Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Микроминиатюризация элементов радиоэлектронной аппаратуры

..pdf
Скачиваний:
31
Добавлен:
24.10.2023
Размер:
11.88 Mб
Скачать

ловленное конечным временем пролета носителей через об­ ласть структуры; второе слагаемое времени задержки (влия­ ние емкостей) на данном уровне технически является домини­ рующим и учитывается динамической моделью.

АНАЛИЗ ПЕРЕХОДНЫХ ПРОЦЕССОВ

В основу анализа переходных процессов положено уравне­ ние непрерывности, которое для одномерной модели имеет вид (ЛЗ):

d2

п

dn

. . .

.

п

 

- d

- r -

a ~ d -

- ( 1 + «

^

- ^ - 0 .

(6)

Всилу взаимной коммутативности операторов

дд2

dt дх~

величину 5 можно считать постоянной и искать решение отно­ сительно п в виде функции аргумента s.

При переходе рабочей точки из режима огсечки в режим насыщения, т. е. при анализе задержки и фронта импульса, ос­ новную роль играет активная область базы. По мнению боль­ шинства авторов, вполне оправдано для этого случая примене­ ние одномерной модели и модель описывается системой урав­ нений (рис. 1). С момента смещения эмиттерного перехода в прямом направлении полагается, что происходит коммутация в модели барьерной емкости на диффузионную, что же касает­ ся коллекторного перехода, то до момента времени пересече­ ния рабочей точкой линии насыщения последний характеризу­

ется барьерной емкостью Cf i K .

 

 

Решение системы дифференциальных уравнений

модели

осуществлялось численными методами

на ЦВМ «Минск-22».

На рис. 2 представлен результат расчета переходного про­

цесса обычного транзисторного ключа

при вариации

барьер­

ных емкостей эмиттерного и коллекторного переходов без уче­ та диффузионных емкостей.

На рис. 3 представлен результат исследования влияния на переходный процесс коэффициента усиления по току а модели.

Выводы

1. Применение численных методов открывает широкие воз­ можности по повышению точности расчета переходных процес­ сов в связи с учетом на каждом шаге интегрирования конкрет­ ных значений барьерных емкостей таких, как функции «£/»,

30

32

2, Из сравнения рис. 2 и 3 видно, что для современных планарных транзисторов наряду с учетом барьерных емкостей на переходные процессы следует учитывать зависимость ж от час­ тоты. Прямое дифференцирование модели без учета частотной зависимости коэффициентов приводит к значительным погреш­ ностям.

3. Из рис. 2 можно сделать вывод, что с точки зрения обес­ печения оптимального соотношения «машинное время — точ­ ность расчета» для транзисторов с величиной барьерных емкос­ тей более 4 пФ можно пользоваться упрощенной моделью, для емкостей меньше 4 пФ — полной моделью.

ЛИТЕРАТУРА

1. С п и р и д о н о в Н. С. Основы теории транзисторов. Киев, «Техиіка», 1969.

УДК 621.382,323

В. Л. Евецкий

СТАТИЧЕСКИЕ МОДЕЛИ МОП ТРАНЗИСТОРОВ

В статье сделан

обзор статических моделей МОП

транзисторов,

проведено сравнение

моделей по точности

учета основных

факторов, влияющих

на работу транзис­

тора.

 

 

 

 

Точность машинного расчета характеристик ИС определя­

ется точностью моделирования

активных

и пассивных компо­

нентов. Поэтому вопрос моделирования

МОП транзисторов

(МОПт), являющихся одним из наиболее перспективных эле­ ментов интегральной электроники, представляет значительный интерес.

I . Простейшая вольт-амперная характеристика (ВАХ) МОПт имеет вид:

крутая обл. ВАХ (триодный режим)

,

CoV.W

V2

 

 

(1)

I с

Г

 

пологая обл. ВАХ (пентодный режим, режим насыщения)

/с = — ° 2 ^ - ( Ѵ9 - Fnop)2 ; при Vt > 1/3 - V m t ,

(2)

3. Зак. 205,

33

где

/ с — ток стока МОПт;

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

W—ширина

канала МОПт;

 

 

 

 

L — длина канала

МОПт;

 

 

 

 

|і — подвижность

носителей;

 

 

 

С0 — емкость изолятора затвора на единицу площади;

^з.

