
книги из ГПНТБ / Микроминиатюризация элементов радиоэлектронной аппаратуры
..pdfловленное конечным временем пролета носителей через об ласть структуры; второе слагаемое времени задержки (влия ние емкостей) на данном уровне технически является домини рующим и учитывается динамической моделью.
АНАЛИЗ ПЕРЕХОДНЫХ ПРОЦЕССОВ
В основу анализа переходных процессов положено уравне ние непрерывности, которое для одномерной модели имеет вид (ЛЗ):
d2 |
п |
dn |
. . . |
. |
п |
|
- d |
- r - |
a ~ d - |
- ( 1 + « |
^ |
- ^ - 0 . |
(6) |
Всилу взаимной коммутативности операторов
дд2
dt дх~
величину 5 можно считать постоянной и искать решение отно сительно п в виде функции аргумента s.
При переходе рабочей точки из режима огсечки в режим насыщения, т. е. при анализе задержки и фронта импульса, ос новную роль играет активная область базы. По мнению боль шинства авторов, вполне оправдано для этого случая примене ние одномерной модели и модель описывается системой урав нений (рис. 1). С момента смещения эмиттерного перехода в прямом направлении полагается, что происходит коммутация в модели барьерной емкости на диффузионную, что же касает ся коллекторного перехода, то до момента времени пересече ния рабочей точкой линии насыщения последний характеризу
ется барьерной емкостью Cf i K . |
|
|
Решение системы дифференциальных уравнений |
модели |
|
осуществлялось численными методами |
на ЦВМ «Минск-22». |
|
На рис. 2 представлен результат расчета переходного про |
||
цесса обычного транзисторного ключа |
при вариации |
барьер |
ных емкостей эмиттерного и коллекторного переходов без уче та диффузионных емкостей.
На рис. 3 представлен результат исследования влияния на переходный процесс коэффициента усиления по току а модели.
Выводы
1. Применение численных методов открывает широкие воз можности по повышению точности расчета переходных процес сов в связи с учетом на каждом шаге интегрирования конкрет ных значений барьерных емкостей таких, как функции «£/»,
30

32
2, Из сравнения рис. 2 и 3 видно, что для современных планарных транзисторов наряду с учетом барьерных емкостей на переходные процессы следует учитывать зависимость ж от час тоты. Прямое дифференцирование модели без учета частотной зависимости коэффициентов приводит к значительным погреш ностям.
3. Из рис. 2 можно сделать вывод, что с точки зрения обес печения оптимального соотношения «машинное время — точ ность расчета» для транзисторов с величиной барьерных емкос тей более 4 пФ можно пользоваться упрощенной моделью, для емкостей меньше 4 пФ — полной моделью.
ЛИТЕРАТУРА
1. С п и р и д о н о в Н. С. Основы теории транзисторов. Киев, «Техиіка», 1969.
УДК 621.382,323
В. Л. Евецкий
СТАТИЧЕСКИЕ МОДЕЛИ МОП ТРАНЗИСТОРОВ
В статье сделан |
обзор статических моделей МОП |
|||
транзисторов, |
проведено сравнение |
моделей по точности |
||
учета основных |
факторов, влияющих |
на работу транзис |
||
тора. |
|
|
|
|
Точность машинного расчета характеристик ИС определя |
||||
ется точностью моделирования |
активных |
и пассивных компо |
||
нентов. Поэтому вопрос моделирования |
МОП транзисторов |
(МОПт), являющихся одним из наиболее перспективных эле ментов интегральной электроники, представляет значительный интерес.
