Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Амитей Н. Теория и анализ фазированных антенных решеток

.pdf
Скачиваний:
193
Добавлен:
27.10.2023
Размер:
18.82 Mб
Скачать

Плоские фазированные решетки из круглых волноводов

311

толщины вставки tx угол возникновения резонанса поверхностной волны смещается к нормали решетки. Существует область значе­ ний толщин вставок, где вынужденные поверхностные волны не возбуждаются. Говоря иначе, диэлектрическая вставка обладает некоторой «полосовой» характеристикой, зависящей от толщины вставки. Эти свойства можно объяснить с помощью эквивалентной длинной линии, если допустить, что высшие типы волн во вставке

(возбуждаются они в плоскости раск-

(

 

 

рыва z = 0) достаточно быстро зату­

h

.рt , y

Р

хают

при z = —itj.

Таким

образом,

т

 

•+//

подход, основанный на использова­

е

е

нии длинных линий, позволяет оце­

 

 

 

нить угловое положение вынужден­

 

 

 

ного резонанса поверхностной волны

 

 

 

в зависимости от толщины вставки.

 

 

А. г/

На

рис.

7.26, а представлен эк­

А .

вивалентный шестиполюсник без по­

Уз>Ъ

терь с матрицей рассеяния S (унитар­

 

 

ной при соответствующей

нормиров­

 

 

 

ке). Вход 3 предусмотрен для захва­

 

 

 

ченной волны ТМ01. Элементы {s^}

 

 

 

матрицы S

можно найти из решения

I

 

 

интегрального уравнения (3) при ус­

 

 

 

ловии,

что волновод целиком запол­

у/. А

 

У/.А

нен диэлектриком и входы возбуж­

 

 

 

 

даются отдельно. В качестве левой

Уз.ft

 

Уу,Х4

части

 

уравнения

(3)

используется

 

 

 

поле падающей волны. Поскольку

 

 

 

ядро этого интегрального уравнения

Рис. 7.26. Представление ре­

не зависит

от возбуждения, обраще­

шетки с захваченными волна­

ние матрицы нужно выполнять толь­

ми с помощью матрицы рас­

ко одни раз для всех полей падающих

 

сеяния.

а — д л я одной

захв ачен н ой волны ,

воли.

 

 

 

 

 

 

1 — Т Е ,, вол н а ; 2 — свободное п р о ­

При

возбуждении

поверхност­

6 — д л я дву х

зах в ач ен н ы х волн .

стран ство ; 3, 4—захвачен н ы е волн ы .

ных

воли

коэффициент

передачи

 

 

 

между входами 1 и 2 равен нулю, и это условие налагается на матрицу рассеяния (см. гл. 4). В результате мыполучаем уравнение, которое связывает величину ф5Ш, характеризующую угол сканиро­ вания, при котором возникает вынужденный резонанс поверхност­ ной волны, с толщиной диэлектрической вставки tx:

Уз g - 2 j y p i

$12

2/з+Уз

( 22)

s 12s 33— s23s 13

В этом выражении {sEJ-} — известные элементы матрицы рас­ сеяния S (которая зависит от угла сканирования), г/®и у| —

312

Глава 7

модальная проводимость и постоянная распространения волны ТМ01 в диэлектрике, а у3 — проводимость этой волны в воздухе. Легко показать, что абсолютные значения как левой, так и правой частей выражения (22) равны единице, ибо г/| — действительная, а г/3 — чисто мнимая величины. После того как решена граничная задача для волновода, целиком заполненного диэлектриком, при некото­ ром заданном угле сканирования, мы можем из уравнения (22) найти толщину t l t при которой для этого угла сканирования воз­ никнет вынужденный резонанс поверхностной волны.

Результаты, полученные для модели с тремя входами, приве­ дены на рпс. 7.27. Отметим существование «полос» значений тол­ щины, в которых резонансы поверхностных волн не возникают.

но

120

100

5 80

лГ

IВО

40

20

О

0,2

0,4

0,6

0,8

1,0

1,2

Рис. 7.27. Зависимость -фвШ от ii/Яо для решетки

с диэлектри­

ческими вставками при сканировании в

5-плоскости (вставки

«захватывают» одну

волну при

Ъ — d =

0.714Я,

а = 0,340Я,

Ei =

1,8, 8 = Ei

и а =

60°).

