Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Локальные методы анализа материалов

..pdf
Скачиваний:
15
Добавлен:
25.10.2023
Размер:
13.21 Mб
Скачать

32.

К р и ш т а л

 

М. А., К о р в а ч е в

В. Д. В

сб. «Вопросы ме­

талловедения и прочности металлов и сплавов»,

вып. 3.

Приокское

книжное изд-во, 1968, с. 74

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

33.

К р н ш т а л

 

М. А., К и с е л е в

В. Ю., Ш е і'і н д л и н

Б.

Е.

Журнал

прикладной

 

спектроскопии,

1969, т. 11, №

1, с. 5.

 

 

 

34.

К у д е л я

Е. С. Автоматическая

сварка,

1951, № 3, с. 2.

 

35.

К о р о л е в

Н. В. и др. В сб. «Новые методы

испытания ме­

таллов». Металлургнздат,

1963, с. 138.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

36.

Г а л о я н

А. А.,

К о р о л е в

Н. В. ДАН

АрмССР,

1963,

т. 37, № 4, с. 217.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

37.

К о р о л е в

 

Н. В. и др.

В

сб.

«Металловедение

титана».

Изд-во

«Наука»,

1964, с. 117.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

38.

Г е н к и и А. Д.,

 

К о р о л е в

 

Н. В. Геология

рудных место­

рождений, 1961, № 5, с. 64.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

39.

De s c a m p

 

J. Recherche Aeronautique, 1953, № 32, p. 39.

 

40.

H и к и ф о р о в а Е. Ф.,

Т а р а с е

н к о А. Я. Вестник ВНИИ

железнодорожного транспорта,

1964, № 8, с. 43.

-

 

 

 

 

 

 

 

 

41.

Н и к и ф о р о в а

Е. Ф. Журнал

прикладной

спектроскопии,

1968, т. 8, № 4, с. 574.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

42.

Ж у к о в

А. А.

Литейное

производство,

1958,

 

12,

с.

29.

43.

Ж у к о в

А.

А. Литейное

производство,

1959,

1,

с.

36.

44.

К р н ш т а л

 

М. А. и др. Литейное

производство,

 

1960, № 2 ,

с. 28.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

45.

Р и к м а н

Э. П. и др: В сб. «Вопросы

металловедения

и

прочности металлов

 

и сплавов», Тула,

Приокское

изд-во, 1968, с. 182.

46.

К о к о р а

А. Н., Р и к м а н

Э. П. Физика

и химия

обработ­

ки материалов, 1968, № 1, с. 11.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

47.

В о д о в а т о в Ф. ф .

В

сб. «Технология

легких

 

сплавов»,

(ВИЛС), вып. 5. Изд. ВИЛ С, 1966, с. 13.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

48.

М а л и н о ч к а

Я- Н. и

др. Литейное

 

производство,

1963,

№ 1, с. 22.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

49.

Ж у к о в

А. А. Литейное

производство,

1965, № 11, с. 28.

 

50.

Ж у к о в

А. А. и др. В сб. «Повышение

производительности

труда в литейном производстве (труды XXII Всесоюзной

 

конферен­

ции литейщиков),

ч. I . Изд. НИИМаш,

1969, с. 353.

 

 

 

 

 

 

 

51. Д е м ь я н

ч у к А. С. и др. В сб. «Методы

эмиссионного ло­

кального'и микроспектралыюго анализа». Изд. ЛДНТП,

1964, с. 33.

52.

Сб. «Физические методы анализа следов

элементов»

(пе-

рев. с англ.). Изд-во «Мир», 1967.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

53.

A h e a r n

A. J.

Mass-spectrometric

analysis of

Solids,

1966.

54.

Ч у п а х и и

 

H . С. и др. ЖАХ, 1969, т. 24, № 3, с. 352.

 

55.

Ч у п а х и н

 

1-І. С. и др. ДАН

СССР,

 

1969, т.

184,

6,

с. 1372.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

56.

