книги из ГПНТБ / Тимашев В.В. Технический анализ и контроль производства вяжущих материалов и асбестоцемента учеб. пособие
.pdf§ 3. РЕНТГЕНОВСКИЙ АНАЛИЗ С ИОНИЗАЦИОННОЙ РЕГИСТРАЦИЕЙ ИЗЛУЧЕНИЯ
Рентгеноструктурный анализ является более универ сальным и к настоящему времени более совершенным методом исследования материалов, чем другие физикохимические методы анализа. Пользуясь им, можно про водить как количественный, так и качественный фазо вый анализ сложных по составу материалов, а также определять строение кристаллических решеток индиви дуальных соединений.
В зависимости от целей рентгеновского анализа и ви
да |
объекта применяют различные методы исследования: |
|
а) |
методы |
порошка и Дебая-Шеррера — для поликри |
сталлов; б) |
метод Лауэ — для монокристаллов. |
|
|
Вяжущие вещества как тела поликристаллические |
|
изучают, как правило, методом порошка и преимущест венно с ионизационной регистрацией дифрагированного рентгеновского излучения. При использовании этого ме тода регистрация отраженных лучей осуществляется с помощью счетчиков Гейгера — Мюллера в рентгенов ских аппаратах УРС-50И, УРС-50ИМ и сцинтилляционного счетчика — в аппарате Дрои-1. Большое преимуще ство этого метода — его высокая чувствительность по от ношению к отдельным минералам и значительное сокра щение времени анализа. Применение метода ионизаци онной регистрации отраженных рентгеновских лучей со съемкой вращающегося образца и правильный выбор режима съемки позволяют определять наличие того или иного минерала, если его содержание в клинкере даже
1-—3%- Следует отметить, что при дебаевском методе рентгеноструктурного анализа искомый компонент клин кера лишь тогда будет представлен на фотопленке доста точно ясными линиями, когда содержание его в материале будет не меньше следующих величин: C2S — 10%; C3S —
8 %; С3 А - |
6 %; |
C4 AF - 1 0 % ; |
CaO - 2 - 3 %; |
MgO |
- |
|||
2 - 3%. |
|
|
|
|
|
|
|
|
Оборудование |
и материалы, |
/ — анализируемое |
вещество; 2 — |
|||||
рентгеновский аппарат УРС-50ИМ; |
3— градуировочыые графики |
|||||||
(номограммы); 4— внутренний эталон |
(CaF2 ). |
|
|
|
||||
Принципиальная |
схема |
рентгеновского |
аппарата |
|||||
УРС-50ИМ |
приведена |
на рис.. 47. Аппарат |
состоит |
из |
||||
следующих основных частей: 1) стабилизатора напря жения; 2) источника рентгеновских лучей — реитгенов-
200
ской трубки с высоковольтным выпрямителем и стаби лизатором анодного тока трубки; 3) кристалла-монохро- матора, фиксирующего рентгеновский пучок лучей и сни жающего фон рентгенограммы; 4) торцевого счетчика квантов; 5) усилительного, пересчетного, интегрирующе-
Рис. 47. Принципиальная схема аппарата для ионизационного рентгеновского анализа УРС-50ИМ
/—рентгеновская |
трубка; |
2—гониометр; |
||
3 — исследуемый |
образец; |
4 — счетчик |
||
чваптов; С — о с ь |
(127/220 |
о); |
СИ — ста |
|
билизатор напряжения; |
ЩУ—щит |
уп |
||
равления; ГУ— генераторное устройст
во; РЖ — усилитель импульсов; |
ВП—вы |
||||
соковольтный выпрямитель; |
О — отмет |
||||
чик; |
РВ — реле |
времени; ВМ — |
входной |
||
мультивибратор; |
ПС — пересчетное уст |
||||
ройство; |
ЭС |
— электромеханический |
|||
счетчик; |
ПС — интегрирующее |
устрой |
|||
ство; |
|
ЛВ*— ламповый |
вольтметр; |
||
ЭШ1 |
— самопишущий потенциометр |
||||
Рис. 48. Схема дифракции рентге
новских |
лучей |
параллельными |
||
плоскостями |
кристаллической |
ре |
||
шетки |
|
|
|
|
/ — п а д а ю щ и й |
пучок |
лучей; 2— отра |
||
женный пучок |
лучей; |
3 — атомные |
пло |
|
скости; |
4 — межплоскостное расстоя |
|||
ние; 5 — разность хода |
лучей |
|
||
го и записывающего устройства; 6) |
системы |
управления |
||
и блокировки. |
|
|
|
|
Источником пучка электронов |
служит находящийся |
|||
в рентгеновской трубке катод, имеющий вид спирали из вольфрамовой проволоки, накаливаемой током напряже нием 8—12 е. Рентгеновские лучи возникают в результа те бомбардировки этими электронами поверхности анти катода, также находящегося в трубке. Чтобы обеспечить беспрепятственное движение электронов, в трубке под-
14—201 |
201 |
держивается вакуум порядка \Q~B— 10~8 мм рт. ст. Нап ряжение, прикладываемое к рентгеновской трубке, обус лавливает нужную скорость движения электронов к ан тикатоду. От скорости движения электронов при их ударе об антикатод (анод) и от вещества антикатода зави сят свойства рентгеновских лучей.
