
книги из ГПНТБ / Локальные методы анализа материалов
..pdf
ЛОКАЛЬНЫЕ МЕТОДЫ АНАЛИЗА МАТЕРИАЛОВ
М О С К В А « М Е Т А Л Л У Р Г И Я » 1 9 7 3
УДК 543.422 : 543.422. . . . . ;
і\ • .гг.т '
И.Б. БОРОВСКИЙ, Ф. Ф. ВОДОВАТОВ, А. А. ЖУКОВ, В. Т. ЧЕРЕПИН
УДК 543.422: 543.422 |
|
Локальные |
методы анализа материалов. |
В о р о в с к и |
її I I . Б., В о д о в а т о в Ф. Ф., Ж у к о в А. А., Ч е |
р е п и її В. Т. М., «Металлургия», 1973 г. 296 с.
Содержит сведения по выявлению микропримесеіі в материалах методами спектрального, масс-спектрального, рентгеноспектрального анализа, а также методами регистрации вторичной ионной эмиссии. Приведены результаты отечественных и зарубежных исследовании.
Предназначена для физиков и инженеров, разрабатывающих ме тоды контроля материалов, а также работающих в области полупро водниковой электроники, физического металловедения, методов ис следования и производства новых кристаллических материалов. Ил. 110, Табл. 18. Список лит. 424. назв.
Л |
3 1 1 1 — 0 9 2 |
Ш — 7 3 |
|
0 4 0 ( 0 1 ) — 7 3 |
© Издательство «Металлургия». 1973.
|
|
ВВЕДЕНИЕ |
|
|
|
|
|
||
Локальные методы |
исследования и анализа |
элемен |
|||||||
тов в |
микрообъемах |
представляют |
собой в |
настоящее |
|||||
время |
исключительно |
важное |
направление |
в |
науке, |
||||
быстро |
и эффективно |
развивающееся. Многие |
научные |
||||||
проблемы не могут быть |
решены |
без |
применения ло |
||||||
кальных методов. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
В настоящее время можно назвать, по крайней мере, |
|||||||||
десять различных локальных |
методов. |
|
|
|
|||||
Исторически одним из |
первых |
методов |
локального |
||||||
анализа большинства |
элементов |
Периодической |
систе |
||||||
мы явился метод оптической спектроскопии. |
|
|
|||||||
Преимуществом |
метода |
эмиссионной |
спектроско |
||||||
пии является возможность |
производить |
анализ |
любого |
элемента Периодической системы. Основной недостаток заключается в отсутствии точных методик для количе ственного анализа вследствие значительного влияния «третьих» компонентов и невозможности проведения по вторного анализа выбранного микрообъема.
Около 20 лет назад был открыт и разработан рентгеноспектральный локальный метод анализа элементно го состава по первичным рентгеновским спектрам. Этот метод за сравнительно короткий срок получил ми ровое признание и практически в настоящее время нельзя указать области науки и техники, где бы он ни применялся. Объемная локальность метода
0,3—0,1 мкм3, метод |
имеет |
очень высокую |
локальную |
||||
чувствительность |
Ю - 1 |
2 |
— Ю - 1 6 |
г при низкой |
относитель |
||
ной чувствительности, |
составляющей |
0,1—0,01% |
для |
||||
элементов от лития до урана. |
|
|
|
|
|||
В последние |
годы |
|
очень |
интенсивно |
начали |
разви |
ваться методы локального анализа, связанные с исполь зованием принципов масс-спектроскопии, т.е. основан ные на изучении спектров масс атомов элементов, полу ченных при использовании искрового и лазерного способа возбуждения. Одним из первых для локального массспектрального анализа был применен искровой массспектрометр.
