Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Челноков В.Е. Физические основы работы силовых полупроводниковых приборов

.pdf
Скачиваний:
33
Добавлен:
24.10.2023
Размер:
9.71 Mб
Скачать

Из (5-59) следует, что поле Вебстера начинает ска­ зываться на движении неосновных носителей'при пере­

ходе к

высокому уровню инжекции. В

пределе, при

р > М д ,

наличие поля приводит к удвоению

коэффициен­

та диффузии и соответствующему увеличению коэффи­ циента переноса. В общем случае можно считать, что диффузия происходит с эффективным коэффициентом

диффузии,

равным:

 

 

 

 

/ 1 +

Y

 

(5-60)

Рассмотренный эффект имеет место лишь в случае

тонких базовых областей, т. е. когда w/L<^\.

В

случае,

когда в трехслойной структуре выполняется

соотноше­

ние a y / L > l

и базовый ток поступает

в нее

через кол­

лекторный р-я-переход, как это имеет

место

в

прибо­

рах, использующих р-п-р-п-структуры,

равенство

(5-57)

не выполняется и изменение эффективного коэффициен­

та диффузии носит иной характер.

 

 

 

Действительно, в этом случае для

базовой

я-обла­

сти p-n-p-структуры вместо (5-57) и

(5-59) следует за- .

писать:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ip

=

qp>ppE

q D

p ^

;

 

(5-61)

 

J n

=

q^nnEJrqDn^\

 

 

 

 

(5-62)

откуда

 

 

/ =

/ „ +

' p .

 

 

 

(5-63)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

' • =

г

 

p\

т

-

г

1

^

( 5 - 6 4 >

где b = |xn /jip — отношение

подвижностей

электронов и

дырок.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Из (5-64) следует, что при низких уровнях инжекции •Орофф — D p ,

•а при высоких уровнях инжекции |я~р^>/Уд |

0 p a t o = 0 p - 5 q r r

(5-65)

ПО

Из (5-65)

следует1,

что

если [b=i, т.

е. в полупровод­

нике

то £>ЭфФ =

-Ор,

если

же 6 > 1

, т. е. ц п » Ц р , то

А)фФ = 2£>Р.

Для кремния, у

которого

6 = 2,4, А»фф =

=1,41 D p .

Вслучае n-p-л-структуры для электронного тока, ин­

жектированного в базу, из (5-61) — (5-63) следует:

г

l b n

1 ? Р " ( ' + У )

дп

 

 

—7—6^V"i

 

 

т—лГ'

( 5 " ь ь )

 

+ Т)

 

1 +

т

 

 

откуда находим, ,что при

низких

уровнях

инжекции

а при высоких уровнях инжекции

 

 

 

 

 

£ > „ э Ф ф = 2 0 п / ( 6

+

1).

 

(5-67)

Из (5-67) следует, что

если 6 = 1, то ОпЭфф = Оп,

если

же 6 > - 1 , то

£>пэфф = 2£>р.

Таким

образом,

в л-р-я-струк-

туре в отличие от р-я-р-структуры при переходе к высоко­ му уровню инжекции происходит не увеличение эффек­ тивного * коэффициента диффузии, а его уменьшение. Физически это обусловлено, как и выше, тем, что более тяжелые, а потому менее подвижные неравновесные дырки тормозят движение неравновесных электронов, инжектированных в базу. Изменение эффективного ко­ эффициента диффузии во всех случаях приводит к соот­ ветствующему изменению эффективной диффузионной длины. Так, при высоких уровнях инжекции эффектив­

ная диффузионная длина

в р-л-р-структуре равна:

 

 

 

 

 

(5-68)

где

 

 

 

 

 

а эффективная

диффузионная длина

в

я-р-я-структуре

равна:

 

 

 

 

 

 

L n

d =

L n 1 / 2 / ( 6 + 1 ) ,

 

(5-69)

где L n = ~\/~Dnin\ i n

р — в

обоих случаях

время жизни

неравновесных

носителей

при высоком

уровне инжекции.