Природа рентгеновских лучей та же, что и лучей ви димого света, однако в отличие от последнего длина вол ны рентгеновских лучей значительно меньше и составля-
о
ет для мягкого излучения 6—60 А, а для жесткого — 0,6—
о
0,06 А. Антикатод рентгеновской трубки изготавливают обычно из железа, меди, хрома, молибдена, радия и ряда других металлов.
Отфильтрованные рентгеновские лучи из трубки направляются на образец, испытывают дифракцию и затем попадают в счетчик квантов Гейгера—Мюллера.
Рентгеновские лучи взаимодействуют с кристалли ческой решеткой материала следующим образом. Как известно, кристалл представляет собою сумму парал лельно расположенных и равноудаленных одна от дру гой плоскостей, в пределах которых располагаются все атомы вещества. Такого рода параллельные плоскости проходят внутри кристалла в самых различных направ лениях и в каждом из этих направлении свойства кри сталла изменяются (анизотропия); в частности, иным становится и расстояние между параллельными плоско стями (межплоскостное расстояние d).
Пучок монохроматических рентгеновских лучей, име ющих длину X, падая на ряд параллельных атомных плоскостей кристалла под углом В, отражается от них под тем же углом. Лучи, отраженные от этого ряда плоскостей, будут находиться в одной фазе и усиливать
друг друга в том случае, |
если разность |
их хода после |
||||
отражения теми или иными по порядку |
плоскостями |
|||||
будет равна целому |
числу |
волн |
(hi, где |
п — порядок |
||
отражения в целых |
числах: 1, 2, 3 и т.д.). Разность же |
|||||
хода лучей, отразившихся |
от двух соседних плоскостей, |
|||||
равна 2d sin 0 (рис. 48). Следовательно, |
интерференци |
|||||
онный пучок лучей |
(пик или максимум |
|
на |
рентгено |
||
грамме) возникает |
лишь в том случае, |
если |
соблюда |
|||
ется уравнение дифракции (86): |
|
|
|
|
||
|
nl = 2d sin 9, |
|
|
|
(86) |
|
|
|
о |
|
|
|
о |
где d— межплоскостное |
расстояние D А |
пли Кх\ |
|
/(.* = |
1,00203 А = |
|
202
—10~8 см, 0 — угол между направлением пучка падающих рент геновских лучен и отражающими плоскостями в град; X — длп-
о
на волны рентгеновских лучен в А или Л'*; " — порядок отраже
ния |
(целое |
число: 1, 2, |
3, |
//) . |
|
|
Лучи, отраженные |
во |
всех |
других направлениях н |
|||
под другими |
углами, |
взаимно |
погашаются. Таким об |
|||
разом, |
направление |
отраженных лучей |
определяется |
|||
расстоянием |
между |
атомными |
плоскостями решетки |
|||
(d) и их ориентировкой, |
т. е. строением |
кристалла. Им |
||||
пульсы тока, возникающие при попадании лучей в счет чик, проходят последовательно усилитель, пересчетную систему, интегрирующую систему и попадают на само пишущий потенциометр, который и записывает их ве личины. Рентгенограмма получается последовательно линия за линией в результате поворота счетчика кван тов вокруг образца в пределах требуемой области углов отражения от 2 до 75. Углы отражения отсчитываются на гониометрическом устройстве, и на диаграммной лен те самописец делает соответствующие отметки. Чтобы обеспечить попадание под рентгеновский пучок боль шого числа кристаллов данной фазы, образец часто также приводится во вращение, но со скоростью в два раза меньшей, чем скорость вращения счетчика кван тов.