D e m p s t e r

 

A. J. Rev. Sci. Instr., 1936,

v. 7,

p.

46.

 

 

57.

С л и в к о в

И. Н.

и др. Электрический

 

пробой

и

разряд в

вакууме. Атомиздат, 1966.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

58.

G r a n b e r g

 

L. J. Appl. Phys.,

1952, v. 23, №

4, p. 518.

 

 

59.

В о у 1 е

W.

S. J. Appl. Phys., 1955, v. 26,

p. 720.

 

 

 

60.

П и в о в а р

 

Л. И., Г о р д и е н к о

В. И. ЖТФ, 1963, № 7

с. 908.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

61.

G o l d m a n

 

М.,

G o l d m a n

A.

J.

Phys.

(Paris),

1963,

v. 24, № 5, p. 303.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

62.

D e g e e t e r

 

D. I . J. Appl. Phys.,

1963, v. 34, №

4, p. 919.

 

63.

L i t t l e R. P. J. Appl. Phys.,

1963, v. 34, №

8,

p. 2430.

 

 

5Q

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

64.

А 1 р е г t

D., L е е D. A., L у m а п Е. М. J. Vacuum. Technol..

1964, v. 1, № 2, p. 35.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

65.

В г о d i e

I . J. Appl. Phys.,

1964, v. 35, № 8, p. 2324.

 

 

66.

И о и о в 1-І. И. ЖТФ, 1960, № 30, с. 561.

 

 

 

67.

П и в о в а р

Л. И ,

Г о р д и е н к о В. И. ЖТФ, 1962, №

32,

с. 1230.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

68.

B r a d l e y

R. С. J. Appl. Phys., 1962, v. 33, p. 880.

 

 

69.

F r a r i s e n J. Z. Naturforsch., 1963, Bd 18, H. 3, S. 397.

 

70.

W o o Is t o n

J.

R. and

H o n i g

R. E. Rev. Sci. Instr., 1964,

v. 35, p. 69.

 

 

 

 

H о n і g R. E. 12-th Annual Conferen­

71.

W о о 1 s t о n J. R. and

ce on Mass Spectrometry, 1964, p. 57.

 

 

 

 

 

72.

Р и к Г. P.

Масс-спектроскопня. Гостехтеоретиздат, 1953.

73.

S t e p h e n s ,

Phys. Rev.,

1934, v. 45, p. 123.

 

 

 

74.

M a t t a u c h

J.,

H e r z o g

R. Z. Phyz.,

1934, Bd 89,

12,

S. 786.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

75.

M a t t a u c h

J. Phys. Rev.,

1936, v. 50, № 7, p. 617.

 

 

76.

Ч у n a x и и

M . С. и др. ЖАХ, 1963, т. 18, p. 618.

 

 

77.

K a w a n o

H.

Bull.

Chem.

Soc.

Japan,

1964, v. 37,

5,

p.697.

78.Полупроводниковые соединения AIUBV. Под ред. P. Виллардсона и X. Геринга. Изд-во «Металлургия», 1967.

79.Б е й н о н Д. Масс-спектрометрия и ее применение в орга­ нической химии. Изд-во «Мир», 1964.

80.

Н і с k a m

W. М. and

S w e e n e y

G. G. Rev.

Sci. Instr.,

1963, v. 34, p. 783.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

81.

W a l l a c e

R. and

R o b o z

J. Annual Conference on

Mass

Spectrometry,

1963, p. 79.

 

 

 

 

 

 

 

82.

H i c k

a m

W. M . and

S w e e n e y

G. G.

Annual

Conference

on Mass Spectrometry, 1963, p. 57.

 

 

 

 

 

83.

F l e t c h e r

W. Mass

Spectrometry

Conference,

1962,

p. 79.

84.

Г л а в и и Г. Г. и др. ФТТ, 1965, № 7, с. 513.

 

 

85.