 

1

д о п о л н и т е л ь н ы й г л а в н ы й

л е п е с т о к ; 2 — p e m e m ie г р а н и ч н о й з а д а ч и ;

3

о б л а с т ь , в к о т о р о й п о в е р х н о с т н ы е в о л н ы н е в о з б у ж д а ю т с я ; 4 — п л о ­

 

 

с к о с т ь с к а н и р о в а н и я .

 

Это объясняется тем, что, когда ф,. меняется от 0 до л,

фаза правой:

части уравнения

(22), arg [s12/(Si2s 33 — s23si3)li

меньше 2л.

Так как

у3 и у|

не зависят отфг, могут существовать области

значений tx, при которых уравнение (22) не удовлетворяется.. Кроме случая очень тонких вставок, для которых нельзя прене­ брегать затухающими волнами, возбуждающимися в плоскости раскрыва, является периодической функцией tx с периодом лlyl (половина длины волны ТМ01). На рис. 7.27 отмечена такжеточка, полученная непосредственно из решения граничной задачи. Как можно видеть, теория длинных линий дает хорошие резуль­ таты даже при сравнительно тонких вставках.

Плоские фазированные решетки из круглых волноводов

313

То же приближение, основанное на теории длинных линий, можно использовать, когда проницаемость e-L настолько велика, что вставка захватывает в ^-плоскости две волны ТМ01 и ТЕ21. На рис. 7.28 приведена зависимость | i?iiv | от угла сканирования в ^-плоскости при различных значениях толщины диэлектриче­ ских вставок. Увеличение толщины также вызывает смещение углового положения незахвачениой вынужденной поверхностной волны по направлению к нормали. Но в отличие от предыдущего

О

36

7Z

103

Н4

 

 

град

 

 

Рис. 7.28. Зависимость коэффициента отражения от фг для решетки с диэлектрическими вставками при сканировании в Е - плоскости (вставки захватывают две волны при Ъ — d = 0,714А,,

а = 0,340Я, в! = 2,54, е = е0 и а = 60°).

случая может существовать несколько резонансов поверхностной волны (например, при tx — 0,286). По мере увеличения резонанс поверхностной волны исчезает, затем вновь возникает при боль­ ших значениях t x . Следовательно, существуют некоторые «полосы» значений tx, где поверхностные волны не возбуждаются. Эквива­ лентный восьмиполюсник для этого случая показан на рис. 7.26, б, где еще один (четвертый) вход соответствует захваченной волне ТЕ21. Уравнение, связывающее между собой а|з810 и tx, имеет более сложную трансцендентную форму:

1 = G u e - W v l ^ ' + G s e - ^ + G i e - 2* ^ ,

(23)

Рпс.

7.29. Зависимость угла сканирования,

при котором возникает резонанс поверхностной вол­

ны,

i|5sUj от толщины вставок для решетки с диэлектрическими

вставками

при сканировании

в Я-плоскости (вставки захватывают две

волны

при b = d =

0,714Х, а =

0,340Л, ej = 2,54

 

и а =

60е).

 

 

1 — р е ш е н и е г р а н и ч н о й з а д а ч и ; 2 — в о з б у ж д е н и е д в у х п о в е р х н о с т н ы х в о л н ; 3 — о б л а с т ь , в к о т о р о й п о ­ в е р х н о с т н ы е в о л н ы н е в о з б у ж д а ю т с я ; 4 — в о зн и к н о в е н и е д о п о л н и т е л ь н о г о г л а в н о г о л е п е с т к а .

Плоские фазированные решетки из круглых волноводов

3 1 5

где

С м - s f i

d e l [ 5 ] . У1

Уз ■ уЕ'

],i ,

( 2 4 )

«12

У* +

Уз

y f - 1-У4

 

__«12«33«13«23

^3

 

 

( 2 5 )

3

«12

У ^ + У З

 

^

$12^*44$14^24

^4

^4

 

( 2 6 )

4

«12

У\ +

1/4

 

 

 

и y l , У з, у\, Уь , Yjj.Y® — соответствующие модальные

проводимости

и постоянные распространения. Так же как и раньше, элементы матрицы рассеяния получаются из решения уравнения (3) при соот­ ветствующем выборе поля падающей волны. Отношеиые у| к у| в общем случае дает нерациональное число и поэтому я|)8ш необяза­ тельно является периодической функцией tx (см. выражение [23]). Из рис. 7.29 видна апериодичность зависимости ср5ш от tv Таким образом, и в этом случае мы отмечаем существование «полос» зна­ чений толщины и, кроме того, высокую точность, даваемую теорией длинных линий для очень тонких вставок.