Ш

Экспериментальная зависимость коэффициента пере* Дачи кремниевой р-п-р-структуры от тока эмиттера пред­ ставлена на рис. 5-7. Характеристику можно разбить на три участка: 1) участок нарастания коэффициента пере­

дачи, обусловленный существованием

рекомбинационно-

генерационной

составляющей эмиттерного тока;

2) уча-

 

^

 

 

сток

постоянства

коэффици-

* г

-

 

ента

передачи

(здесь

над

 

 

 

 

всеми

другими

процессами

0,5 [- /

 

 

превалирует

диффузионный

 

 

 

 

механизм

переноса

 

тока);

 

 

 

 

3) участок снижения коэф-

n

г7

Q

. ,

фициента

передачи,

обу-

Рис. 5-7. Зависимость коэффи-

^

 

r

 

'

 

J

циента

передачи

кремниевой

словленный

возникновением

р-я-р-структуры от тока эмит-

электрических полей в обла-

т е Р а -

 

 

 

стях p-n-p-структуры. Пло­

 

 

 

 

скостные триоды

чаще

всего

работают в режимах, соответствующих второму

и треть­

ему

участкам.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Существование зависимости коэффициента

передачи

от тока требует введения дополнительных понятий. Бу­

дем называть

коэффициент усиления р-я-р-структуры

в схеме с общей

базой, определяемый

отношением'

 

хх = /рк//э ,

(5-70)

интегральным коэффициентом передачи. Здесь 1рк — ток неосновных носителей, инжектированных эмиттером и достигших коллектора; / э — полный ток эмиттерного р-п- перехода.

Соответственно будем называть дифференциальным коэффициентом передачи величину

 

 

й

(5-71)

 

 

dl,

 

Выражая из (5-70)

/ р к и дифференцируя

обе части

полученного равенства

по 1Э, получаем:

 

d/цк

+I

г da

(5-72)

следовательно,

 

 

 

а* = а +

1 э ^ - .

(5-73)

Из этого равенства следует, что определенные выше интегральный и дифференциальный коэффициенты пере-

112

дачи совпадают лишь в Том случае, если да не зависит" от тока. Интегральный коэффициент передачи можно вы­ разить через дифференциальный коэффициент передачи:

(5-74)

о

Из (5-73) следует, что в области малых токов эмит­ тера, где а представляет возрастающую функцию,

а*>\а.

5-5. КЛЮЧЕВОЙ РЕЖИМ РАБОТЫ р-/г-р-СТРУКТУРЫ

Исследование статических коллекторных характери­ стик (рис. 5-3 и 5-4) в зависимости от величины входно­ го тока показывает, что имеются три различные области,

определяющие

три режима работы р-я-р-структуры:

а) область

отсечки I, где входной сигнал либо ра­

вен нулю, либо имеет отрицательное значение по отно­

шению к переходу эмиттер — база;

 

б)

активная

область I I , характеризующаяся

тем, что

триод

обладает

усилительными

свойствами;

 

в)

область насыщения I I I ,

где коллекторный ток име­

ет максимальное значение, близкое к EK/RB и не

завися­

щее от изменений входного тока, который при этом дол­ жен быть не меньше определенной величины, обеспечи­ вающей насыщение структуры при данной величине со­ противления нагрузки.

Режим работы,

при котором структура

находится

в установившемся

состоянии, либо в области

отсечки,

либо в области насыщения, называется ключевым режи­ мом. Для работы в этом режиме наиболее часто исполь­ зуется включение р-я-р-структуры в схеме с общим эмит­ тером, которое в основном мы будем рассматривать. Поскольку к активной области и области отсечки приме­ нимы результаты, полученные ранее, основное внимание уделим рассмотрению процессов, протекающих в р-я-р- структуре в режиме насыщения.