1* |
3 |
При достаточно высокой чувствительности определе
ния примесей 10~7% |
(ат.) локальность |
этого метода, со |
ответствующая зоне |
обыскривания, |
невелика — около |
100 мкм. Искровой масс-спектрометр, |
по-видимому, бо |
лее целесообразно использовать для послойного анализа. Десять лет назад был разработан метод элементного
анализа по вторичной |
ионной |
эмиссии, использующий |
принципы масс-спектроскопии, |
но лишь в 1970 г. был |
|
начат промышленный |
выпуск |
опытной серии приборов. |
Пользуясь специальными приемами анализа, можно оп ределять и количественное содержание элемента. Чувст вительность регистрирующей системы такова, что с ее
помощью |
можно |
проводить послойный |
анализ состава, |
|
|
|
|
|
о |
последовательно |
снимая слои толщиной |
от 35 до 100 |
А и |
|
определяя |
концентрацию микроколичеств вещества |
до |
10- 6 %. По вторичной ионной эмиссии можно проводить анализ начиная с водорода до изотопа с массовым чис
лом >200. |
|
|
|
Поверхностная локальность |
метода составляет |
1 — |
|
2,5 мкм и определяется качеством ионной оптики. |
Про |
||
ведение количественного анализа по вторичной |
ионной |
||
эмиссии до сих пор представляет |
очень сложную |
задачу. |
В настоящее время при помощи рассматриваемых в книге методов локального анализа удалось изучить и ре шить большое число принципиально новых и важных в научном и практическом отношении задач. Так, напри мер, уже коренному пересмотру подверглось понятие од нородности сплава, соединения, минерала. Оказалось, что в очень большом числе случаев малые примеси, вво димые, например, в сплавы, концентрируются по грани цам зерен или образуют микроскопические включения с элементом примеси, количество которого в шихте состав ляет 10~4%, а в микроскопическом соединении порядка де сятков процентов. Были решены многие вопросы, связан ные с подвижностью атомов в твердом состоянии; полу чены новые данные о перераспределении элементов при механико-термической обработке сплавов, о распределе нии примесей в процессах искусственного и природного роста кристаллов; определено валентное состояние ато
мов |
в микроскопических областях и включениях и |
т. п. |
Нет никакого сомнения, что методы локального |
ана |
|
лиза |
будут играть все возрастающую роль в современ |
|
ной |
науке и технике. |
|
Раздел I
Искровой спектральный и масс-спектральный локальный анализ
Глава 1'
Анализ микропробы
по оптическим спектрам
Основы эмиссионного спектрального анализа и его особенности при проведении локального анализа
Определение химического состава методом оптической эмиссионной спектроскопии основано на регистрации света, испускаемого атомами искомых элементов при сообщении им энергии. В результате поглощения энер гии валентные электроны переходят в возбужденные состояния, находящиеся энергетически выше их нор мальных стабильных уровней (в локальном спектраль ном анализе возбуждение атомов происходит в микро искре между зондирующим электродом и исследуемым образцом). Энергия, необходимая для возбуждения ва лентных электронов и их перехода на уровни, достаточ но высокие для того, чтобы произошло испускание света, невелика (1 —10 эв). Оптические эмиссионные спектры( таким образом, зависят от поведения периферийных эле ктронов в атомах в отличие, например, от спектров масс, которые зависят от свойств атома.