3.3. ФАР с диэлектрическим покрытием

На характеристики решетки может оказывать сильное влияние диэлектрическое покрытие (слой), имеющее толщину t\ и диэлектри­ ческую проницаемость е] и выполненное заподлицо с плоско­ стью раскрыва [7, 8, 10]. Если проницаемость г[ достаточно велика, то в диэлектрическом слое могут существовать захваченные волны (типа периодических гармоник свободного пространства 'Fp,™). По влиянию на характеристики решетки эти захваченные волны заметно отличаются от захваченных волноводных мод в диэлектри­ ческих вставках х). Резонансы поверхностных волн, обусловлен­ ные присутствием диэлектрического слоя, не дают «полосовых» характеристик, которые наблюдаются в решетках из волноводов с диэлектрическими вставками. При увеличении толщины слоя t\ или диэлектрической проницаемости ej угол ф8ш, при котором наблюдается резонанс поверхностной волны в отсутствие диэлектри­ ка, уменьшается (луч приближается к нормали решетки), но не до­ стигает нулевого значения. В действительности при увеличении t\ или е] появляются дополнительные или множественные резонансы поверхностной волны. Поэтому при больших значениях t\ или е] полезный сектор сканирования существенно ограничивается.

-1) Захваченные волны в диэлектрическом слое соответствуют дополни­

тельным главным лепесткам, возникающим в результате того, что эффектив­ ное расстояние между элементами в диэлектрике больше, чем кажущееся расстояние между элементами решетки в свободном пространстве.

316 Глава 7

Модификация интегрального и матричного уравнений (3) и (6) в данном случае состоит в том, что Y pmn заменяется на

 

V е

 

 

е г

 

Уртп

Yртп + /Уртп ^ Н7 Н 7 Г 1

(27)

ртп

Уе

ЬР

ртп tg Гтп *х

 

 

л ртп

 

где Ypmn и Гт„— соответственно модальная проводимость и посто­ янная распространения волны в диэлектрическом слое. Коэффициент Fpmn волны Ч?ртп в области над диэлектрическим слоем (постоянная распространения Гп,„) связан с полем Е* в раскрыве выражением

уБ jT mnt\

1 ртпс

Fртп :

В качестве плоскости отсчета фазы Fpmn взята плоскость раскрыва

(* = 0).

Зависимость модуля коэффициента отражения антенной решет­ ки с диэлектрическим покрытием от угла фг при сканировании Е-плоскости приведена на рис. 7.30. Изучим влияние увеличения толщины диэлектрического слоя t\. Как видно, в случае тонкого листа (£' = 0,IX) резонанс поверхностной волны, существовавший

вотсутствии диэлектрика, сдвигается в сторону нормали решетки,

арезонансная кривая Ецу в области максимума сильно расширяет­ ся. По мере увеличения толщины слоя до 1\ = 0,5Х происходит дальнейший сдвиг резонанса в сторону нормали и возникает второй резонанс поверхностной волны, обусловленный захватом волны

диэлектрическим слоем.

Дальнейшее

увеличение t\ приводит

к появлению трех и большего числа

резонансов

поверхностной

волны.