Пример записи параметров работы установки: из лучение меди (СиКа),, отфильтрованное никелевым фильтром толщиной 20 мк, режим работы рентгеновской трубки 37 Кб, 11 ма, щель счетчика 0,25X8 мм, угловая скорость его движения 0,5 об/мин, скорость движения диаграммной ленты -320 мм/ч, постоянная времени ин тегрирующей схемы 6 сек.
Ход |
работы |
а) |
К а ч е с т в е н н ы й ф а з о в ы й а н а л и з . Иссле |
дуемый материал измельчают до полного прохождения
через сито 006, |
после чего |
его набивают в держатель |
|
из органического стекла, имеющего диаметр кольца |
20— |
||
25 мм и глубину |
до 3 мм. |
Набивают постепенно |
слой |
за слоем, причем каждый слой смачивают несколькими каплями абсолютированного спирта. Уплотняют слои специальной лопаточкой. Излишек порошка с поверх ности заполненной до краев кюветы срезают острым
203
ножом так, чтобы поверхность образца стала гладкой, поскольку от этого зависит точность опыта. Заполнен ную материалом кювету устанавливают в препаратодержатель гониометра и записывают рентгенограммы при том или ином режиме работы аппарата. Для полу
чения надежных данных кюветы дважды |
наполняют |
одним и тем же материалом, снимают две |
рентгено |
граммы и их сравнивают. |
|
Р а с ш и ф р о в к а р е н т г е н о г р а м м . |
Кристаллы |
каждого индивидуального химического соединения дают
специфическую, |
только им присущую, |
рентгенограмму |
с характерными |
величинами межплоскостных расстоя |
|
ний и определенной интенсивностью |
соответствующих |
|
отражений. Различные исследователи уже получили достоверные рентгенограммы большинства безводных и водных кристаллов и минералов, составляющих вяжу щие вещества и продукты их гидратации, которые при ведены в различных справочных пособиях.
Наиболее полный перечень рентгенографических ха рактеристик различных минералов дается в междуна родной таблице ХРчДС.
Для качественного фазового анализа сравнивают межплоскостные расстояния и их интенсивность, полу ченные при расшифровке данной рентгенограммы с табличными данными. Знание химического вещества об легчает расшифровку рентгенограммы, так как позво ляет сделать предположение о возможном минералогиче ском составе продукта.
Идентификация фазы считается достаточно надеж ной, если на рентгенограмме наблюдается не менее трех наиболее интенсивных ее линий. Это особенно важно иметь в виду при расшифровке рентгенограммы смесей минералов, когда возможно совпадение ряда отраже ний. С увеличением доли какого-либо минерала в смеси количество его аналитических линий и их интенсивность возрастают. То минимальное количество фазы, которое
может быть |
определено |
данным |
рентгеновским мето |
дом, зависит |
от многих |
факторов: |
размера кристаллов, |
фона рентгенограммы, степени дефектности кристаллов,
коэффициента поглощения |
рентгеновских |
лучей иско |
|||
мой фазой и т. п. С уменьшением |
величины |
кристаллов |
|||
( < 1 0 - 5 |
см), повышением |
степени |
искажения |
кристал |
|
лической |
решетки, уменьшением |
коэффициента |
погло |
||
щения рентгеновских лучей |
искомой фазой |
чувствитель- |
|||
204
ность рентгеновского метода фазового анализа умень
шается. |
|
|
|
б) |
К о л и ч е с т в е н н ы й |
ф а з о в ы й |
а н а л и з. Этот |
метод |
анализа основан на |
измерении |
интенсивности |
линий |
на рентгенограмме, |
принадлежащих данной фа |
|
зе, поскольку интенсивность линий при прочих равных условиях пропорциональна количеству искомой фазы в материале. Наиболее распространенный и точный метод
количественного фазового анализа — метод |
внутренне |
го стандарта, сущность которого состоит в |
том, что к |
исследуемому материалу добавляют точно известное ко личество эталонного вещества. Путем тщательного пе ремешивания тоикодисперсных исследуемого и эталон ного веществ приготавливают серию смесей, характери зующихся различным содержанием эталона и искомой фазы. Определяют на рентгенограммах соответст вующих смесей интенсивности аналитических линий эталона и искомого вещества и строят градуировочный график в координатах «количество минерала в % —
Отношение /нсх.фазы : -/эталона».