Как следует из рис. 5-3 и 5-4, режим насыщения ха­ рактеризуется тем, что оба перехода, эмиттерный и кол­ лекторный, смещены в прямом направлении. При этом необходимо помнить, что хотя коллекторный переход смещен в прямом направлении, напряженность электри-

8—44

113

ческого поля объемного заряда коллекторного перехода сохраняет то же направление, что и при его обратном смещении, т. е. коллекторный переход сохраняет способ­ ность переноса своим полем неосновных носителей, при­ ходящих к нему со стороны базовой области. Концентра­ ции избыточных носителей в базе повышены по сравнению с активным режимом. Распределение неосновных носите­

 

лей

в базе

р-п-р-структуры,

 

работающей

в режиме насы­

 

щения,

представлено

на

 

рис. 5-8. Штриховой линией

 

показано

распределение

ды­

 

рок

при

работе

структуры

 

в активном

режиме,

когда

 

через цепь

коллектора

про­

 

текает тот же ток, что

и в

 

первом случае. Действитель­

 

но, в обоих случаях имеется

Рис. 5-8. Распределение не­

одинаковый

градиент

кон­

центрации дырок,

обеспечи­

основных носителей в базе

вающий одинаковый

диффу­

р-п-р-структуры.

зионный ток. Ток

базы,

при

 

котором реализуется-распределение, показанное штрихо­ вой линией, называют граничным. Его можно определить из соотношения

 

1К~В1§,

 

(5-75)

где В— коэффициент усиления р-я-р-структуры

в схеме

с общим

эмиттером.

 

 

Легко

убедиться, что когда h>lJB

= I ^ . r v ,

структура

находится в режиме насыщения, а когда /б</б.гр, струк­ тура выходит в активный режим работы.

Выражения для токов, протекающих в р-га-р-струк- туре триода, находящегося в режиме насыщения, мож­ но получить, решая уравнение непрерывности при гра­ ничных условиях, соответствующих данному режиму. Тем не менее, для расширения аппарата анализа струк­ тур с р-п-переходами воспользуемся упрощенным мето­ дом анализа триода в режиме насыщения, описанным Моллом [Л. 5-4], который предложил рассматривать существующее распределение дырок насыщенной- р-п-р- структуры как результат наложения двух режимов — прямого и инверсного. Под прямым включением р-п-р- структуры понимается нормальный режим работы, под

114

инверсным — режим, когда коллектор инжектирует не­ основные носители, т. е. выполняет функции эмиттера, а эмиттер их собирает, т. е. выполняет функции коллек­ тора. Коэффициент передачи эмиттерного тока для ин­

версного включения а* в реаль­

 

 

 

 

 

 

ных р-я-р-структурах, как пра­

 

 

 

 

 

 

вило,

 

меньше

 

нормального

 

 

 

 

 

 

коэффициента

 

передачи.

Ри­

 

 

 

 

 

 

сунок 5-9 поясняет, каким об­

 

 

 

 

 

 

разом

 

распределение

неоснов­

 

 

 

 

 

 

ных носителей в базе насыщен­

 

 

 

 

 

 

ной р-я-р-структуры

может

 

 

 

 

 

 

быть представлено в виде су­

 

 

 

 

 

 

перпозиции

двух активных

ре­

 

 

 

 

 

 

жимов — нормального

и

ин­

 

 

 

 

 

 

версного.

 

В

этом

случае

то­

 

 

 

 

 

 

ки

коллектора

и

 

эмиттера

Рис. 5-9. Представление

ре­

имеют

 

по

две

составляющих,

 

жима

насыщения

р-п-р-

одна

из

которых

обусловлена

структуры

в

виде суперпо­

напряжением

 

на

рассматри­

зиции

двух

активных

ре­

ваемом

переходе,

а

другая —

жимов.

 

 

 

 

влиянием

соседнего

перехода,

т. е.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(5-76)

 

Для определения обратных токов эмиттерного и кол­

лекторного переходов

(Ли и /02)

перепишем

 

(5-76) в виде

 

 

 

 

 

 

 

 

h =

( 1 — a a i ) I i +

a.iIK;

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/к = — (1 —сю,) h +

а/э .