что затухающие волны,

возбуждаемые

Если предположить,

в раскрыве, в достаточной степени ослабляются па другой границе слоя (z = i[), то также можно провести приближенный анализ, основанный на теории длинных линий, и найти величину ф8ш, определяющую угол сканирования, соответствующий вынужден­ ному резонансу поверхностной волны. Предполагается при этом, что в диэлектрическом слое существует лишь одна захваченная вол­ на; для ее представления можно воспользоваться входом 3 на рис. 7.26, а. Необходимо учитывать также, что в решетке с ди­ электрическим покрытием модальные проводимости и постоянные распространения захваченной волны Y§, У 3, Г® и Г3 являются функциями фг. Элементы матрицы рассеяния {stj} получаются из соответствующих решений интегрального уравнения (3) при условии, что все полупространство z ^ 0 заполнено материалом с диэлектрической проницаемостью &[. Уравнение (22), модифици­ рованное для случая решетки с диэлектрическим слоем, имеет

Плоские фазированные решетки из круглых волноводов

317

ВИД

Sjo

 

y § - y s .e- « r f q :

(22а)

у!- ■Y,

s 12s33— s23s 13

 

Основное влияние на изменение фазы левой части уравнения (22а)

оказывает член

где

 

Г® = V^61 (2пА)2 — [(2л — a|jr)/(dsm a)]2, 0 ^ ф г< я .

(29)

Отметим, что Г3 для 5-плоскости сканирования увеличивается с возрастаниемфг. Если предположить, что правая часть уравнения

<рг , г р а д

Рис. 7.30. Зависимость коэффициента отражения решетки с ди­ электрическим покрытием при сканировании в 75-плоскости (одна волна «захватывается» листком тока при b = d = 0,714Я; а =

= 0.340Л.; 8х = 2,0 и а = 60°).

1 — н е з а х в а ч е н п ы е п о в е р х н о с т н ы е в о л н ы ; 2 — з а х в а ч е н н а я п о в е р х н о с т ­ н а я в о л н а .

(22а) слабо зависит от фг (сравнительно слабо), то небольшое уве­ личение толщины слоя t \ приведет к уменьшению ф8и, (рис. 7.31). Отметим также, что при достаточно больших значениях t \ фаза 2Г§£' для заданного диапазона значений фг может быть много раз кратной 2я. Следовательно, при больших толщинах слоя возможно существование множества резонансов поверхностной волны. При t'J% > 0,9 существует три вынужденные поверхностные волны.

318

Глава 7

Отметим, что при увеличении толщины t\ величина \\>sw ие достигает нуля (положение нормали), а асимптотически стремится к некото­ рому постоянному значению. Решение, полученное на основе теории длинных линий, в данном случае отличается от решения граничной задачи в более широкой области значений толщины, чем в случае соответствующей решетки с диэлектрическими встав-

Рпс. 7.31. Зависимость угла сканирования, при котором возни­ кает резонанс поверхностной волны, т|)ОТ1 от толщины покрытия для решетки с диэлектрическим покрытием при сканировании

в ^-плоскости

(одна

волна захватывается

листком тока прп

Ъ = а =

0.714Я,

а = 0,340Л, 8! = 2,0

и а = 60°).

1 — в о з н и к н о в е н и е д о п о л н и т е л ь н о г о л е п е с т к а ; Д — р е ш е н и е г р а н и ч н о й з а д а ч и .

ками. Это означает, что в случае тонких диэлектрических слоев для получения надежных результатов следует решать граничную задачу. В области же значений толщины, где существует не одна поверхностная волпа, аппроксимация, по-видимому, более точна.

В предыдущем разделе было установлено, что для антенных решеток без диэлектрика вынужденные резонансы поверхностных волн возникают в изолированных точках плоскости углов скани­ рования (“фд., Это утверждение также верно для решеток с ди­ электрическим покрытием и диэлектрическим заполнением волно­ водов, что следует из анализа численных результатов в окрестно­ сти резонанса поверхностной волны.

4. АСИМПТОТИЧЕСКОЕ ПОВЕДЕНИЕ КОЭФФИЦИЕНТОВ ВЗАИМНОЙ СВЯЗИ

В гл. 4 было показано, что асимптотическое поведение коэффи­ циентов связи между двумя элементами, расположенными далеко друг от друга, определяется особыми точками производной коэф--

Плоские фазированные решетки из круглых волноводов

319

фпцпента отражения как функции угла сканирования. При анали­ зе плоских ФАР мы установили также разрывный характер кри­ вых коэффициентов отражения в точках вознпкновеиия главного лепестка пли дополнительного главного лепестка. В этом разделе мы будем считать, что такого рода особенности производных играют подобную роль и в асимптотическом поведении коэффициентов взаимной связи. Ради простоты мы будем пользоваться моделью в виде элементов тока, а решетку будем считать прямоугольной (а = 90° на рис. 7.1). Однако полученные результаты в равной степени справедливы и для решеток, элементы которых распола­ гаются в вершинах косоугольной сетки, имеющей двойную перио­ дичность 111].

