
книги из ГПНТБ / Челноков В.Е. Физические основы работы силовых полупроводниковых приборов
.pdf} п к ( j c |
) |
= _ |
Фп(пг-пр^^-тП; |
( |
5 |
l 3 ) |
/ я |
к |
( ш ) |
= - < ?D n("KO-»p,t )> |
( 5 1 |
4 |
) |
где п р к — равновесная концентрация электронов в ды рочной области коллектора; пк о — концентрация элек тронов на границе коллекторного перехода (рис. 5-6).
Для получения выражения дырочного тока базовой области воспользуемся уравнением непрерывности по тока дырок
дР ^Рп |
— Р |
1 |
dip |
(5-15) |
|
dt |
ip |
q |
дх. |
||
|
Учитывая, что для сделанных допущений
I p ^ - q D p ^ t |
(5-16) |
выражение (5-15) приводим к виду
Для рассматриваемого случая, когда анализируются установившиеся токи, при dp/dt = 0
g + ^ = ° - |
< 5 - 1 8 > |
Так как рп— величина постоянная, (5-18) можно пе реписать в виде
где
Dpxp = L 2 p . |
(5-20) |
Интегрируя уравнение (5-19), получаем:
Ар=р-рп=А |
sh |
+ B c h |
(5-21) |
Чтобы найти постоянные А я В, воспользуемся гра ничными условиями, определяемыми тем, что на эмиттерный и коллекторный переходы подано соответствен-
100
но прямое и обратное смещение. Тогда концентраций дырок на границах эмиттера и коллектора
P^Ps(0) |
= |
pne4Ua'kT |
|
(5-22) |
и |
|
|
|
|
РКо = Рк(®)=Рпе |
|
. |
(5-23) |
|
Подстановка (5-22) и |
(5-23) в |
(5-21) |
после неслож |
ных преобразований дает выражение для концентрации дырок в области базы:
Ар—р-рп |
= |
(х — w)' |
+ (Ло — Рп) sh - т - |
— (Ло — Рп) sh |
|
|
(5-24) |
Отметим, что для w<^.L, что, как.правило, имеет ме сто в структурах плоскостных триодов, (5-24) приводит ся к простому выражению:
Ap~A(w—х). |
(5-24а) |
Общее выражение для плотности |
дырочного тока |
в области базы получается после подстановки выраже
ния (5-24) в |
(5-16): |
|
|
|
|
|
|
— рп) ch |
х — |
w " |
(Рко — Рп) ch ( |
~i |
|
(Рао |
|
|
||||
X - |
|
|
sh / |
О) |
|
(5-25) |
|
|
|
|
|
||
Плотности дырочных |
токов эмиттера |
и коллектора |
||||
можно получить, если подставить в (5-25) |
соответствен |
|||||
но значения |
д: = 0 и x=w |
(см. рис. 5-5): |
|
|||
/ Р э ( 0 ) = ^ . [ ( р з 0 - Р п ) с ш ^ ) - |
|
|||||
|
— (Рко — Рп) csch ^ ) ] |
: |
(5-26) |
|||
/ р к |
<да) = |
^(рэ„ - |
Рп) csch |
|
|
|
|
- (Рко |
— A i ) c t h |
. |
(5-27) |
101
Суммарные токи, протекающие в цепях эмиттера и коллектора, являются результатами сложения дырочно го и электронного токов. При обратном смещении кол лекторного перехода, а рассматривается именно этот случай, когда рк о<С/)п , плотность эмиттерного тока мож но выразить следующим образом:
|
/ э = [ / р в С 1 Ь ( - у + / п 5 з ] ( / и э Д Г - 1 ) + |
|
||||||
|
|
+ / p e c s c h ^ ) , |
|
(5-28) |
||||
где |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
l p s = |
4 - |
^ |
|
(5-29) |
||
и |
|
|
|
|
L,p |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
= |
|
|
|
(5-30) |
Аналогично, пренебрегая пк о по сравнению с прк, |
по |
|||||||
лучаем |
выражение для |
|
коллекторного |
тока: |
|
|||
/ к = / р 8 |
csch |
( e 4 V j |
a |
- |
1) + |
I n s K + |
/Р з cth ( - ^ |
,(5-31) |
где |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
J |
m |
t = |
^ |
B . |
|
(5-32) |
5-3. КОЭФФИЦИЕНТ ПЕРЕДАЧИ ТОКА
Мз полного тока эмиттерного перехода лишь дыроч ная составляющая оказывает воздействие на коллек торную цепь. Поэтому представляется важным оценить эффективность эмиттера как поставщика дырок в базо вую область.
Для оценки эффективности эмиттера воспользуемся введенным во второй главе понятием коэффициента инжекции p-n-перехода, представляющим собой отношение дырочной составляющей к полному току эмиттера:
|
Р |
Л» (0) + Ira (°) |
M l c t [ ] |
Cth / W
(5-33)
/ Л \ _ j . A>"»o
102
Ранее было |
показано, |
что для электронно-дырочного |
|||
перехода |
|
|
|
|
|
|
|
Л>0 |
° Р ° П |
|
(5-34) |
|
|
|
|
||
Поэтому |
после некоторого |
упрощения |
выражение |
||
для коэффициента |
инжекции эмиттера примет вид: |
||||
|
• |
т = |
~ |
-.—^. |
(5-35) |
Разлагая гиперболический тангенс в ряд, учитывая, что обычно w/L<^\, получаем:
т ^ 1 l£»«L. |
|
(&.35а) |
|
Сравнивая это выражение с выражением |
(2-70), по |
||
лученным для отдельного p-n-перехода, можно |
отме |
||
тить, что вместо Ьр в выражении |
(5-35а) стоит |
w. Это |
|
объясняется тем, что наличие дополнительного |
перехода, |
||
расположенного возле перехода, |
инжектирующего _ дыр |
ки, привело к изменению распределения дырок в базо вой области, причем уменьшение концентрации дырок происходит уже не на расстоянии порядка диффузион ной длины, а на расстоянии, равном ширине базовой области w.