I . Простейшая вольт-амперная характеристика (ВАХ) МОПт имеет вид:
крутая обл. ВАХ (триодный режим)
, |
CoV.W |
V2 |
|
|
(1) |
I с |
Г |
|
пологая обл. ВАХ (пентодный режим, режим насыщения)
/с = — ° 2 ^ - ( Ѵ9 - Fnop)2 ; при Vt > 1/3 - V m t , |
(2) |
3. Зак. 205, |
33 |
где |
/ с — ток стока МОПт; |
|
|
|
|
||||
|
|
|
|
|
|||||
|
W—ширина |
канала МОПт; |
|
|
|
||||
|
L — длина канала |
МОПт; |
|
|
|
||||
|
|і — подвижность |
носителей; |
|
|
|
||||
С0 — емкость изолятора затвора на единицу площади; |
|||||||||
^з. |
— напряжения |
затвора |
и стока |
соответственно. |
|
||||
|
Ѵ„ор = ®MS |
- |
- |
т ^ |
+ К Х Ѵ |
2ФР |
, |
(3) |
|
где |
— пороговое напряжение МОПт; |
|
|
|
|||||
^ п о р |
|
|
|
||||||
Фм5 — разница работ выхода |
металл-полупроводник; |
|
|||||||
Qss— |
заряд поверхностных |
состояний |
на единицу |
пло |
|||||
|
щади; |
|
|
|
|
|
|
|
|
<£>F — потенциал |
Ферми. |
|
|
|
|
|
|||
|
K |
^ |
V |
^ |
Ö W |
D , |
|
|
(4) |
где |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
£0 |
— диэлектрическая |
проницаемость |
свободного |
про |
|||||
|
странства; |
|
|
|
|
|
|
|
|
No — концентрация примесей в подложке; |
|
||||||||
esl |
— диэлектрическая проницаемость кремния; |
|
|||||||
q |
— заряд электрона. |
|
|
|
|
|
2. В рг.боте [!] на базе уравнения (1) с помощью разделения тока стока на две составляющие и введения нового нелинейно го двухполюсного элемента (идеального полевого диода) была получена эквивалентная схема, представляющая собой аналог эквивалентной схемы Эберса—Молла для биполярного тран зистора. Эквивалентная схема позволяет получить полную си стему статических характеристик, включая характеристики инверсного режима, которые обычно опускаются из рассмотре ния.
Простейшие модели 1, 2 хорошо описывают основные прин ципы работы МОПт, однако не обеспечивают достаточно хоро
шего совпадения с экспериментальными данными. |
|
|||
Рассмотрим более точные модели, учитывающие |
различные |
|||
факторы, влияющие на работу МОПт. |
|
|
||
УЧЕТ ВЛИЯНИЯ ЗАРЯДА ОБЕДНЕННОГО СЛОЯ |
||||
Влияние заряда обедненного |
слоя становится |
значитель |
||
ным в области малых токов ( Ѵ3 ~ |
Ѵпор), |
а также при работе |
||
в режиме насыщения, или близком к нему. |
|
|
||
В первом случае |
( Ѵ3 ~ Ѵпор) |
инверсионный слой не успе |
||
вает сформироваться |
полностью, поэтому |
напряжение Ѵ3 не |
34
может управлять проводимостью канала в соответствии с урав нением ( 1 ) .
3. В работе Баррона [2] получено выражение, определяющее ток стока (без учета тока утечки обратно-смещенного диода сток-подложки, который может быть легко учтен) в этом режи
ме. Согласно работе [2], при |
Ѵ3 ~ |
Ѵ„ |
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
пор |
|
|
|
|
qW D„nl L D |
e ' w r |
|
Ч |
1 + |
e KT |
(5) |
|
|
V |
|
|
|
KT |
|||
|
кт |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
где |
|
|
|
|
|
|
|
|
Dp |
— коэффициент диффузии дырок; |
|
|
|||||
Vs |
собственная |
концентрация; |
|
|
|
|||
— поверхностный потенциал; |
|
|
|
|||||
LD — собственная длина Дебая; |
|
|
|
|||||
К — постоянная Больцмана. |
Ѵ3 ~ |
|
|
|
||||
Таким образом, ток стока при |
1/,пор |
меняется экспо- |
||||||
ненциально с изменением Ѵ3 |
и |
Ѵс. |
|
|
|
|||
Во втором случае (при работе МОПт вблизи насыщения) |
||||||||
влияние заряда обедненного слоя |
приводит к тому, |
что пере |
гиб ВАХ имеет место при более низком напряжении и токе сто
ка, чем это следует из простейшей |
модели. |
|
|
||
4. Наиболее строгое рассмотрение проведено Ca и Пао [5], |
|||||
их модель имеет вид: |
|
|
|
|
|
С0 |
\iW |
\ ( Ѵ 3 - Ѵ П О Р ) Ѵ С - |
vi |
|
|
— - с - <ïv |
Ѵв |
1 + 2Фг- |
31/ C |
— 1 |
(6) |
4 Ф Р |
|
Ѵв |
|
|
(7) |
где |
|
|
|
|
^ п о р ~ ®MS |
Qs |
- f |
2Фр + Ѵв ; |
(8) |
|
||||
ѴВ=>КХѴ |
2Фг . |
|
|
(9) |
35
Напряжение насыщения тока стока (точка перегиба харак теристики):
^си '•= |
— |
^пор + Vß |
+ ~щ; |
|
|
- Ѵв / |
1 |
-LS— |
Ѵ3 |
- У,,*, + Ѵв |
(10) |
|
2ФР |
||||
|
|
|
|
|
Следует отметить также модели, занимающие промежуточ ное положение по точности между простейшей и моделью Ca и Пао. Они привлекают своей простотой.
