Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Челноков В.Е. Физические основы работы силовых полупроводниковых приборов

.pdf
Скачиваний:
33
Добавлен:
24.10.2023
Размер:
9.71 Mб
Скачать

с, а,

см

пф/сж''

10г

г.it

 

 

 

Iff

и

 

47-is

 

III

 

0

Ю

<0~

 

Рис. 2-8. Зависимость ширины области объемного заряда а и барьер­

ной емкости

С от величины приложенного напряжения,

отнесенного

к концентрации примеси в исходном

кремнии

U/NB для

различных

значений Xj.

 

 

см; 4 —*j-=l,8 • 1<Н СЛ.

1 -JC--1-10-3

см; 2 *j=5-l(H CJH; 3-

1 - 10—г

Электронно-дырочный переход с распределением примеси по закону дополнения к функции ошибок

Рассматриваемый случай реализуется в p-n-переходах, получен­ ных методом диффузии примеси из бесконечного источника, распо­ ложенного на поверхности полупроводника. В отличие от предыду­ щего случая распределение примеси в диффузионном слое описы­ вается следующим выражением:

N(x, t) = N.etky==.

(2 - 43)

Решение можно получить, интегрируя уравнение Пуассона и ис­ пользуя граничные условия, подобные рассмотренным в предыдущем разделе.

Результаты решения этих уравнений в виде графиков, анало­ гичных рис. 2-8—2-10, для практически интересных случаев приво­ дятся в [ Л . 2-2—12-6].

2-4. ВОЛЬТ-АМПЕРНАЯ ХАРАКТЕРИСТИКА «ТОНКОГО» ЭЛЕКТРОННО-ДЫРОЧНОГО ПЕРЕХОДА

Условие низкого уровня инжекции

Рассмотрим прохождение

тока через р-л-переход,

в котором нет рекомбинации,

так называемый тонкий

переход. Это означает, что при прохождении через неге

41

Носители заряда не испытывают взаимодействия ни с ре­

шеткой,

ни с носителями

противоположного знака.

Пусть

имеется тонкий

р-ге-переход с

приложенным

к нему в прямом направлении постоянным

напряжением.

В дырочной области при этих условиях имеются инжек­

тированные электроны,

концентрация которых у грани­

цы переходной области

+ б д определяется выражением

(2-16). Для упрощения анализа и учитывая, что рас­ сматривается тонкий /7-п-переход далее, будем считать, что область объемного заряда заменена плоскостью, проходящей через начало координат, которую мы будем называть плоскостью p-n-перехода или границей пере­ ходной области. За положительное направление оси абсцисс для каждой области р-я-перехода выбираем направление от плоскости p-n-перехода в сторону внеш­ них контактов.

Выше было получено уравнение, описывающее пове­ дение неравновесных носителей в полупроводнике

(уравнение непрерывности).

Для

одномерного

случая

оно имеет вид:

 

 

 

 

 

 

^ =

5 - ^ +

J

_ . £

» ,

 

(2-44)

dt

1Л

1

q

дх

4

'

Предположим, что дырочная область достаточно длинна, чтобы неравновесные электроны могли пол­ ностью рекомбинировать при своем движении от пере­ хода, так что концентрация неосновных носителей до­ стигнет своей равновесной величины.

Таким образом, граничные условия для концентра­ ции инжектированных в дырочную область электронов будут:

п(0) = пв

=

пре*"

;

-

(2-45)

п(х)

=

пр.

 

 

(2-46)

х-мх>

 

 

 

 

 

Сделаем еще одно предположение. Будем рассмат­ ривать только малые приложенные напряжения в пря­ мом направлении. При этом можно считать, что дрейфо­ вый ток неосновных носителей мал по сравнению с диф­ фузионным, так что ток через переход определяется только диффузионной составляющей, т. е.

U = qDu£..

(2-47)

42

Продифференцировав

это

выражение

и подставив

его в уравнение

(2-44),

получим,

учтя,

что

для устано­

вившегося состояния dn/dt = 0,

 

 

 

 

 

 

 

п

 

 

 

 

 

где

 

 

 

 

 

 

 

 

L„ =

(Z)„x n ) 1 / 2 .

 

 

 

(2-49)

Решение уравнения (2-48) получим

в

виде

п (-*) =

П р + пр {eqUtkT

-

1)

e~XILn.