Для проведения количественного фазового анализа клинкера и портландцемента в качестве внутреннего эта лона принимается флюорит (CaF2 ), так как интенсивные
его линии с d=3,16 А (2В = 28°10') находятся вблизи от аналитических линий минералов цемента. При выборе аналитических линий отдельных минералов клинкера исходят из того, чтобы они были как можно более ин тенсивными, не накладывались на другие линии и были расположены достаточно близко одна от другой. Ю. С. Малиннным в физико-химической лаборатории НИИЦемента в качестве аналитических линий выбраны:
для С3 А—2,70 А (20 = 33°О4'), для C4 AF —2,63 А (29 =
= 33°56'), для C3S — 3,02 А (29 = 29°28'), для C2S—2,86 А (6 = 15°35/ ).
Поскольку подавляющее большинство линий C2S на кладывается на линии других клинкерных минералов, а также потому, что выбранный в качестве аналитиче-
о
ской линии пик с с/=2,86 А имеет весьма небольшую интенсивность, точность количественного определения C2S относительно менее велика. Рентгенограммы основ ных минералов клинкера, на которых аналитические линии заштрихованы, приведены на рис. 49.
205
фикацни минералов, заштрихова ла 6361595155 535t W7WW/JJ 3735 33 3129172523 ftН Ь | )
206
Эталонные смеси минералов для получения градуировочных кривых составляют из искусственно синте зированных минералов С3 А, C4AF, C3S и C2S. Состав смесей должен характеризоваться значительным, коле банием содержания одного из минералов при постоянст ве содержания других. Смеси измельчают до полного прохождения через сито № 006, после чего от каждой
CjS% |
czs% |
Рис. 51. Градуировочные графики для ко личественного опре деления содержания минералов C3S, C2S, С3 А и CiAF рентге новским методом
|
|
0,1 0/ |
0,3 ОЛ 0,5 0,6 |
0,1 0,2 0,3 Ofi 0,5 0,6 |
|||||
|
|
|
|
|
ЩА |
|
|
JC^AF |
|
|
|
|
|
JCaFz |
|
|
3CaFz |
||
из них берется навеска, равная 2 г, к которой тщатель |
|||||||||
но примешивается |
0,5 |
г |
CaF2 |
(25%)- |
Каждую |
пробу |
|||
набивают в держатель |
из |
оргстекла |
диаметром |
20 |
мм |
||||
и глубиной 1 мм, |
счищая |
излишек |
материала |
ножом. |
|||||
Съемку ведут при |
вращении |
образца |
в своей плоскости |
||||||
и скорости поворота счетчика |
с |
v ==0,5 град!мин |
в |
ин |
|||||
тервале углов 26—36°. Каждую |
пробу |
снимают |
четыре |
||||||
раза с «перенабивкой» образца. Получаемые рентге нограммы имеют вид, приведенный на рис. 50. На рент генограммах измеряют интенсивность линий, считая за начало пиков уровень фона, и по полученным результа там строят градуировочные графики для количествен ного определения соответственно C3 S, C2 S, С3 А, C4 AF.
207
Эти графики, приведенные на рпс. 51, построены в ко ординатах «процентное содержание минерала в эталон ной смеси — отношение интенсивности аналитической линии минерала к аналитической линии CaF2».
Ошибки рентгеновского анализа могут быть следую щими: при анализе долго лежавшего цемента, в кото ром могла пройти частичная гидратация, возможно
О
наложение аналитической линии C3S (3,02 А) на линию
о
3,03 А, относящуюся к кальциту; неточность определе ния C4 AF и С3 А может быть вызвана образованием между ними твердых растворов. Для получения надеж ных данных содержание С3А и C4 AF в клинкере должно быть не менее 5%, a C2S — не менее 15%.
