
|
|
Производительность - |
|
Для |
ионного |
|||
распыления |
и |
90 подложек за цикл; |
||
электронного ис |
число напыляемых ма |
|||
парения |
резис |
териалов - 5 |
||
тивных и прово |
|
|||
дящих |
материал |
|
||
лов |
|
|
|
|
Д л я ф о т о л и т о г р а ф и ч е с к о й о б р а б о т к и
Линия Ти- тан-ОФ, в составе ко
торой: |
Для |
нанесения |
Производительность - |
полуавто ПНФ-60ЦД-130-3 |
|||
мат нанесе |
слоя |
фоторезис |
400 подложек в час; чи |
ния фоторе |
та методом цен |
сло одновременно обра |
|
зиста |
трифугирования |
батываемых подложек |
|
|
|
|
- 4 шт.; работает в руч |
ном и автоматическом режимах
Здесь и далее размер подложек 60 х 48 мм.