Эмиссионный спектральный анализ особенно приго ден для анализа веществ в твердом состоянии (меньше для жидкостей и газов). Количественный эмиссионный микроанализ основан на использовании существующей зависимости интенсивности какой-либо спектральной ли* нии элемента в зарегистрированном спектре от его коли чества в аналитическом промежутке. В первом прибли жении можно считать, что при стабильных условиях воз буждения вещества в промежутке существует линейная
зависимость интенсивности спектральной линии от коли чества анализируемого элемента в пробе [1]:
КС,
где 1Л— интенсивность спектральной линии;
К—постоянная |
величина; |
С—содержание |
элемента в анализируемой пробе. |
Задачей количественного микроанализа является оп ределение содержаний всех элементов в пробе. При фо тографическом методе регистрации спектров микроиск ры содержание элементов определяют на основе фото метрической обработки спектрограмм. Однако вследст
вие |
природы |
одного из |
главных |
исходных |
материалов |
||||||
|
|
|
|
|
для |
высокочувствитель |
|||||
|
|
|
|
|
ных пластинок — желати |
||||||
|
|
|
|
|
ны |
нельзя |
ожидать |
иден |
|||
|
|
|
|
|
тичности |
различных |
пар |
||||
|
|
|
|
|
тий фотоэмульсии. Учесть |
||||||
|
|
|
|
|
невоспроизводимость |
фо |
|||||
|
|
|
|
|
тоэмульсин |
можно |
пост |
||||
|
|
|
|
|
роением |
характеристиче |
|||||
0,001 |
0,01 |
0,1 |
1,0 |
ской кривой |
плотность |
||||||
|
|
Экспозиции |
|
почернения |
— экспозиция |
||||||
Рис. |
1. |
Характеристическая |
кри |
для |
каждой |
фотопластин |
|||||
ки. |
По |
мере |
увеличения |
||||||||
|
|
вая фотоэмульсии |
|
||||||||
|
|
|
интенсивности |
линии |
воз- |
||||||
|
|
|
|
|
растает плотность почернения 5 изображения этой ли нии на фотопластинке. Зависимость интенсивности от плотности очень сложна, она обусловлена экспозицией, типом эмульсии и длиной волны излучения, многими вто ричными факторами. Типичная характеристическая кри вая приведена на рис. 1.
Она имеет ^-образную форму с прямолинейным уча стком в середине. Максимальную точность анализа мож но получить при работе на этом участке, называемом об ластью нормальных почернений.
Процесс количественного анализа намного упростился бы, если бы можно было измерять интенсивность линии только определяемого элемента. На практике при изме рении интенсивности линии определяемого элемента вво дят поправки.
Первая поправка вводится на элемент (внутренним стандартом), специально добавляемый в пробу в опреде ленной концентрации. Такая поправка называется внут ренней стандартизацией. Внутренним стандартом может
служить и основной элемент пробы. В этом случае ин тенсивности спектральных линий основного компонента могут служить основой для сравнительной оценки коли чества определяемого элемента. Аналитические линии основного и анализируемого элемента называют аналити ческой парой.
Отношение интенсивностей линий аналитической пары не должно зависеть от изменения условий разряда и должно определяться отношением концентраций,- кро ме -того, линии должны соответствовать одинаковой сте пени ионизации (чаще всего используются линии одно кратно ионизированных атомов).
Отношение интенсивностей линий анализируемого эле мента и основного особенно нестабильно в начальный пе риод искрового разряда вследствие усиленного протека ния окислительно-восстановительных процессов, измене ния химического состава поверхности рабочей части элек тродов (исследуемый образец сам служит электродом)
при переносе |
на них анализируемого |
вещества |
и пр. |
|
В связи с этим до начала снятия спектрограмм |
преду |
|||
сматривается |
начальный |
«холостой» |
период работы — |
|
обжиг для дугового и |
предварительное обыскривание |
для искрового источников. При локальном анализе этот период необходимо стремиться свести до минимума — чем он дольше, тем больше область поражения исследу емого образца как по площади, так и по глубине.