§ 4. ЭЛЕКТРОННО - МИКРОСКОПИЧЕСКИЙ АНАЛИЗ
Электронный микроскоп, как и световой, применяют для увеличения объекта. Современные электронные
микроскопы дают полезное |
увеличение до 300 000 раз, |
что позволяет различать |
о |
частицы размером 3—5 А. |
Такое большое увеличение стало возможным в резуль
тате использования |
электронных лучей, |
волны которых |
|
во много раз короче волн видимого света. |
|
||
С помощью электронного микроскопа можно изу |
|||
чить: |
1) форму и |
размеры отдельных |
субмикроскопи |
ческих |
кристаллов; |
2) процессы роста |
и разрушения |
кристаллов, протекающие как в растворе, так и в твер дой фазе; 3) процессы, протекающие иа границах зерен; 4) процессы диффузии при реакциях в твердой и жид кой фазах; 5) фазовые превращения при термической обработке и охлаждении; 6) механизм деформации и разрушения и др. Изучение формы и размеров кристал лов может быть осуществлено прямым методом иссле дования в прозрачных препаратах (на просвет), при анализе же других явлений и процессов применяют косвенные методы исследования на специальных препа ратах, представляющих собой слепки с поверхности шли фов — реплики.
Оборудование и материалы. 1 — анализируемое вещество; 2 —
электронный микроскоп; |
3— приборы |
для приготовления |
препара |
тов; 4—фотопластинки; |
5 —реактивы |
для проявления |
фотопла |
стинок. |
|
|
|
208
На рис. 52 схематически показан ход лучей в элек тронном микроскопе УЭМ-100.
По своему принципу оптическая схема электронного микроскопа близка к схеме обычного светового микро
скопа. Катод |
|
представляющий |
собой |
вольфрамовую |
||||||||
проволоку, при накаливании испускает электроны |
(элек |
|||||||||||
тронная эмиссия). Из-за разности по |
|
|
|
|||||||||
тенциалов между катодом и анодом, |
|
|
|
|||||||||
равной |
нескольким |
десяткам |
кило |
|
|
|
||||||
вольт, электроны |
со значительной ско |
|
|
|
||||||||
ростью движутся к аноду и проходят |
|
|
|
|||||||||
через анодную диафрагму 2 в магнит |
|
|
|
|||||||||
ную линзу 3. Линза фокусирует пучок |
|
|
|
|||||||||
электронов в плоскости объекта 4. |
|
|
|
|||||||||
Электроны, |
проходя |
сквозь |
кристал |
|
|
|
||||||
лы препарата, взаимодействуют с эле |
|
|
|
|||||||||
ктронными |
оболочками |
составляю |
|
|
|
|||||||
щих их атомов и вследствие этого их |
|
|
|
|||||||||
движение отклоняется |
от |
прямолиней |
|
|
|
|||||||
ного, т. е. они |
в той или иной |
степени |
|
|
|
|||||||
рассеиваются. |
Степень |
рассеивания |
|
|
|
|||||||
электронов |
зависит |
от |
толщины |
и |
|
|
|
|||||
плотности |
объекта. |
Тонкие |
участки |
|
|
|
||||||
объекта |
слабо |
рассеивают |
электроны, |
|
|
|
||||||
поэтому проходящий через них пучок |
|
|
|
|||||||||
частиц |
остается |
интенсивным |
и |
спо |
|
|
|
|||||
собен вызвать |
яркое свечение |
фикси |
|
|
|
|||||||
рующего экрана. Толстые |
же |
плотные |
Рис. |
52. Схема хо |
||||||||
участки |
объекта, |
наоборот, |
сильно |
да |
лучей |
в элек |
||||||
рассеивают |
электроны, вследствие |
че |
тронном |
микро |
||||||||
го значительная их часть не попадает |
скопе УЭМ-100 |
|||||||||||
на фиксирующее |
устройство, |
а- та часть, которая |
попа |
|||||||||
дает, воздействует на |
него слабо. |
|
|
|
|
|||||||
Прошедшие сквозь объект электроны попадают во вторую магнитную линзу 5, которая создает в плоскости 6 увеличенное изображение объекта. Чтобы сделать это электронное изображение видимым, в данной плоскости устанавливают флюоресцирующий экран, который в ре зультате бомбардировки его электронами начинает све титься. Получаемое видимое изображение объекта назы вают промежуточным. Часть электронов, несущая опре деленные фрагменты общего изображения, проходит че рез отверстия в центре экрана и при помощи третьей маг нитной линзы 7 фокусируется, в увеличенном виде в
14—201 |
209 |