 

 

 

 

 

Обозначив

через 1т

ток коллектора

при / э = 0 и через

/.,э

ток эмиттера

при / к = 0,

получим:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

A>i = 's3,/(1 — ааг );

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Л>.= — W 0

—ави­

 

 

 

 

 

зная

обратные

токи и

предполагая

справедливой

за-

висимость

 

 

 

 

 

 

 

qU/kT

1).

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

получаем

выражения

 

для

инжекционных

составляющих

токов

эмиттера

и

коллектора:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

— аа.

 

1);

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

qUjkT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

- 1 ) .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

115

Наконец, токи эмиттера и коллектора, определяемые уравнениями (5-76), можно теперь выразить через на­ пряжения на переходах

' » = г ^ , ^ ' , Г - ' ) + Й ^ ( ^ - 1 ) ; (5-77)

Уравнения (5-77) и (5-78) задают в параметрическом виде вольт-амперные характеристики р-п-р-структуры при работе транзистора в любой из трех областей. При этом необходимо помнить, что они получены без учета омических сопротивлений базы, эмиттера и коллектора.

5-6. ПЕРЕХОДНЫЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ р-н-р-СТРУКТУРЫ

ПРИ РАБОТЕ В АКТИВНОМ РЕЖИМЕ

Расчет переходных процессов в р-я-р-структурах в общем случае сводится к решению нелинейных урав­ нений, что не позволяет получить универсальную харак­ теристику, годную для различных режимов работы. По­ этому в дальнейшем ограничимся рассмотрением таких условий работы структуры, при которых допустима аппроксимация ее в виде линейной системы. Эти усло­ вия были отмечены в предыдущих параграфах при рас­ смотрении статических характеристик.

Под переходной характеристикой р-я-р-структуры по току принято понимать изменение выходного тока во времени при подаче в начальный момент на вход струк­ туры единичной ступеньки тока. Теоретическому и экс­

периментальному

анализу

переходных характеристик

структур триодов

посвящено

значительное количество

работ [Л. 5-5—Л.

5-7], в которых эта проблема

сводится

к анализу нестационарных процессов в базовой

области

р-я-р-структуры. При этом считается, что нестационар­ ные процессы в переходах играют пренебрежимо малую роль. Однако, как показывают исследования [Л. 5-8], при малых входных токах в схеме с общей базой проис­ ходит увеличение времени переходного процесса, обу­ словленное влиянием постоянной заряда эмиттерного перехода гэ , Сэ . Ясно, что в данном случае учет неста­ ционарных процессов в p-n-переходах необходим. Мы также ограничимся рассмотрением нестационарных про­ цессов только в базовой области плоскостного триода. 116

Включение p-n-p-структуры по схеме с общей базой

Анализ нестационарного процесса будем проводить при обычных допущениях теории плоскостных триодов. Электрическое поле в базах считаем отсутствующим, уровень инжекции — малым. В одномерном приближе­ нии для определения токов через p-n-p-структуру необ­ ходимо решить уравнение (5-17)

 

дР

^Рп р

 

\п^Е

 

 

 

 

 

dt

 

ъ

 

" Г п р и ­

 

 

 

 

граничные условия на эмиттерном и коллекторном

переходах, т. е. при

х — 0

и

x=w,

когда

в

эмиттерной

цепи протекает ступенька

дырочного

тока

/3 p=YA>>

за­

пишем в следующем

виде:

 

 

 

 

 

 

 

др

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

дх

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Начальное значение избыточной концентрации дырок

во всей базе равно нулю,

т. е. рп—р(х,

0 ) = 0 .

 

Обозначая р—р{х,

t)=Ap

 

и

преобразуя

уравнение

(5-17) по Лапласу, получаем:

 

 

 

 

 

 

 

д*

(Ар)

 

 

1Ар

= 0 ,

 

 

(5-8°)

где

дХ*

 

L

2 (

s )

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Lv{s)

=

- ^

=

,

Lv~yDz.

 

 

(5-81)

Общее решение (5-80) запишем в виде

 

 

 

Ар (х,

s) =

A/,L>

 

{S)

+ А*-*11'

( S ) .

