Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Челноков В.Е. Физические основы работы силовых полупроводниковых приборов

.pdf
Скачиваний:
34
Добавлен:
24.10.2023
Размер:
9.71 Mб
Скачать

Ся некоторое Динамическое равновесие, lie являющееся"

. тепловым равновесием. Постоянное напряжение в пря­ мом направлении снижает потенциальный барьер па пе- - реходе, и через переход инжектируются электроны из электронной области в дырочную и дырки из дырочной области в электронную. В дырочной области появляются избыточные электроны — неравновесные неосновные но­ сители, в электронной области — избыточные дырки. Не­

равновесные неосновные носители

двигаются

от перехода

в сторону уменьшения их концентрации.

 

Рекомбинация неравновесных

неосновных

носителей

с основными носителями стремится уменьшить плотность неравновесных носителей до нуля. Устанавливается ди­ намическое равновесное распределение концентрации инжектированных неосновных носителей, которое описы­ вается уравнением непрерывности, выведенным в гл. 1.

Многие формулы, выведенные ранее для случая теп­ лового равновесия, для находящегося в динамическом равновесии электронно-дырочного перехода уже непри­ менимы. В частности, неприменимо условие ппрп — п^.

Пусть п- и р-плотности неравновесных неосновных и основных носителей в дырочной области электроннодырочного перехода, находящегося под прямым напря­ жением. Напишем выражения, аналогичные (2-8):

п =

rite

1

p =

pfe

к д 1

;

(2-П)

. (2-12)

При помощи этих уравнений введем в рассмотрение

так

называемые квазипотенциалы

Ферми <рк.э и фк.д.

условиях отсутствия теплового

равновесия вместо

обычного уровня Ферми можно рассматривать квази­ уровень). Тогда большинство формул, выведенных при условии теплового равновесия, сохраняет прежний вид, если заменить в них уровень Ферми на квазиуро­ вень или потенциал Ферми на квазипотенциал.

Для поддержания условия электрической нейтраль­ ности в дырочной области при наличии инжектирован­ ных электронов плотность дырок должна увеличиться на малую величину по, т. е. практически остаться неиз­ менной. Таким образом, можно утверждать, что при на­ личии прямого напряжения на p-n-переходе плотности 30

основных носителей остаются неизменными. Плотности

неосновных

носителей существенно

увеличиваются.

Иными

словами, p = pv,

а следовательно,

из уравне­

ния (2-12)

видно, что фк.д-^-фгэ есть

величина

постоянная

(поскольку

фгэ постоянна

вплоть

до переходной обла­

сти). Небольшой градиент ф;э, обусловленный падением напряжения на толще полупроводника, не принимается во внимание. Из вышесказанного ясно, что квазипотен­ циал Ферми для дырок в дырочной области вплоть до . края переходной области +6 Д совпадает с потенциалом Ферми в условиях теплового равновесия. То' же самое

можно

сказать относительно

квазипотенциала Ферми

для электронов в электронной

области.

Предположим теперь, что электронная и дырочная

области

так длинны, что неравновесные носители при

своем движении от перехода успевают полностью рекомбинировать с основными носителями: Тогда в областях вдали от перехода, где нет неравновесных носителей, течет только дрейфовый ток, обусловленный электриче­ ским полем.

Как выяснено выше, прохождение только дрейфового тока не вызывает отклонения носителей от равновесных величин. Из уравнений (2-11) и (2-12) следует, что при постоянных плотностях носителей сдвиг квазипотенциа­

ла Ферми от положения потенциала Ферми в собствен­ ном полупроводнике (ф,—фк.э) тоже остается постоян­

ным. Но так как имеется некоторое постоянное электри­ ческое поле, то электростатический потенциал щ имеет небольшой градиент. Соответствующие наклоны должны иметь в таком случае квазипотенциал Ферми фк.э, а сле­ довательно, и края зон (так как расстояния между ними

иквазипотенциалом Ферми остаются неизменными). Постоянное напряжение в прямом направлении U

(отрицательный полюс батареи присоединен к электрон­ ной области электронно-дырочного перехода) вызывает сдвиг левой части зонной схемы (рис. 2-3) вверх на величину U.