— напряжения

затвора

и стока

соответственно.

 

 

Ѵ„ор = ®MS

-

-

т ^

+ К Х Ѵ

Р

,

(3)

где

пороговое напряжение МОПт;

 

 

 

^ п о р

 

 

 

Фм5 — разница работ выхода

металл-полупроводник;

 

Qss

заряд поверхностных

состояний

на единицу

пло­

 

щади;

 

 

 

 

 

 

 

 

<£>F — потенциал

Ферми.

 

 

 

 

 

 

K

^

V

^

Ö W

D ,

 

 

(4)

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

£0

— диэлектрическая

проницаемость

свободного

про­

 

странства;

 

 

 

 

 

 

 

 

No — концентрация примесей в подложке;

 

esl

— диэлектрическая проницаемость кремния;

 

q

— заряд электрона.

 

 

 

 

 

2. В рг.боте [!] на базе уравнения (1) с помощью разделения тока стока на две составляющие и введения нового нелинейно­ го двухполюсного элемента (идеального полевого диода) была получена эквивалентная схема, представляющая собой аналог эквивалентной схемы Эберса—Молла для биполярного тран­ зистора. Эквивалентная схема позволяет получить полную си­ стему статических характеристик, включая характеристики инверсного режима, которые обычно опускаются из рассмотре­ ния.

Простейшие модели 1, 2 хорошо описывают основные прин­ ципы работы МОПт, однако не обеспечивают достаточно хоро­

шего совпадения с экспериментальными данными.

 

Рассмотрим более точные модели, учитывающие

различные

факторы, влияющие на работу МОПт.

 

 

УЧЕТ ВЛИЯНИЯ ЗАРЯДА ОБЕДНЕННОГО СЛОЯ

Влияние заряда обедненного

слоя становится

значитель­

ным в области малых токов ( Ѵ3 ~

Ѵпор),

а также при работе

в режиме насыщения, или близком к нему.

 

 

В первом случае

( Ѵ3 ~ Ѵпор)

инверсионный слой не успе­

вает сформироваться

полностью, поэтому

напряжение Ѵ3 не

34

может управлять проводимостью канала в соответствии с урав­ нением ( 1 ) .

3. В работе Баррона [2] получено выражение, определяющее ток стока (без учета тока утечки обратно-смещенного диода сток-подложки, который может быть легко учтен) в этом режи­

ме. Согласно работе [2], при

Ѵ3 ~

Ѵ„

 

 

 

 

 

 

 

 

пор

 

 

 

 

qW D„nl L D

e ' w r

 

Ч

1 +

e KT

(5)

 

V

 

 

 

KT

 

кт

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

 

 

 

 

 

 

 

 

Dp

— коэффициент диффузии дырок;

 

 

Vs

собственная

концентрация;

 

 

 

— поверхностный потенциал;

 

 

 

LD — собственная длина Дебая;

 

 

 

К — постоянная Больцмана.

Ѵ3 ~

 

 

 

Таким образом, ток стока при

1/,пор

меняется экспо-

ненциально с изменением Ѵ3

и

Ѵс.

 

 

 

Во втором случае (при работе МОПт вблизи насыщения)

влияние заряда обедненного слоя

приводит к тому,

что пере­

гиб ВАХ имеет место при более низком напряжении и токе сто­

ка, чем это следует из простейшей

модели.

 

 

4. Наиболее строгое рассмотрение проведено Ca и Пао [5],

их модель имеет вид:

 

 

 

 

С0

\iW

\ ( Ѵ 3 - Ѵ П О Р ) Ѵ С -

vi

 

— - с - <ïv

Ѵв

1 + 2Фг-

31/ C

— 1

(6)

4 Ф Р

 

Ѵв

 

 

(7)

где

 

 

 

 

^ п о р ~ ®MS

Qs

- f

2Фр + Ѵв ;

(8)

 

ѴВ=>КХѴ

2Фг .