A h e a r n

A. J. J.

Appl. Phys., 1961, v. 32, p. 1197.

 

86.

H о d g s о n F.

N .

Tech.

Documentary

Report

No.

ASD—

TDR—63—383.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

87.

I n g r a m

M .

G.

J.

Chem. Phys. 22,

1954, v. 22,

№ 7,

p.1279.

88.К e s s 1 e г Т. a. H і с к a m W. M . Annual Conference on Mass Spectrometry, 1965, p. 90.

89.В і e m a n n К. a. M с С 1 о s к e у J. A. J. Am. Chem. Soc, 1962, v. 84, p. 2005.

90. Ч у n a x и н M . С. и др. ДА Н СССР, 1964, т. 158, № 3, с. 689.

Раздел 11

Лазерный

микроанализ

Г л а в а 1

Лазеры и эффекты, сопутствующие взаимодействию лазерного излучения с веществом

Крупнейшим открытием последнего десятилетия на­ шего века являются лазеры *. Явление усиления электро­ магнитных колебаний оптического диапазона при помо­ щи индуцированного излучения атомов и молекул лежит в основе работы лазеров [1]. Лазерное излучение так же, как и искру, в последние годы с успехом используют для аналитических целей, в частности в локальном ана­ лизе.

Понятие лазерного микроанализа включает фокуси­ рование лазерного излучения в исследуемую зону с по­ следующей регистрацией параметров образующейся микроплазмы аналитическими приборами.

Метод проектирования на щель оптического спектро­ графа микроплазмы, полученной при помощи «лазерного микроскопа» с последующей регистрацией оптического спектра пробы, носит название лазерного спектрального анализа. Основы лазерного микроанализа по оптическим спектрам подробно описаны в работе [39].

' Регистрация ионов микропробы датчиками масс-спек­ трометра в вакуумной измерительной камере с последу­ ющим разложением на масс-спектры и их идентификаци­ ей называется лазерным масс-спектральным анализом.

* Термин «лазер» образован из начальных букв слов следующего английского - выражения: light amplification by stimulated emission of radiation, что в русском переводе означает: «усиление света с по­ мощью индуцированного излучения». В отечественной литературе принято также обозначение лазеров буквами ОКГ (оптические кван­ товые генераторы).

Лазеры и лазерный микроскоп

Резонаторы и режим свободной генерации

Важнейшей неотъемлемой частью любого оптическо­

го квантового генератора

является резонатор. Оптиче­

ским

резонатором

лазера

будем

называть

систему из

двух

обращенных

друг' к другу

отражающих

поверхно­

стей, между которыми располагается активное вещество генераторов (например, кристалл рубина).

Основным назначением резонатора является осущест­ вление обратной положительной связи за счет возвраще­ ния некоторой части распространяющегося между отра­

жающими поверхностями излучения обратно

в среду.

Как известно из принципа работы

лазера [2],

активная

среда, находясь в неравновесном

состоянии,

способна

усиливать многократно проходящее через нее излучение. Процесс усиления тесно связан с направленностью из­ лучения. Наибольшее число раз через активную среду пройдут лишь те лучи, которые распространяются под очень небольшими углами к оси резонатора. Они в ос­ новном и будут определять выходную мощность. Лучи, идущие под большими углами к оси резонатора, при каждом отражении от зеркала будут все сильнее откло­ няться от оси и выходить через боковые поверхности ак­ тивной среды, не получив достаточного усиления, мощ­ ность их будет незначительной. Таким образом, резона­ тор выполняет в лазере важнейшие функции, определяя как само существование генерации, так и основные свой­ ства выходящего излучения. Наиболее широко использу­ ется резонатор с плоскими зеркалами, преимуществом

которого является простота в изготовлении.

Однако временное распределение излучения, выходя­ щего из резонатора с плоскими зеркалами характеризу­ ется хаотичностью и состоит из нескольких сот коротких импульсов длительностью около 2 мксе,к. Интервалы между всплесками могут быть порядка 5—10 мксек (рис. 20). Полная длительность импульса излучения со­ ставляет 0,5—1,0 мсек.