5. В работе [4] Грин и Солдано предлагают следующие вы ражения для /С І 1 :
Со V.W |
( |
— Wop.vi)" , |
( П ) |
2L |
|
|
|
где
Vпор.M
—модифицированное пороговое напряжение.
6.Дасом [3] получены полезные аппроксимации для триодного режима (в случае низких величин Ѵс ) и для пентодного
режима (и случае н и з к и х |
величин Ѵ3— |
Ѵ п о р ) : |
|
(12) |
||||||
/ r « Ь - ^ ( ( 1 / з |
_ |
і/пор) |
ve-±-v» |
1 т |
К, |
|||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
L |
|
|
|
|
|
|
|
|
2Ѵ 2ФГ |
|
|
|
|
C0 |
\iW |
(V3~ |
Vn |
-V |
|
(13) |
|
|
|
|
|
|
|
|
пор/ |
|
||
|
|
|
|
|
2 |
1 |
|
2ФР |
|
|
|
|
|
|
|
|
2 y |
|
|
|
|
Точка перегиба |
характеристики |
|
|
|
|
|||||
Ѵ |
|
= |
|
- |
^пор) |
1 + -2 V |
|
- і |
(14) |
|
№ |
3 |
2ФР |
|
|||||||
|
(Ѵ |
|
|
|||||||
|
|
|
|
УЧЕТ КОНЕЧНОЙ |
ПРОВОДИМОСТИ |
СТОКА |
Выходные характеристики реального МОПт показывают, что ток стока в пентодном режиме не постоянен, а растет с уве личением напряжения на стоке. Конечное выходное сопротив ление МОПт в режиме насыщения, как правило, относят к рас ширению обедненного слоя около стока, которое приводит к
36
уменьшению длины канала. Все модели, учитывающие явление модуляции длины канала, построены по принципу:
L
где |
|
|
Ѵс — Ѵсн;- |
|
|
|
/*н |
— ток стока при |
|
|
|
||
I |
— уменьшение длины канала. |
|
|
|
||
При этом проводимость в режиме насыщения имеет вид: |
||||||
|
|
|
^сн |
dl |
|
/1 |
|
|
ё.п - |
Yf^ZTV" |
~dV~ ' |
( j |
|
Следует отметить, |
что для МОПт с длинными |
каналами |
||||
|
|
~ - с 1 и / С „ Ä |
/ ; Н . |
|
|
|
7. Наиболее точное выражение для / представлено в рабо |
||||||
те Фромана—Бентчковского и Гроува [6]: |
|
|
||||
/ = |
. |
|
YiZlY™. |
. |
. |
(17) |
J |
I |
ѵси |
+ о , 2 - * > Л |
- _ L i o |
|
|
A i |
|
S-i |
-Л о |
|
||
|
|
|
|
Ѵ'сн) |
|
|
Выражения для / в других работах найдены па основе прос |
||||||
той теории р-п перехода и могут быть |
получены из |
формулы |
||||
(17) как частный |
случай. |
|
|
|
||
При очень слабо легированной подложке |
(такой, |
что глу |
||||
бина обедненной |
области сравнима с длиной |
канала) следует |
учесть эффект электростатического влияния стока, модулирую
щего проводимость |
канала. |
|
|
|
В этом случае |
|
|
|
|
у с в _ / ; + |
*нѴ-Ѵ(\\ |
- Ѵпор)_ ( Ѵ с _ |
_ |
( 1 8 ) |
При достаточно высоком уровне легирования подложки проникновение поля стока в область канала значительно огра-
37
ничивается й доминирующим становится ранее рассмотренный эффект модуляции длины канала.
УЧЕТ НЕПОСТОЯНСТВА ПОДВИЖНОСТИ НОСИТЕЛЕЙ У ПОВЕРХНОСТИ
С момента создания первого МОПт был сделан ряд попы ток объяснить экспериментально наблюдаемую низкую (по сравнению с объемом) поверхностную подвижность. Первые вычисления, включающие условия на поверхности, были сдела ны Шриффером в 1955 г. [7]. Последующие работы других ав торов развивают теорию диффузионного рассеяния на поверх ности, благодаря постоянному электрическому полю. Паеррет и Ca [8] рассмотрели поверхностное диффузионное рассеяние с учетом непостоянства электрического поля и ориентации крис талла. Теоретические зависимости, полученные в этих работах, чрезвычайно сложны и громоздки и, в силу этого, малопригод ны для практических моделей МОПт. Поэтому в практике ши рокое распространение получили достаточно простые аппрок симированные эмпирические зависимости эффективной под вижности от поля на поверхности.