 

 

(9)

35

Напряжение насыщения тока стока (точка перегиба харак­ теристики):

^си '•=

^пор +

+ ~щ;

 

- Ѵв /

1

-LS—

Ѵ3

- У,,*, + Ѵв

(10)

 

Р

 

 

 

 

 

Следует отметить также модели, занимающие промежуточ­ ное положение по точности между простейшей и моделью Ca и Пао. Они привлекают своей простотой.

5. В работе [4] Грин и Солдано предлагают следующие вы­ ражения для /С І 1 :

Со V.W

(

— Wop.vi)" ,

( П )

2L

 

 

 

где

Vпор.M

модифицированное пороговое напряжение.

6.Дасом [3] получены полезные аппроксимации для триодного режима (в случае низких величин Ѵс ) и для пентодного

режима (и случае н и з к и х

величин Ѵ3

Ѵ п о р ) :

 

(12)

/ r « Ь - ^ ( ( 1 / з

_

і/пор)

ve-±-v»

1 т

К,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

 

 

2Ѵ 2ФГ

 

 

 

 

C0

\iW

(V3~

Vn

-V

 

(13)

 

 

 

 

 

 

 

пор/

 

 

 

 

 

 

2

1

 

Р

 

 

 

 

 

 

 

 

2 y

 

 

 

Точка перегиба

характеристики

 

 

 

 

Ѵ

 

=

 

-

^пор)

1 + -2 V

 

- і

(14)

3

Р

 

 

 

 

 

 

 

 

УЧЕТ КОНЕЧНОЙ

ПРОВОДИМОСТИ

СТОКА

Выходные характеристики реального МОПт показывают, что ток стока в пентодном режиме не постоянен, а растет с уве­ личением напряжения на стоке. Конечное выходное сопротив­ ление МОПт в режиме насыщения, как правило, относят к рас­ ширению обедненного слоя около стока, которое приводит к

36

уменьшению длины канала. Все модели, учитывающие явление модуляции длины канала, построены по принципу:

L

где

 

 

Ѵс Ѵсн;-

 

 

 

/*н

— ток стока при

 

 

 

I

— уменьшение длины канала.

 

 

 

При этом проводимость в режиме насыщения имеет вид:

 

 

 

^сн

dl

 

/1

 

 

ё.п -

Yf^ZTV"

~dV~ '

( j

Следует отметить,

что для МОПт с длинными

каналами

 

 

~ - с 1 и / С Ä

/ ; Н .

 

 

7. Наиболее точное выражение для / представлено в рабо­

те Фромана—Бентчковского и Гроува [6]:

 

 

/ =

.

 

YiZlY™.

.

.

(17)

J

I

ѵси

+ о , 2 - * > Л

- _ L i o

 

A i

 

S-i

-Л о

 

 

 

 

 

Ѵ'сн)

 

Выражения для / в других работах найдены па основе прос­

той теории р-п перехода и могут быть

получены из

формулы

(17) как частный

случай.

 

 

 

При очень слабо легированной подложке

(такой,

что глу­

бина обедненной

области сравнима с длиной

канала) следует

учесть эффект электростатического влияния стока, модулирую­

щего проводимость

канала.

 

 

 

В этом случае

 

 

 

 

у с в _ / ; +

*нѴ-Ѵ(\\

- Ѵпор)_ ( Ѵ с _

_

( 1 8 )

При достаточно высоком уровне легирования подложки проникновение поля стока в область канала значительно огра-

37

ничивается й доминирующим становится ранее рассмотренный эффект модуляции длины канала.