На рис. 2-3 изображена зонная схема электроннодырочного перехода, находящегося под постоянным прямым напряжением. Предполагаем, что падения на­ пряжения на электронной и дырочной областях так ма­ лы, что ими можно пренебречь, поэтому все линии на зонной схеме проведены горизонтально. Показаны ин­ жектированные дырки и электроны.

Пусть имеет место инжекция электронов в дырочную область и п0концентрация инжектированных электро­ нов на границе переходной области х = -{-Ьл. Плотность тока инжектированных электронов описывается выраже-

Электрокшй ток ИнжектироЙомб'е ?/гектроны• •

• ••

г

ОО О О О

Инжентиро$аннь/е дырки

Рис. 2-3. Зонная схема электронно-дырочного пе­ рехода, находящегося при постоянном прямом напряжении.

нием (2-4), т

е. электронный диффузионный

ток

qDn-^-

превышает на

величину / „ дрейфовый электронный

ток—

QV-n-j^r- Проинтегрировав (2-4)

по

я-области

и заметив,

что In<^qDn-^-,

получим:

 

 

 

 

 

qDn^ -~-q\^n

j

d<?i-. О.

 

(2-13)

Проинтегрировав это уравнение, можно получить:

.= е°п

Т

'

(2-14)

 

 

Используя отношение (2-10), выражение (2-14) преоб­ разуем в

D

(2-15)

32

Выражение (2-15) можно написать в окончательном виде, если воспользоваться соотношением Эйнштейна. Таким образом

пй = пре'и1кТ . (2-16)

Выражение (2-16) является одним из важнейших со­ отношений, описывающих процессы в электронно-дыроч­ ном переходе. Оно связывает концентрацию электронов, инжектированных в дырочную область, с концентрацией равновесных электронов в этой же области и напряже­ нием на переходе.

Аналогичное соотношение можно получить для ды­

рок, инжектированных в электронную область:

 

,qV]kT

(2-17)

 

Эти формулы для граничных величин концентраций

инжектированных носителей показывают, что концен­

трации

инжектированных

 

 

электронов

и

дырок

за­

 

 

висят

только

от

проводи­

 

p-mori

мости

области, в

которую

 

 

производится

инжекция,

 

 

и от напряжения на пере­

 

 

ходе

(если

пренебречь

 

 

падением

 

напряжения

 

 

в толще

полупроводни­

 

 

ков).

Граничные

концен­

Л.

трации

инжектированных

 

Валушоя

носителей

не

зависят от

 

 

 

размеров

соответствую­

 

1-Л

щей области

и

условий

 

 

внутри

переходного

слоя,

Рис.

2-4. Ход квазиуровней Фер­

который

предполагается

ми

для основных носителей.

малым.

Для основных! неравновесных носителей изменение плотности очень незначительно, поэтому квазиуровень Ферми, как это видно из рис. 2-4, постоянен.

2-3. ЭЛЕКТРОННО-ДЫРОЧНЫЙ ПЕРЕХОД ПОД ОБРАТНЫМ НАПРЯЖЕНИЕМ. ТОЛЩИНА И ЕМКОСТЬ ЗАПОРНОГО СЛОЯ

Падение потенциала в запорном слое мы назвали потенциальным барьером и показали, что он равен кон­ тактной разности потенциалов. При приложении обрат-

3 - 44

33

ного напряжения меняется и вв/сота потенциального барьера на величину приложенного напряжения. При этом запорный слой обедняется носителями и его тол­ щина увеличивается. Определим толщину слоя объем­ ного заряда для некоторых конкретных случаев.

Резкий или ступенчатый р-п-перехед

Рассмотрим электронно-дырочный переход, в

кото­

ром распределение примеси имеет ступенчатый

характер,

т. е. при х>0

концентрация акцепторов

равна

Na,

доно­

ров Л/д = 0, основных носителей pP~Na

(предполагается,

что все атомы примеси ионизированы). При х<0

кон­

центрация доноров равна Np, акцепторов Na = 0,

основ­

ных носителей

пп = Мя. Падением напряжения

на

толще

полупроводника и вкладом электронов и дырок в заряд пренебрегаем.

Таким образом, в электронном полупроводнике в за­

порном слое плотность объемного заряда

 

p-qN^qnn

при — 6 Э < * < 0 ;

(2-18)

в дырочном полупроводнике

p — qlVa = qpp при 0 < х < + бд .

Толщины запорного слоя в обеих областях обозна­ чены через б э и бд .