8. В работе [9J на основании выражения, полученного в [8] для постоянного электрического поля, Дасом предложена сле дующая зависимость:
|
|
|
^ / = = 1 ^ 1 + - ^ - ) " ' |
• |
09) |
|||
где |
|
|
|
|
|
|
|
|
ц я |
— подвижность носителей в объеме; |
|
|
|||||
Ег |
— критическое поле, при котором |
\ieff — ~~ |
\ід , |
|
||||
Ѵт — средняя тепловая скорость носителей; |
|
|
||||||
ts |
САК |
- |
Ѵ{у) |
- |
2ФР) |
поле на поверхности |
||
— ———- |
— |
|
— — |
|||||
|
полупроводника. |
|
|
|
|
|
||
9. Фроман—Бентчковский |
в своей модели [12] использует |
|||||||
следующую аппроксимацию подвижности: |
|
|
||||||
|
|
|
! Ѵ / = |
(-ffj1 ' |
|
( 2 0 ) |
||
где |
|
|
|
|
|
|
|
|
Eso = |
|
|
|
( |
0,15 для ^-канальных МОПт, |
|
||
б • 10* в |
см"1 , |
Cj |
= 1 |
0,36 для п-канальных |
МОПт; |
|
|
С0 |
( V3 - Фмз |
- |
- ^ - - 2 Ф / Г - |
0,5 |
y c j |
|
|
|
— усредненное поверхностное поле. |
y.eff |
|
|
|
|
||||
|
10. В работе [10J зависимость для |
имеет вид: |
|
|
|||||
|
|
» « ' = |
»* i - ѳ ( А - |
ѵ л о р Г ' |
{ 2 1 ) |
||||
где |
Ѳ — эмпирический |
коэффициент. |
|
|
|
|
|
||
|
Все перечисленные выше аппроксимации подвижности име |
||||||||
ют |
примерно одинаковую |
точность, |
которая определяется |
в |
|||||
основном |
удачным выбором эмпирических |
коэффициентов, |
и |
отражают изменение подвижности из-за поперечного электри ческого поля при диффузионном рассеянии.
Однако учет только диффузионного рассеяния не может полно отражать изменение подвижности в приповерхностном слое. В пользу этого говорит тот факт, что из ранее упоминав
шихся работ (а |
равно и из эмпирических моделей, построен |
||||||||||
ных на их основе) следует, что значения |
поверхностной |
\іеуу |
и |
||||||||
объемной |
цв |
подвижностей близки при слабых полях, |
что |
не |
|||||||
подтверждается |
экспериментально. |
|
|
|
|
|
|
||||
На основе обширных данных наблюдения Ратледж и Арм |
|||||||||||
стронг [11] предложили |
определять |
\>.eff |
с учетом |
различных |
|||||||
факторов, влияющих на ее величину: |
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
V |
/ |
1 |
1 |
|
|
|
|
( 2 2 ) |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
где |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|л_ = |
С „ Т |
2 — подвижность рассеяния |
решеткой; |
|||||||
|
|
|
|
з_ |
|
|
|
|
|
|
|
|
j i 1 |
= C1ND1 |
J ' 2 — подвижность, |
определяемая |
|||||||
|
|
|
рассеянием |
на ионизированной |
примеси; |
|
|||||
|
!',,- |
= |
C s c m*~ |
* Т |
Т {Qss |
+ |
А , + Д',д ) |
- |
под- |
||
|
|
|
вижность рассеяния поверхностным зарядом; |
||||||||
|
Л'~ |
— плотность поверхностных состояний, |
прояв |
||||||||
|
|
|
ляющих отрицательный заряд; |
|
|
|
|
||||
|
УѴ^, |
— плотность поверхностных состояний, |
прояв |
||||||||
СР, СИ CSC |
|
ляющих положительный заряд; |
|
|
|
||||||
— эмпирические константы. |
зрения |
учета |
|||||||||
Хотя модель |
представляет |
интерес |
с точки |
||||||||
различных |
механизмов, |
определяющих |
подвижность, практи- |
39