Хаотичность пульсаций лазера и очевидное отсут­ ствие их повторяемости, по-видимому, вызваны различ­ ными факторами. Одним из этих факторов является не­ однородное возбуждение активной среды. В связи с этим вынужденное излучение развивается в каждой части ак-

ТЇІВНОГО элемента с различной скоростью и не одновре­ менно. Временное распределение излучения лазера су­ щественно зависит и от конфигурации резонатора. Вооб­ ще нерегулярный сигнал получается в системах с раз­ личной добротностью для многих возможных типов коле­ баний, что имеет место в генераторах с резонаторами из

1 1 1 1

м м

м м

M i l

1

1 1

Г " n i l

M i l

1

1 1 1 1

1 1

1 1 1 1 1

1 г I I

I I 1 1

і і і і

і і 11

I t

1

1 1 І 1 1 1 1 I 1

1

I 1 1 1

1 1

1

11

0JU

 

 

 

u

 

 

 

 

u

 

 

 

 

 

 

j

.

 

 

 

і

Рис. 20. Осциллограмма излучения рубинового лазера в резо­ наторе с плоскими зеркалами (1 деление — 5 мксек)

плоских зеркал. В этом случае одновременно возникает небольшое число поперечных типов колебаний, с течени­ ем времени одни типы сменяются другими. Регулярный выходной сигнал может, наблюдаться, если в системе воз­ можно возбуждение только одного типа колебаний или большого числа типов колебаний с примерно одинаковы­ ми добротностями.

Условия для возникновения большого числа типов ко­ лебаний с мало различающимися добротностями наибо­ лее благоприятны в резонаторах, образованных сфериче­ скими зеркалами, или в конфокальных резонаторах.

Конфокальный резонатор может быть образован сфе­ рическими или параболическими зеркалами. Сфериче­ ские зеркала должны иметь одинаковую кривизну и сов­ падающие фокусы.

Врезонаторе со сферическими конфокальными зер­ калами существуют те же нормальные типы колебаний, что и в плоскопараллельном резонаторе. Однако поверх­ ности зеркал в конфокальном резонаторе являются по­ верхностями равных фаз, т. е. распределение фазы по по­ верхности зеркала однородно. Электромагнитное поле значительно сильнее сконцентрировано у оси отражателя

ипадает на краях до меньшей величины, чем в резонато­ ре с плоскими зеркалами.

Вработах [3, 4] рассмотрен более упорядоченный режим временного распределения в лазере на рубине

.с конфокальными резонаторами. В работе [5] также со­ общается о получении регулярного временного распре­ деления излучения лазера на неодимовом стекле с резо­ натором из сферических зеркал при различных расстоя­ ниях между ними. В работе показано, что периодический режим временного распределения зависит от расстояния между зеркалами и расположения их относительно гене­ рирующего стержня.

Во всех экспериментально исследованных случаях импульс генерации состоял из регулярно следующих друг за другом пичков одинаковой формы.

Работа лазера

в режиме модулированной добротности

Описанное выше временное распределение излучения в плоском и конфокальном резонаторах соответствует так называемому режиму свободной генерации. Однако, используя те же резонаторы, на выходе из оптического квантового генератора можно получить всего один им­ пульс.

Одним из методов получения моноимпульса является режим с модуляцией добротности резонатора.

При работе обычного лазера излучение начинается до окончания накачки. Это обстоятельство мешает переводу большей части активных частиц в возбужденное состоя­ ние. Однако есть возможность обеспечить такое состоя­ ние рабочего вещества, при котором почти все его актив­ ные частицы будут находиться в возбужденном состоя­ нии. Это состояние может возникнуть еще до наступле­ ния генерации. Следовательно, для достижения таких условий необходимо исключить генерацию до тех пор, пока не кончился процесс накачки.