(2-50)

Из этого выражения видно, что концентрация инжек­ тированных электронов уменьшается при удалении в глубь полупроводника по экспоненциальному закону

An (х) =

An (4-8д ) e~xlS

(2-5-1)

где

 

 

 

(2-52)

Ап(х)

=п(х)—пр,

Ап = п0—tip.

На расстоянии

L n от

переходной области

концентра­

ция неосновных носителей уменьшается в е раз. С дру­ гой стороны, выражение (1-10) показывает, что концен­ трация инжектированных носителей уменьшается в е раз за время, равное времени жизни электронов т„. Оче­ видно, что L n есть путь, который проходят носители при диффузионном движении за время, равное т п . Величи­ на L n называется диффузионной длиной. Она тем боль­

ше,

чем больше время жизни хп и коэффициент

диффу­

зии

Dn.

 

 

 

 

Теперь можно более точно сформулировать гранич­

ное

условие

(2-46). Длина дырочной области

должна

быть

много

больше диффузионной

длины

электронов

в этой области.

 

 

 

Подобным

же образом можно

вывести

выражение

для концентрации дырок, инжектированных в электрон­ ную область:

р(х) = Р п +

рп

{eqU,kT

- 1) е " \

(2-53)

где

 

 

 

 

L P

=

( D P , P ) 1 / 2 .

(2-54)

4 3

На рис. 2-11 показано распределение концентрации неравновесных носителей для электронно-дырочного пе­ рехода при постоянном прямом напряжении 0,25 в по

данным рис. 2-1. Граничные концентрации

неравновес­

 

 

 

ных носителей вычислены по

 

p -тип

10

формулам

(2-16)

и

(2-17).

 

 

 

Концентрация носителей

от­

 

 

 

ложена

в

логарифмическом

 

 

 

масштабе так, что

прибавле­

 

 

 

ние

к величине

концентра­

 

 

W

ции

основных носителей

ве­

 

 

личины концентрации

инжек­

 

 

 

 

 

 

тированных

носителей, необ­

 

 

 

ходимое для сохранения ней­

 

 

 

тральности,

на

рисунке

не

"

x -f3

 

заметно

р^$>п0

 

и

пп^>Ро,

 

как это видно из рисунка).

 

 

 

Рис.

2-11. Распределение

плот­

Так

как

мы

предполага­

ности

инжектированных

не­

ли,

что дрейфовым

током не­

равновесных носителей по дли­

основных носителей

можно

не полупроводника.

 

пренебречь,

то,

 

используя

 

 

 

выражения (2-47) и (2-50),

получаем распределение

тока

инжектированных элек­

тронов по длине:

 

 

 

 

 

In

 

_qDnnv

(eqU,kT-l)e

—x/L

(2-55)

(•*) =

 

В плоскости

перехода,

где

х = 0,

величина

тока

 

М + 8

д ) =

Л18 qU/kT

 

(2-56)

где

 

I n s

oDnfip!Ln.

 

(2-57)

 

 

 

Таким же образом можно получить для дырочного

тока в электронной

области

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(2-58)

или

 

 

 

 

 

(2-59)

 

IP{-h)

=

Ivs(eqmT-

1),

где

 

I p s =

 

qDppn/Lp.

 

(2-60)

 

 

 

 

44

Из этих формул ясно, что электронный ток инжекти­ рованных носителей в дырочной области зависит от п-роводимости этой области. Эта зависимость определя­ ется плотностью равновесных неосновных носителей пР. Дырочный ток инжектированных носителей в электрон­

ной

области также зависит

от проводимости

электронной

области.

При постоянных температуре и напряжении

эти

токи

определяются

только

 

 

 

 

проводимостями

соответствую-

/, Т

 

i l l

-

|

щих

областей.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На рис. 2-12 показано рас­

 

 

 

 

 

пределение

токов

неосновных

 

 

 

 

 

носителей

при

прямом

напря­

 

 

 

 

 

жении на электронно-дырочном

 

 

 

 

 

переходе. Пунктиром

изобра­

 

 

 

 

 

жены токи основных носителей.

 

 

 

 

 

Значения токов основных носи­

 

 

 

 

 

телей и

граничные

значения

 

 

 

 

 

инжектируемых токов

равны.

Рис. 2-12.