Закон изменения потенциала в переходной области описывается уравнением Пуассона

g - = = ^ , * > 0 ;

" (2-19)

х < 0

{ 2 . 2 0 )

Здесь е — диэлектрическая проницаемость полупро­ водника.

Граничные условия для решения этих уравнений:

9 = 0; ' - ^ - = 0 при

* =

+

8д ;

(2-21)

4^= = 0 П Р И х

= -

ь

9 .

(2-22)

Решения уравнений (2-19) и (2-20) можно написать в виде

 

9

л-Х)\

 

О < Х < Ь Л - ,

 

(2-23)

 

? = Ч>. - ^

(8, +

х)\

-

К <

х <

0.

(2-24)

В

точке л:=0 оба

решения

должны

быть

равны. Из

этого условия получим:

 

 

 

 

 

 

 

Т к =

^ - ( « п ^ +

рр 8д 2 ).

 

 

(2-25)

В

точке х = 0 должны быть равны также и производ­

ные dapfdx. Приравнивая производные выражений

(2-23)

и (2-24) при х = 0, получим:

 

 

 

 

 

 

 

 

бэ/бд = р Р / я п .

 

 

 

(2-26)

Из

этого выражения видно,

что

толщина

запорного

слоя больше в той области, где плотность примесных атомов меньше. При пп^>Рр, т. е. Na^>N&, бд ^>бэ , т. е. практически весь запорный слой сосредоточен в дыроч­

ной области.

Иначе

 

говоря, запорный слой

находится

в области с большим удельным сопротивлением.

Выражение

(2-26)

легко преобразуется:

 

 

5 Я

 

п„

53

 

Рр

'

К ' 1

Используя (2-27), из (2-25) получаем выражение для

толщины запорного

слоя

в обеих

областях б = б э

+ б д :

или

^

=

~

~ ^ - ( 2

ь

Г

 

(2-28)

8 = Л £ г -

"

 

,

 

(2-29)

 

п« + Р*Лт

 

При прочих равных условиях видно, что толщина за­ порного слоя зависит от концентрации примесных ато­ мов; чем больше концентрация примесей, тем меньше

толщина запорного

слоя.

 

 

 

В действительности электронно-дырочный переход

очень часто несимметричен,

т.

е., например,

Л^дЗ>Л^а.

Тогда толщина его

 

 

 

 

8

= 8 » = =

( ^

Г

(2-30)

3*

 

 

 

35

 

р-тип

 

 

 

В

этом

случае

практиче­

 

 

 

 

 

 

ски весь запорный слой на­

 

 

 

 

 

 

ходится в дырочной области,

 

 

 

х=0

 

 

а толщина

его

в

электрон­

 

 

 

 

 

 

ной области ничтожна. Чем

D

 

 

 

 

 

больше

сопротивление

ды­

 

 

 

 

 

рочной

области

(т. е.

чем

 

 

 

 

 

 

меньше Na), тем больше тол­

 

J

i!

 

 

щина

запорного

слоя.

На

В)

 

 

практике приходится

иметь

 

 

 

 

 

 

дело в основном с несимме­

 

 

 

 

 

 

тричными

р-я-переходами,

 

 

 

 

 

 

при

этом

сильнолегирован­

 

 

 

 

 

 

ную

 

область

• называют

 

 

 

 

 

 

эмиттером,

а

слаболегиро­

Рис.

2-5.

Распределение

кон­

ванную

базой,

т. е. в

реаль­

ных

приборах

слой

объем­

центрации

примеси

(а),

плот­

ности

заряда

(б),

напряжен­

ного

заряда

сосредоточен,

ности

(б)

и

потенциала (г)

как правило, в

базе.

 

 

в ступенчатом

р-и-переходе.

Если

имеется

 

прямое

 

 

 

 

 

 

смещение, то потенциальный

барьер на переходе уменьшится и превратится в срк U;

ширина запорного слоя тоже уменьшится, т. е.

 

 

 

 

 

 

 

8 _

у

*

»'/21

 

 

 

 

(2-31)

 

 

 

 

 

_ Г « ( ?