В работающих системах для получения моноимпуль­ сов между стержнем лазера и одним из зеркал помеща­ ют оптический затвор. В момент накачки, когда импульс­ ная лампа-вспышка включена, затвор не пропускает све­ та к зеркалу и отражения не происходит. И хотя очень большое число частиц активного вещества переведено в возбужденное состояние, генерация не возникает. Когда процесс накачки заканчивается и число возбужденных ионов достигает максимума, затвор быстро открывается. Вслед за этим в стержне мгновенно возникает генерация. Вся энергия, запасенная в возбужденных ионах актив-

ного вещества, освобождается в одном гигантском им­ пульсе-взрыве. Длительность такого импульса составля­ ет около Ю - 8 сек, и мощность сфокусированного излуче­ ния достигает 10" вт/см2. На рис. 21 показан импульс, полученный при модулировании добротности резонатора.

Однако энергия в импульсе на выходе из лазера не возрастает, а даже уменьшается вследствие дополнитель-

900

О

0,2

ОМ

0,6

0,8

1,0

I.Z

>j

 

 

 

Врепя ,пксек

 

 

 

Рис. 21. Осциллограмма

моиокмпульса (режим

модуля­

 

ции

добротности

резонатора)

 

 

ных потерь, вносимых в резонатор

затвором. Возрастает

только мощность.

Принцип действия затвора иначе можно рассматри­ вать с точки зрения внесения им переменных потерь в ре­ зонатор, что приводит к изменению добротности резона­ тора. Именно по этой причине лазеры, излучающие ко­ роткие и мощные моноимпульсы, называют генераторами с переменной или модулированной добротностью. По­ скольку добротность обычно обозначается Q, то рассмат­ риваемые лазеры называются иногда лазерами с Q-моду- ляцией. Наконец, имея в виду огромную мощность излу­ чаемых импульсов, их называют также генераторами гигантских импульсов.

В настоящее время в качестве затворов используют различные устройства, действие которых основано на механ-ических, акустико-оптических или фотохимических эффектах прерывания света [6] .

Лазерный микроскоп

Во всех лазерных микроанализаторах существует си­ стема визуального наблюдения за взаимодействием ла­ зерного излучения с поверхностью исследуемого мате-

риала. Соединение внешней энергетической оптической системы, через которую проходит луч лазера, с наблю­ дательной системой принято называть лазерным микроскопом. Таким образом, при помощи лазерного микроско­ па можно не только фокусировать на изучаемую поверх­ ность луч лазера, но и одновременно наблюдать и из­ мерять облученную зону.

3

Рис. 22. Схема лазерных микроскопов:

/ — лазер; 2 — образец; 3—осветитель; 4, 5 — зеркала

Схемы лазерного микроскопа для оптического эмис­ сионного спектрального и масс-спектрального анализа несколько различаются в связи со спецификой методов, но принцип работ один и тот же. На рис. 22 представле­ ны схемы лазерных микроскопов для спектрального и масс-спектрального анализов.

Как указывалось выше, оптические квантовые генера­ торы излучают в очень небольшом телесном угле, т. е. ла­ зеры можно рассматривать как источники почти парал­ лельных лучей с малой расходимостью.

Однако с удалением от резонатора расходимость све­ тового луча увеличивается. Уменьшить расходимость в этом случае нам поможет фокусирующая система ла­ зерного микроскопа. Рассмотрим, какой наименьший диаметр фокального пятна мы сможем получить, фоку­ сируя луч рубинового лазера с длиной волны %=0,7 мкм на излучаемую поверхность.

В образовании фокального пятна участвует дифрак­ ция, увеличивая его размер. Освещенное лучом лазера место на поверхности мишени окружено большим числом

темных и светлых дифракционных колец. Согласно рас­ четам [7], диаметр пятна, ограниченного первым ди­ фракционным кольцом, будет равен:

 

d =

2-о,б

п;и,

 

 

Я—длина волны мкм;

 

 

 

 

U— апертурный угол, равный отношению

диаметра

фокусирующей линзы к удвоенному фокусному

расстоянию.

