 
        
        книги / Оптические методы контроля интегральных микросхем
..pdfПРИЛОЖЕНИЕ Т
и производственного брака И С, методы их анализа и используемое рубежным данным)
| Возможные причины | Методы анализа | Основное (вспомога- | 
| тепьиое) оборудование | 
| Загрязнение | ионными | Испытание схемы | 
| включениями в | процессе | Вскрытие и исследова | 
| обработки и (или) при | ние зондовым методом | |
| корпусироваиии | 
 | Исследование транзи | 
Нарушение координат сторов по отдельности,
| ных шагов на начальном | включая | испытательный | ||||||||
| этапе | разработки схемы | транзистор | порогово | |||||||
| или неверный выбор ша | Измерение | |||||||||
| гов при создании метал | го | напряжения | и | под | ||||||
| лизации затвора | 
 | тверждение | визуальным | |||||||
| Неправильное | наложе | контролем | корреляции | |||||||
| ние маски | 
 | 
 | низкого | порогового | на | |||||
| 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | пряжения и | неправиль | ||||
| 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ного наложения маски | |||||
| 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | Определение присутст | |||||
| 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | вия примеси с помощью | |||||
| Наличие большой | сту | Оже-спектроскопин | зон | |||||||
| Проверка | схемы, | |||||||||
| пени в | структуре поли | дирование | 
 | контроль | ||||||
| кристалл — окисел—уча | Визуальный | |||||||||
| сток | металлизации | над | на | подтверждение нали | ||||||
| сформированной ступень | чия | замыканий | и(или) | |||||||
| кой окисла, которая | об | обрывов и контроль кон | ||||||||
| разуется | при | создании | тактных | площадок с по | ||||||
| контакта | 
 | 
 | мощью РЭМ с целью ис | |||||||
| 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | следования качества | по | ||||
| 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | крытия окисла | и метал | ||||
| 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | лизации | 
 | 
 | 
 | 
 | |
Микроскоп С
вертикальным ос вещением (МВО> с увеличением
200—300х (зон ды, Оже-элек- тронный спектро метр)
Микроскоп с вертикальным освещением с уве личением 300—
500х (РЭМ, тес тер, зонды)
| Статический разряд по | Измерение | характери | |
| рядка Е -10—6 Дж | или | стик входного прибора | |
| больше | кон | Визуальный | контроль | 
| Несовершенство | до и после удаления за | ||
тактной площадки (ма щитной окисной пленки лое поперечное сечение и травления металлиза проводящей зоны, ко ции
торое может вызвать излишнее нагревание и, следовательно, расплав ление алюминия)
Графопостроитель, фазокон трастный МВО с увеличением 200—
300х
101
 
 
 
 
 
 
 
Продолжение прилож. 1
| Возможные причины | Методы анализа | Основное (вспомога | 
| тельное) оборудование | 
| глассивации | с | контакт | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||
| ной поверхности | систе | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||||
| новые | свойства | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||||
| мы | металлизации | с | до | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||
| бавлением | 
 | компонентов | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||
| к алюминию | (например, | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||||
| системы | — | металлизации | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||
| тантал | 
 | нитрид | .— | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||
| хром — золото) | [37, 38] | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||||
| Отклонение | соедини | Электрические | измере | Микроскоп | и | ||||||||
| тельных | проводников | от | ния между каждым вы | РЭМ (осциллограф | |||||||||
| контактных площадок на | водом и подложкой | и оборудование для | |||||||||||
| малый | 
 | угол | вследствие | Визуальный | контроль | вскрытия | корпу | ||||||
| использования | 
 | метода | после вскрытия | корпуса | сов) | 
 | 
 | ||||||
| «обратной | сборки» (ме | и микрофотографирова | 
 | 
 | 
 | ||||||||
| тод 2010 MIL-STD-883 | ние | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||||
| не допускает отбраковки | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||||
| таких ИС) | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||
| Наличие малых прово | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||||
| дящих | частиц | в | герме | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||
| тичном корпусе | проводя | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||||
| Притяжение | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||||
| щих | 
 | частиц | силовыми | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||
| выводами | 
 | 
 | проводя | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||
| Попадание | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||||
| щих частиц в | простран | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||||
| ство между соединитель | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||||
| ными | проводниками | и | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||
| подложкой | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||
| Малый | угол | 
 | между | Электрические | измере | Микроскоп | и | ||||||
| проволочными | соедине | ния на каждом выводе и | РЭМ (осциллограф, | ||||||||||
| ниями | 
 | и | контактными | подложке | контроль | оборудование | для | ||||||
| площадками | вследствие | Визуальный | вскрытия | корпу | |||||||||
| применения | «обратной» | после вскрытия корпусов | сов) | 
 | 
 | ||||||||
| методики | 
 | выполнения | Микрофотографирова | 
 | 
 | 
 | |||||||
| проволочных | соединений | ние | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||||
| (приварка сначала к вы | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||||
| воду, а затем к контакт | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||||
| ной | площадке | кристал | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||
| ла) | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | 
| Возникновение «бугор | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||||
| ков» кремния по | краям | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | |||||||
| кристалла | после | опера- | 
 | 
 | 
 | 
 | 
 | ||||||
109
 