. - £ / )

 

 

 

 

 

 

Соответственно для обратного напряжения формула (2-"31) примет вид:

< 2 - 3 2 )

Выражение (2-31) справедливо до тех пор, пока име­ ется потенциальный барьер на переходе, т.е. покаф к > £ А При фк = , £ / в прямом направлении потенциальный барьер и запорный слой исчезают. При дальнейшем увеличении прямого напряжения полупроводник становится обыкно­ венным омическим сопротивлением. Однако в действи­ тельности этого достигнуть невозможно. Раньше, чем исчезнет потенциальный барьер, начнет играть роль омическое сопротивление толщи полупроводника, кото­ рым мы пренебрегали. Произойдет перераспределение напряжения, и значительная доля его будет падать на толще полупроводника, а меньшая часть — на переходе.

Получим закон изменения напряженности электри-

36

ческого поля в области объемного заряда, продиффе­

ренцировав

выражения

(2-23) и (2-24), учтя при

этом,

что напряженность

электрического

поля равна

нулю

вне перехода:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Е

= -

^ £

i l

(s

_

х),

0 <

х < хб;

(2-33)

 

Е

=

 

 

(8э

+

х),

- § э < л : < 0 .

(2-34)

Максимальное значение напряженности поля имеет

место при

х = 0

(рис.

2-5)

и для

обратного смещения

равно:

 

E ^

 

 

 

 

 

 

 

 

/

 

S

H .

(2-35)

Если к электронно-дырочному переходу приложено обратное переменное напряжение, то с изменением на­ пряжения будет изменяться величина слоя объемного заряда. Отношение изменения заряда этого слоя к из­ менению потенциала на переходе есть емкость слоя объемного заряда. Запорный слой, обедненный носите­ лями, будем рассматривать как слой изолятора между двумя проводниками — электронной и дырочной обла­ стями. Такую систему можно представить как плоский конденсатор и вычислить емкость, обычно называемую зарядной, по известной формуле

 

 

С

4*8 '

 

 

(2-36)

 

 

 

 

 

 

где б — ширина

запорного

слоя,

а .

площадь

элек-

тронно-дырочного перехода.

 

 

 

Для несимметричного р-д-перехода N^^Na,

если

использовать выражение (2-30), емкость

запорного

слоя

выразится следующим

образом:

 

 

 

 

C' = S

 

eqNB

1/2

 

(2-37)

 

8п

(u-U)

 

 

при этом U>0

в случае

прямого

напряжения и

U<0

для обратного напряжения.

 

 

 

Линейный переход

Из вышеприведенного анализа видно, что с увеличением прямо­ го напряжения ширина запорного слоя уменьшается, а с увеличе­ нием обратного напряжения увеличивается, при этом ширина запор-

37

кого слоя с достаточной точностью описывается полученными вы­

ражениями.

 

Однако

 

эти

выражения

справедливы,

если

имеется

крутой фронт распределения примесей.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Формула (2-30) справедлива,

если расстояние, на котором кон­

центрации примесей меняются от величины NA

до Na,

много меньше

ширимы запорного слоя б.

 

 

 

указанное

неравенство

не

Существуют уз-я-переходы, для которых,

выполняется. Такие электронно-дырочные

переходы

называются

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

плавными.

Как

пример

плавного

 

Si-тип

 

 

 

 

 

 

 

перехода,

рассмотрим

линейный

 

 

 

 

 

 

 

 

р-я-переход,

который

образуется

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

в том

случае,

если

в р и

«-обла­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

стях концентрации примесей, с по­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

мощью которых он образован, ли­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

нейно

уменьшаются

 

до

нулевого

 

 

1

!7U--TW--

 

значения

(как

изображено

на

 

 

1

X

рис. 2-6,а)

[Л. 2-1]. Рассмотрение

 

 

1

ведется при следующих

допуще­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ниях: в области перехода нет сво­

 

 

 

I

I

 

и

1 й

 

бодных носителей заряда, а про­

 

 

 

1

1

 

 

X

странственный

заряд

в

ней

со­

 

 

 

 

 

 

 

здается только

ионами примесей.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Плотность заряда в этом случае

 

 

Л

 

 

 

 

 

 

будет изменяться по ломаной ли­

 

 

 

 

!

 

 

 

нии (рис. 2-6,6)

с

разными

гра­

 

 

\

 

j

 

 

 

диентами на разных участках

щ'а,

 

 

 

1

 

 

 

X

q(N\+N'a),

qN\,

где

N\

и

N\-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

градиенты

концентраций

акцепто­

 

 

'

1

 

1

N1

 

 

 

ров и доноров.