Напомним, что соотношение между коэффициентом отражения

R(фа-, фу) и коэффициентами взаимной связи {CP'q'} записывается

ввиде двойного ряда Фурье

Д(Ф*,Фу) = 2

2* Cp^ e Hp' ^ +q' V ,

(30)

р ' = — оо q ‘= — оо

 

где фжи фу (управляющие фазы) связаны с направляющими коси­ нусами угла сканирования Тх и Ту выражениями (12). Используя выражения (12), получаем

Я Я

С р ' 9 >= 4^2

j j

d % R

(ф*, фу)

=

 

 

—Я —Я

 

 

 

 

 

я fhb

я /A d

 

 

 

= _5

р \

dTx J

dTyR(Tx, Ty) e - ih(p'bTx+q' dTv\

(31)

 

—л /kb

—л /hd

 

 

 

Наша задача заключается в том, чтобы оценить этот интеграл в пре­ деле, т. е. иайтп lim Cp>q'. Покажем, что если 1) градиент

р ', д '- > о о

функции R (Тх, Ту) непрерывен в плоскости ТХТУв области инте­ грирования, кроме значений углов сканирования, при которых возникает касательный дополнительный главный лепесток и кото­ рые отмечены кривыми Гтп = 0 (см., например, выражение (Г1.8) приложения I), и 2) градиент функции R по нормали к кривым Гmn = 0 сингулярен и пропорционален 1/Г„от, то Cp>q' при больших значениях ' , q') стремится к e~ihP/pz, где р — радиальное рас­ стояние в апертурной плоскости, соответствующее pP'q' на рис. 7.1.

Часть конфигурации дополнительного главного лепестка, состо­ ящая из дуг окружностей (см. приложение 1) в плоскости ТХТУ, показана на рис. 7.32. Действительная область интегрирования в уравнении (31) при больших р ' , q') сокращается до окрестности контуров дополнительного главного лепестка ГтП = 0 (заштри­ хованная область на рис. 7.32). Чтобы убедиться в этом, надо при­ менить интегрирование по частям для оценки выражения (31)

320 Глава 7

п учесть то, что градиент функции R непрерывен всюду, кроме контура лепестка.

Рассмотрим плоские решетки, для которых R известен: антен­ ные решетки в виде периодических листков тока. В такой решетке ток имеет двоякопериодическое распределение, направленное вдоль оси х, и определен на плоскости z = 0. Система координат и расстояния показаны на рис. 7.32. Такая абстрактная антенная решетка уже была использована другими исследователями [12]. Как модель она имеет три недостатка. Во-первых, к элементам

Рпс. 7.32. Конфигурация дополнительного

главного лепестка

в плоскости Т Х Т У (0,5 < (Ь/Х,

d/X) < 1).

решетки не подводятся фидерные линии, и поэтому нормировка входного сопротивления антенны производится относительно вол­ нового сопротивления свободного пространства z0. Во-вторых, допускается, что распределение тока внутри элемента (размером Ъ X d) не изменяется при сканировании, т. е. с изменением углов ф.т, фу или Тх, Tv), хотя в реальной антенне при сканировании происходят изменения распределения в апертуре. Мы будем пред­ полагать, что если ток действительно зависит от Тх, Ту, то он из­ меняется таким образом, что удовлетворяются сформулированные выше требования к градиенту функции R. В-третьих, входной импеданс при сканировании в плоскости (Г.*=0) имеет особенность, которую можно исключить, если за листком тока поместить беско­ нечный проводящий экран [12]. Преимущество этой модели заклю­ чается в том, что для нее можно получить выражение для R в за­ мкнутой форме.

На плоскости z = 0 двойной ряд Фурье для листка тока, направ­ ленного по х, имеющего двойную периодичность и линейный набег

фазы, можно написать в виде

 

•М *, У) = 2 2 Jr.,e-ihlu^ y\

(32)

(Г, О

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