(5-82)

Используя граничные

условия (5-82), получаем сле­

дующие выражения для

коэффициентов Л4

и Л2 :

 

 

 

,

 

 

,

, >

—wIL

(s)

 

 

 

 

qDp

 

wlLp(s)

 

-wins)

>

 

\o-oo)

А

-

I ' j

l

 

Lp(s)e°"L*{S)

 

 

/5

8 4 ч

^

qDp

w/Lp

(s) +

e-wfLp

(s)

W

° ^

Поскольку нас интересует переходная характеристи­ ка, определим выражение для изображения коллектор-

^

117

ного тока, продифференцировав по х (5-83), умножив результат на — g D P и положив x = w:

 

 

 

 

 

 

 

= у / э

sech

L P (si

 

(5-85)

Деля

IK(s)

на

ток

/ я

и

подставляя

значение

L p

( s ) ,

найдем изображение

коэффициента передачи

а:

 

 

• а/

I

S

 

 

 

а (s) =

[ seen

\

 

у

1 - р

о>хр^.

0,8

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(5-86)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Из (5-86), положив s =

0,

0,6

'//

 

 

 

 

легко

получить

статическое

 

 

 

 

 

значение

коэффициента

пе­

OA

 

 

 

 

 

 

редачи:

 

 

 

 

 

 

 

0,2

 

 

 

 

 

 

 

а =

у sech (до/Lp). (5-87)

 

 

 

 

 

 

Раскладывая

выражение

 

 

 

 

 

t

 

(5-85)

в

ряд

 

и

ограничи­

 

 

 

 

 

 

ваясь двумя первыми члена­

к

0,/

0,2

0,3

лснсек

ми, с учетом

соотношения

-0,2 / П

I

1

|

 

 

 

 

 

 

г,

 

 

1

/ w '

 

 

/

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис.1 5-10.

Переходные харак­

получаем:

 

 

 

 

 

 

теристики

p-n-p-структуры с

 

 

 

 

 

 

общей

базой,

соответствую­

 

 

(5)

=

 

 

 

(5-88)

щие

выражениям

(5-87) —

 

 

1

+

 

кривая

/,

(5-92) —кривая 2 и

 

 

 

 

 

 

 

где

 

 

 

 

 

 

 

 

(5-90) — кривая 3.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Оригиналом изображения (5-88) является

переход­

ная

характеристика

коэффициента

а,

имеющая

вид

обычной

экспоненциальной

функции:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

а(/) =

а0 (1

 

 

 

 

 

 

(5-90)

Отметим, что т а савно усредненному времени проле­ та дырками базовой области р-я-р-структуры при диф­ фузионном процессе переноса тока:

 

 

 

 

(5-91)

На

рис.

5-10

представлены

строгое / и приближен­

ное 3

решения,

соответствующие выражению (5-90).

Сравнение

кривых показывает,

что приближенное реше-

118

нйе не учитывает задержки выходного сигнала. Более точную, чем (5-90), формулу для a(t) можно написать в виде

t—t.

 

 

a (t) = 0

при

0 <

/ <

tz,

(5-92)

где

t3 — время

запаздывания

или

задержки

коллектор­

ного

тока.

 

 

 

 

 

 

Величину 4

получим,

разложив

(5-86)

на простые

дроби. Оригинал двух первых членов разложения имеет следующий вид:

 

Л*£2

\ t

 

-

_ Р

+1 )

 

« ( 0 = « e - ^ r J L ^ e

V

'

.

(5-93)

Приравняв (5-93) к нулю и решив полученное урав­ нение относительно t, определим момент времени, соот­ ветствующий пересечению кривой а(/) оси ординат, с достаточной точностью равный задержке коллектор­ ного тока:

где

(5-95)

# + 1

(5-96)

Отметим, что . величина %а, полученная разложением гиперболического секанса [см. (5-95)], несколько превы­ шает значение ха , полученное разло кением гипербэличе - ского косинуса [см. (5-91)].

119

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