Распределение

Токи

инжектированных

но­

инжектированных

 

токов

сителей,

как

это

видно

из

в электронно-дырочном пе­

рис.

2-12

и формул

(2-55) и

реходе,

находящемся

при

прямом

напряжении.

 

(2-58),

уменьшаются

к

внеш­

 

 

 

 

 

 

ним

границам

соответствую­

 

 

 

 

 

щих областей. Мы уже предположили ранее, что разме­ ры этих областей достаточно велики, чтобы токи инжек­ тированных носителей уменьшались до нуля.

Это означает, что электроны, входящие в дырочную область через электронно-дырочный переход, должны

полностью рекомбинировать с

дырками, входящими

в эту область из другого конца.

Инжектируемые дырки

в электронной области рекомбинируют с электронами, идущими от внешней границы области.

Таким образом, в каждой области имеются две со­ ставляющие тока основных носителей. Одна постоянна по величине во всей области, не меняется при прохожде­ нии сквозь электронно-дырочный переход и в качестве тока инжектируемых неосновных носителей в другой области уменьшается до нуля за счет рекомбинации.

На

рис. 2-13 эти токи изображены штриховой линией.

Их

значения определяются

физическими свойствами

области, в которую происходит

ннжекция.

 

Вторая составляющая необходима для рекомбинации

инжектированных неосновных

носителей. Ток инжекти-

45

руемых носителей

уменьшается

при приближении

к внешней границе

области. Вторая

составляющая со­

ответственно уменьшается при удалении от этой гра­

ницы.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На рис. 2-13 эти токи обозначены

штрихпунктирны-

ми линиями. Их

значения определяются

приложенным

 

 

 

напряжением и физическими

 

 

 

свойствами

области

в

ко­

 

 

 

торой они

текут.

 

 

 

 

 

 

Конечно,

 

необходимо

 

 

 

помнить,

что

в действитель­

 

 

 

ности полный ток через элек­

 

 

 

тронно-дырочный

переход

 

 

 

является

постоянным

и

не

 

 

 

распадается на токи, о кото­

 

 

 

рых говорилось выше. Одна­

 

 

 

ко такое рассмотрение удоб­

 

 

 

но для того, чтобы опреде­

 

 

 

лить

токи

основных носите­

Рис. 2-13. Распределение то­

лей, если известны токи не­

основных

носителей.

 

На

ков основных и неравновесных

рис.

2-13

изображены

токи

неосновных

носителей в элек­

тронно-дырочном переходе, на­

основных

и

инжектирован­

ходящемся

при

постоянном

ных

неосновных

носителей

прямом напряжении.

в электронно-дырочном пе­

 

 

 

реходе,

находящемся

 

при

постоянном прямом напряжении (токи равновесных не­ основных носителей не показаны).

В установившемся режиме полный ток через элек­ тронно-дырочный переход постоянен по всему сечению полупроводника. Так как в переходной области, по предположению, рекомбинации не происходит, то пол­ ный ток через электронно-дырочный переход определя­ ется суммой инжектируемых токов на границах пере­

ходной области.

Складывая (2-56) и

(2-59), получаем:

I

= (Ins

+ Ips)(e'u/kT-l).

(2-61)

Обозначим через / s

сумму I n s + Ivs,

т. е.

 

 

 

(2-62)

46

С учетом этого обозначения вольт-амперная харак­ теристика электронно-дырочного перехода имеет вид:

,qU/kT

(2-63)

 

Эта формула, связывающая ток через электроннодырочный переход и напряжение на переходе, является основной формулой, описывающей действие р-п-пере- ходов.

При прямом напряжении уже при С < 0 , 1 в первый член в скобках становится значительно больше единицы, так как при комнатной температуре &Г = 0,026 эв и exp(qU/kT)^$>l уже при qU, большем нескольких kT. Тогда формула (2-63) преобразуется:

(2-64)

При подаче на электронно-дырочный переход обрат­ ного смещения, как это видно из формулы (2-63), экс­ поненциальный член уже при U порядка нескольких kTjq становится много меньше единицы, так что ток через переход в запорном направлении

/

Т

I

i

(2-65)

 

 

Как видно, ток в обратном

направлении

не зависит

от приложенного напряжения

и

остается

постоянным

при увеличении последнего. Этот обратный ток назы­ вают током насыщения.