УЧЕТ НЕПОСТОЯНСТВА ПОДВИЖНОСТИ НОСИТЕЛЕЙ У ПОВЕРХНОСТИ

С момента создания первого МОПт был сделан ряд попы­ ток объяснить экспериментально наблюдаемую низкую (по сравнению с объемом) поверхностную подвижность. Первые вычисления, включающие условия на поверхности, были сдела­ ны Шриффером в 1955 г. [7]. Последующие работы других ав­ торов развивают теорию диффузионного рассеяния на поверх­ ности, благодаря постоянному электрическому полю. Паеррет и Ca [8] рассмотрели поверхностное диффузионное рассеяние с учетом непостоянства электрического поля и ориентации крис­ талла. Теоретические зависимости, полученные в этих работах, чрезвычайно сложны и громоздки и, в силу этого, малопригод­ ны для практических моделей МОПт. Поэтому в практике ши­ рокое распространение получили достаточно простые аппрок­ симированные эмпирические зависимости эффективной под­ вижности от поля на поверхности.

8. В работе [9J на основании выражения, полученного в [8] для постоянного электрического поля, Дасом предложена сле­ дующая зависимость:

 

 

 

^ / = = 1 ^ 1 + - ^ - ) " '

09)

где

 

 

 

 

 

 

 

 

ц я

— подвижность носителей в объеме;

 

 

Ег

— критическое поле, при котором

\ieff — ~~

д ,

 

Ѵт — средняя тепловая скорость носителей;

 

 

ts

САК

-

Ѵ{у)

-

Р)

поле на поверхности

———-

 

— —

 

полупроводника.

 

 

 

 

 

9. Фроман—Бентчковский

в своей модели [12] использует

следующую аппроксимацию подвижности:

 

 

 

 

 

! Ѵ / =

(-ffj1 '

 

( 2 0 )

где

 

 

 

 

 

 

 

 

Eso =

 

 

 

(

0,15 для ^-канальных МОПт,

 

б • 10* в

см"1 ,

Cj

= 1

0,36 для п-канальных

МОПт;

 

 

С0

( V3 - Фмз

-

- ^ - - 2 Ф / Г -

0,5

y c j

 

 

— усредненное поверхностное поле.

y.eff

 

 

 

 

 

10. В работе [10J зависимость для

имеет вид:

 

 

 

 

» « ' =

»* i - ѳ ( А -

ѵ л о р Г '

{ 2 1 )

где

Ѳ эмпирический

коэффициент.

 

 

 

 

 

 

Все перечисленные выше аппроксимации подвижности име­

ют

примерно одинаковую

точность,

которая определяется

в

основном

удачным выбором эмпирических

коэффициентов,

и

отражают изменение подвижности из-за поперечного электри­ ческого поля при диффузионном рассеянии.

Однако учет только диффузионного рассеяния не может полно отражать изменение подвижности в приповерхностном слое. В пользу этого говорит тот факт, что из ранее упоминав­

шихся работ (а

равно и из эмпирических моделей, построен­

ных на их основе) следует, что значения

поверхностной

еуу

и

объемной

цв

подвижностей близки при слабых полях,

что

не

подтверждается

экспериментально.

 

 

 

 

 

 

На основе обширных данных наблюдения Ратледж и Арм­

стронг [11] предложили

определять

\>.eff

с учетом

различных

факторов, влияющих на ее величину:

 

 

 

 

 

 

 

 

V

/

1

1

 

 

 

 

( 2 2 )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

|л_ =

С „ Т

2 — подвижность рассеяния

решеткой;

 

 

 

 

з_

 

 

 

 

 

 

 

 

j i 1

= C1ND1

J ' 2 — подвижность,

определяемая

 

 

 

рассеянием

на ионизированной

примеси;

 

 

!',,-

=

C s c m*~

* Т

Т {Qss

+

А , + Д',д )

-

под-

 

 

 

вижность рассеяния поверхностным зарядом;

 

Л'~

— плотность поверхностных состояний,

прояв­

 

 

 

ляющих отрицательный заряд;

 

 

 

 

 

УѴ^,

— плотность поверхностных состояний,

прояв­

СР, СИ CSC

 

ляющих положительный заряд;

 

 

 

— эмпирические константы.

зрения

учета

Хотя модель

представляет

интерес

с точки

различных

механизмов,

определяющих

подвижность, практи-

39

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