 

 

 

 

 

Так, например, при апертуре, равной 0,65, луч может

быть сфокусирован

в

фокальное

пятно

диаметром

1,3 мкм. При таком диаметре облученной зоны

плотность

излучения 1 лазера может достигнуть

101 2 вт/см2.

Для лазеров, работающих в режиме свободной гене­

рации с пичковым временным распределением

излучения,

плотность мощности

составляет

106—108 вт/см2 при дли­

тельности импульса 0,5—5 мсек. Мощность, выделяемая лазерами с модуляцией добротности, соответствует ин­ тервалу 107—10" вт/см2 при длительности импульса 30—100 нсек.

При микроанализе можно применять, кроме спе­ циально разработанных лазерных устройств, маломощ­ ные универсальные лазерные установки. В табл. 1 приве­ дены некоторые данные используемых в микроанализе лазерных микроскопов, выпускаемых промышленностью.

ТАБЛИЦА 1. Д А Н Н Ы Е Л А З Е Р Н Ы Х М И К Р О С К О П О В . И С П О Л Ь З У Е М Ы Х В Л А З Е Р Н О М М И К Р О А Н А Л И З Е

Тип лазерной

Д л и н а

Энергия

выхода, О х л а ж д е н и е

установки

волны, мкм,

 

 

дж

Р а с х о ­

Длитель ­

ность

димость,

импуль­

мин

са, мсек |

Раздан

0,69

2

Водяное

1

СУ-1

0,69

< 1

Воздушное

20

1

 

0,69

 

 

 

5

к-зм

0,69

<1,5

 

15

1-5

LMA-1'

1,06

0,2

»

10

1

МСЛ-2

1,06

0,4

Водяное

15

0,75

1 В технической

литературе также употребляется выражение

«плотность

мощности».

 

 

 

О механизме взаимодействия излучения лазера с веществом

Режим свободной генерации

Рассмотрим теперь, как действуют на материалы мощные световые пучки, получаемые от лазеров, рабо­ тающих в режиме свободной генерации.

Оптические свойства [8] металлов удовлетворитель­ но описываются моделью свободных электронов. Сог­ ласно этой модели, не отраженный от поверхности ме­ талла свет практически полностью поглощается. Погло­ щение происходит по закону Бугера—Ламберта:

(б — коэффициент поглощения; / и /о — плотность све­ тового потока на расстоянии х от облученной поверхно­ сти и в падающем пучке соответственно). Толщина слоя, в котором поглощается излучение: 1/6= 104— 105 см~1.

Для полупроводниковых же материалов поглощение света зависит от соотношения энергии кванта hv и ши­ рины зоны запрещенных энергий АЕ. Если hv<.AE, то в идеальном полупроводниковом кристалле поглощение определяется свободными носителями и составляет не­

значительную величину

(0,1—0,01 см~1 при

комнат­

ной температуре). Если

hv>AE, то основное

поглоще­

ние связано с переходами электронов из валентной зоны в зону проводимости.

Поглощение

в этом случае может достигать

104

105 слН [9].

 

 

Поглощение

света, как в случае металлов, так

и в

случае полупроводников приводит прежде всего к повы­ шению температуры Те газа валентных электронов. На­ гревание решетки происходит в результате обмена энер­ гии между электронами и решеткой. Время передачи энергии решетке электронным газом, нагретым излуче­

нием, составляет Ю - 1 1 сек.

 

 

Поскольку в слое толщиной Ю - 4 — Ю - 5 см

электрон­

ный газ нагревается за время действия

лазерного пика

Ю - 5 — Ю - 6 сек, то разность температур

между

электрон­

ным газом и решеткой в этом слое принимает стацио­ нарное значение.

С.повышением температуры поверхности материала отражательная способность уменьшается и вся погло­ щенная энергия переходит в тепло.

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