Из этого же выражения видно, что чем меньше кон­ центрация неосновных носителей в соответствующих областях, тем меньше обратный ток. Уменьшения плот­ ности неосновных носителей можно достичь, увеличивая плотность основных носителей. При этом увеличивается и контактная разность потенциалов, что приводит к уве­ личению потенциального барьера на переходе.

Часто на практике проводимость одной из областей на несколько порядков больше, чем другой. Легко ви­ деть, что отношение электронной и дырочной составляю­ щих обратного тока равно:

/р,

(2-66)

DppnLn

4 7

Обычно диффузионные длины являются величинами одного порядка, тогда отношение двух составляющих обратного тока практически равно отношению проводимостей соответствующих областей.

Если проводимость электронной области (как и в на­ шем примере) намного больше проводимости дырочной области, то обратный ток определяется в основном кон­ центрацией электронов, т. е. если пп^>рр, то

7 s « / n s = £ % ^ .

(2-67)

Обратный ток сильно зависит от температуры.

Кон­

центрация неосновных носителей зависит от температу­ ры экспоненциально, изменение с температурой предэкспоненциального множителя можно не принимать во внимание. Это означает, что и обратный ток, определяе­

мый плотностью неосновных носителей,

растет

экспо-

 

дя„/*г

 

ненциально с температурой по закону

е

. Ьсли по­

строить зависимость I g / S = / ( 1 / 7 , ) J то

получится

прямая

линия, по наклону которой можно определить ширину

запрещенной зоны АЕ0.

можно

написать

Выражение

для

обратного тока

в другом виде,

если

использовать

выражение

(2-49),

связывающее диффузионную длину и время жизни не­ основных носителей:

/ . - * > , № . ( < £ • ) '"• (2-68)

Определим соотношение между электронной и ды­ рочной составляющей прямого тока:

I рЦп I ps]I ns-

В некоторых случаях необходимо знать относитель­ ную роль дырочной или электронной составляющей в полном токе />п-перехода. Для этого вводят понятие коэффициента инжекции дырок или электронов и опре­ деляют его по формуле (для дырок)'

y=h/(Ip+U). (2-69)

Используя формулы (2-57) и (2-60) и переходя от коэффициентов диффузии к подвижностям, получаем:

1 — й -

( 2 - 7 0 )

48

Легко видеть, что для несимметричного р-я-перехрда, где р Р > я п , у*»1, т. е. ток в основном переносится дыр­ ками.

При рассмотрении процессов в р-я-переходе мы от­ мечали, что при приложении прямого напряжения, на­ пример, в я-области создается избыточный заряд дырок, которые компенсируются пришедшими из базового кон­ такта электронами. Этот заряд можно определить, про­ интегрировав распределение дырок (2-53):

во

 

Q = q$\

[ / > . ( * ) - Pn\dx = qLv(0) - рп].

(2-71)

 

 

о

 

 

 

 

Подставляя

сюда

р(0)

из (2-17), учитывая

формулу

(2-54), для р ( 0 ) » р п

получаем:

 

где /др

 

 

Q = / n p T P ,

(2-72)

прямой ток через

р-я-переход.

 

 

 

 

 

 

 

Изменение заряда, вызванное изменением напряже­ ния, можно рассматривать как действие некоторой ем­ кости. Емкость эта полу­ чила название диффу­ зионной, так как обуслов­ лена изменением диффу­ зионной компоненты тока через р-я-переход. Вели­

чину

ее

определяем,

используя

соотношения

(2-64)

и (2-72):

СдиФ=-gf Iпр^р- (2-73)

На

рис. 2-14

приведе­

Ю'\ I

I

I

I

i

1

на вольт-амперная харак­

id* ю'11

ш'3

w'!

Ю~'

/

<Офжг

теристика

 

р-я-перехода,

Рис. 2-14. Вольт-амперная

харак­

полученного

на

основе

германия.

Следует отме­

теристика р-п-перехода на основе

германия.

 

 

 

 

 

тить,

что

рассмотренная

 

 

 

 

 

 

нами

теория,

получившая

 

 

 

 

 

 

название классической теории электронно-дырочного перехода Шокли, не является достаточной для описания вольт-амперных характеристик р-я-переходов, получен­ ных на основе кремния, поскольку в них преобладающее значение имеют процессы, проходящие в слое объемного заряда.

4 —44 49

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