Вторая поправка относится к учету фона: она исклю чительно важна в микроанализе. Учет сплошного фона наиболее прост в том случае, когда плотность почернения
фотопластинки, обусловленная |
наличием |
сплошного |
||
спектра, находится |
в |
области |
нормальных |
почернений, |
т. е. 5 ф > 0 , 3 (см. |
рис. |
1). Используя фотографические |
свойства фотопластинки, для плотности почернения на участке, где отсутствуют линии, можно написать:
где а—постоянная |
5ф = А + УІб/ф, |
(1) |
величина (инерция |
фотоэмульсии); |
|
у.— фактор контрастности фотопластинки; |
||
/ф— интенсивность фона. |
|
|
Плотность почернения фотопластинки |
на участке, где |
находится спектральная линия элемента, определяется выражением:
где |
5 л = а + у1ё(/л + /ф), |
(2) |
S„ — плотность почернения пластинки в месте рас |
||
|
положения спектральной линии; |
|
|
1Л — интенсивность спектральной |
линии. |
Из выражений (1) и (2) на основе определенных при фотометрической обработке величин Sn, 5ф и у можно найти следующее отношение интенсивности спектраль ной линии к интенсивности сплошного фона в месте рас положения этой линии:
£ с £ ф
- А = 10 7 — 1. |
(3) |
7Ф |
|
В случае, когда при помощи микроискры |
анализирует |
ся сложное вещество, в спектре будут линии всех имею щихся элементов. Некоторые линии можно применить для количественного определения элементов, т. е. исполь зовать их в качестве аналитических. Обозначим элемен ты, присутствующие в веществе, номерами 1, 2, 3, п. а интенсивность соответствующих им аналитических линий Л , h, h, •••> -Лі- Для каждой аналитической линии можно определить отношение интенсивности линии к интенсив ности фона по формуле (3). Обозначим эти отношения
соответственно Л , Pz, Pz, |
Рп: |
|
|
|
|||||
Р |
— ^х • |
Р |
--- |
^ • |
р = |
^3 . |
р |
_ |
^" |
1 |
' |
|
" |
^Фз |
3 |
^Фз |
" |
|
^Фп |
Отношения |
Р\, |
Pi, |
Ръ, |
Рп |
пропорциональны |
содер |
|||
жанию элементов в аналитическом промежутке. |
С ь С2, |
||||||||
Обозначим |
содержание |
элементов |
в пробе |
||||||
С3, |
С„. При отсутствии |
избирательности |
испарения |
искомые соотношения содержаний элементов могут быть найдены по формулам:
|
Р* |
|
|
|
|
Р3 |
С, _ / С 2 \ |
Р1 |
|
. |
С3 |
_ [ С 3 \ |
Рг |
|
Pi |
Lэт |
|
|
|
V Pi |
|
|
|
|
|
Рп |
|
|
|
с« |
\ |
|
Pi |
(4) |
|
Сі |
Сі |
} |
(Л.) |
||
|
|
|||||
|
|
|
|
\ |
Рг 1: |
|
В некоторых случаях необходимо знать процентное содержание элементов в анализируемой пробе. Спект ральным анализом обычно удается определить отноше ние концентрации всех элементов к концентрации того элемента, который условно обозначен номером один.
Спектроаналитически определяют отношения
Из условия |
С і + С 2 + С з + . . . + С 7 1 |
= |
100 легко |
опреде |
|||
лить и концентрации |
всех элементов, %" |
|
|||||
С1 |
|
|
|
100 |
|
|
|
= |
і |
^2 |
с 3 |
|
с„ |
|
|
|
|
| |
|
||||
|
|
-г "7Г~ + |
~7Г~ +• • |
|
С і |
|
|
|
|
|
Сх |
Сі |
|
|
|
|
|
|
1 0 0 - ^ |
|
|
|
|
С „ = |
|
F |
^ |
|
^ - |
(5) |
|
|
|
т |
Ci |
Cj |
|
С і |
|
Формулы (4) являются основными при определении отношения концентрации какого-либо элемента к кон центрации того элемента, который в пробе принят основ ным (элемент 1).
Однако следует отметить, что рассмотренная матема тическая запись физической модели количественного мик роанализа возможна лишь при выполнении неравенства Кайзера [2] для порога обнаружения:
/ф+л — / Ф > 31/20^,
где <3ф — квадратичная ошибка измерений фона.
Если концентрации ниже порога чувствительности, оп ределенного по Кайзеру, то различия /л +ф и /ф не позво ляют проводить определение концентрации. В этом случае, если чувствительность ограничена большой дис персией фона, ее можно повысить, увеличивая число измерений и повышая тем самым точность определения.
В результате левая часть |
неравенства станет больше |
|
правой, |
что и означает увеличение чувствительности. |
|
Для |
каждого элемента |
при вычислении отношений |
концентраций необходимо иметь спектр лишь одного эта лона. При этом, конечно, не учитывают возможности из бирательного испарения элементов и возможности изме нения условий возбуждения элементов в аналитическом промежутке, зависящие от изменения отношения концент раций CJCi. При этих вычислениях не учитывают воз можное влияние третьих элементов. Однако во многих случаях микроанализа эти влияния практически отсут-