 

 

объемного

за­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Если область

 

Рис. 2-6. Распределение кон­

ряда p-n-перехода

значительно ши­

центрации

примеси

(а), плот­

ре области перекрытия

(d^d),

то

ности

заряда

(б),

напряжен­

средним участком d можно прене­

ности

поля

 

(в)

и

 

потенциа­

бречь

и считать,

что

диаграмма

ла

(г)

в плавном

р-я-переходе.

распределения

плотности

заряда %

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

состоит только

из

двух

участков,

 

и qN'n.

 

В

этом

 

случае

 

с градиентами

плотности

заряда

qN'a

 

 

из уравнения Пуассона

нетрудно полу­

чить 'напряженность поля, считая, что плотность заряда линейно ме­

няется от

Я = qN'zbp,

(на

левой

границе

перехода)

до нуля и от

нуля до X=qN'n63 (на правой границе перехода).

выражениям,

Несложные

вычисления

приводят к

следующим

характеризующим параметры линейного р-я-перехода.

я-слоях равно:

Соотношение

между шириной

перехода в р- и

 

 

 

 

V

N\

 

(2-38)

 

 

 

 

 

 

Из этого соотношения следует, что в случае несимметричного

перехода

(например,

Na>NK)

переход

в основном сосредоточен

в слое с малым градиентом примеси ,(6 Д ~6 Э ) .

в виде {Л. 2-1]

Ширину слоя пространственного заряда получим

 

8

 

 

 

 

 

(2-39)

38

Для несимметричного перехода

(N'^N'a.)

это выражение упро­

щается до вида

 

 

 

 

 

 

(2-40)

и для обратного смещения переходит

в

выражение

ъ г Зе ( ¥ к

+

U)

(2-41)

 

 

 

Электронно-дырочный переход с гауссовским распределением примеси

Для р-я-переходов, полученных методом диффузии донорной или акцепторной примеси из ограниченного источника, 'расположенного на поверхности полупроводника с противоположным типом прово- „'

димости, получается распределение '

примеси

в

диффузионном

слое,

 

 

 

 

 

 

изображенное на рис. 2-7 и описы­

 

 

 

 

 

 

ваемое

гауссовской кривой:

 

 

 

 

 

 

 

 

N

(х,

t) =

N,e-x*l4Dt

 

,

 

 

 

 

 

 

 

*

 

 

 

 

 

 

 

 

(2-42)

 

 

 

 

 

 

где No — поверхностная

 

концен­

 

 

 

 

 

 

трация

 

примеси

в

рассматривае­

 

 

 

 

 

 

мый момент времени; D — коэффи­

 

 

 

 

 

 

циент диффузии примеси в крем­

 

 

 

 

 

 

нии; t — время

диффузии.

 

 

 

 

 

 

 

 

Выражения

 

для

напряженно­

 

 

 

 

 

 

сти электрического поля и потен­

 

 

 

 

 

 

циала в слое объемного заряда

 

 

 

 

 

 

получаются, как и в предыдущих

 

 

 

 

 

 

случаях,

интегрированием

уравне­

 

 

 

 

 

 

ния

Пуассона

для

 

|р|

=

 

 

 

 

 

 

= q\N(x, t)— NB\, при

тех же

до­

 

 

 

 

 

 

пущениях,

что

были

 

сделаны

Рис. 2-7. Распределение объем­

в двух

предыдущих случаях;

Na

исходная

концентрация

 

примеси

ного

заряда и

напряженности

в объеме полупроводника.

 

 

 

электрического

поля

в

диффу­

Обозначим

через . х,

глубину

зионном

р-и-переходе.

 

a

распределение объемного за­

залегания p-n-перехода; ai и а2

ряда;

б — распределение

напря­

части

объемного

заряда,

находя­

женности

электрического

поля.

щиеся

при

«-областях

полупро­

 

 

 

 

 

 

водника

соответственно. Для

прак­

уравнения

Пуассона

 

удобно

тических

применений

решения

 

представить

в

виде

графиков,

которые приведены

на

рис. 2-8—

2-10 для

N B /iVo=7 • 10~2. Другие

случаи

для

"различных

отношений

NJI/Nd

И XJ приведены в {Л. 2-2—2-6].

 

 

 

 

 

39

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