Из выражения (5-35) видно, что для повышения эф фективности эмиттера необходимо иметь электронно-ды
рочный переход с ат а <С0Р . Для |
типичных |
транзисторов |
||||
со |
структурой |
типа р-п-р проводимость |
эмиттера а Р |
= |
||
= |
100 ом • см~х, |
сгп =1 ом-смг^, |
L P = 0,1 |
см, |
L„ = 0,15 |
см, |
да = 0,002 см, поэтому у очень близок к единице. |
|
|||||
|
Проследим |
за дальнейшим |
движением |
" неосновных |
носителей, попавших в базу. Не все дырки, инжектируе мые в область базы, достигают коллектора. Часть из них рекомбинирует в объеме базы (рекомбинацией на по верхности вблизи эмиттерного перехода пренебрегаем). Эффективность переноса неосновных носителей через базовую область оценивается с помощью коэффициента переноса р\ определяемого как отношение тока дырок,
инжектируемых |
из эмиттера и |
достигших |
коллектора, |
|
к току дырок, |
инжектированных |
из |
эмиттера: |
|
|
р = / Р к ( а > ) / / р э ( 0 ) . |
|
(5-36) |
103
Полученные выше выражения (5-26) |
и (5-27), по ко |
|||
торым определяются значения IPK(w) |
и /рэ(0), |
можно |
||
упростить, использовав условие рко<^рп, |
которое |
реали |
||
зуется при обратном смещении коллекторного |
перехода, |
|||
а также условие рэо^Рп, |
которое реализуется |
при пря |
||
мом смещении эмиттерного перехода, |
так как |
обычно |
||
qU^kT. |
|
|
|
|
В результате получим: |
|
|
|
|
B = |
s c h - f - . |
|
|
(5-37) |
Аналогично предыдущим случаям, разлагая гипербо лическую функцию в ряд и ограничиваясь двумя пер выми членами разложения приведем (5-37) к виду
Используя найденные выражения для коэффициента инжекции эмиттерного перехода (5-35а) и коэффициента передачи (5-37а) и представляя коэффициент передачи эмиттерного тока а в виде "произведения этих коэффи циентов, получаем:
« = ^ 0 - = £ ) [ ' - - H i ) ] - <И8>
В гл. 3 было показано, что при напряжениях, близ ких к напряжению пробоя, в электронно-дырочном пере ходе начинается генерация носителей тока, обусловлен ная процессами лавинного умножения в слое объемного заряда. Этот эффект можно учесть, введя коэффициент умножения носителей тока в коллекторном переходе М, представляющий собой, как и в отдельном р-га-переходе, отношение количества носителей, выходящих из коллек торного перехода, к количеству носителей, введенных в этот переход. В этом случае выражение для коэффи циента передачи эмиттерного тока р-ге-р-структуры мож но написать в виде
|
а='РуЛГ. |
(5-38а) |
Анализ выражений (5-35), (5-36) и (5-38) |
показы |
|
вает, |
что для допущений, принятых нами, в частности, |
|
при |
пренебрежении процессами, проходящими |
в слое |
объемного заряда, т. е. в случае тонких р-л-переходов, и J04
Малом уровне инжекции, коэффициент передачи эмиттерного тока не зависит от величины тока эмиттера, а определяется параметрами р-я-р-структуры,-Получен ные результаты применимы в довольно широком диапа зоне эмиттерных токов германиевых плоскостных трио* дов. Для построения теории кремниевых плоскостных триодов необходимо рассмотреть факторы, влияющие на зависимость коэффициента передачи от тока.
5-4. ЗАВИСИМОСТЬ КОЭФФИЦИЕНТА ПЕРЕДАЧИ ОТ ТОКА. ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНЫЕ И ИНТЕГРАЛЬНЫЕ КОЭФФИЦИЕНТЫ ПЕРЕДАЧИ
Определим сначала зависимости от тока коэффици ента инжекции у и коэффициента переноса р\ не учиты вая умножения носителей в коллекторном переходе.
В общем случае, когда помимо инжекции из эмитте ра в базу имеет место инжекция из базы в эмиттер и, кроме того, существенны токи утечки и рекомбинации в слое объемного заряда эмиттерного перехода, коэф
фициент инжекции |
определяется |
выражением |
|
|||||
у |
[р* |
|
|
|
! |
i |
(5-39) |
|
Spa + |
J-na |
~Ь Л- + / y i |
. |
. |
/па |
, |
Л- 1_Лгт |
|
|
|
|
1 |
-Г |
/ |
"Г/ |
I / |
|
|
|
|
|
|
1 рэ |
|
J рэ |
I рэ |
где / г — ток рекомбинации в слое объемного заряда р-п- перехода; / у т — т о к искусственной или естественной утечки, обусловленной шунтированием р-я-перехода по верхностями с большой скоростью рекомбинации.
Как следует" из выражений (5-34) и (5-35),
'рэ |
"pLn |
\ |
Р J |
(5-40) |
|
||||
или для w L p |
|
|
|
|
|
Т~'» |
1ГТ' |
|
(5-41) |
|
'PSJ |
а п ь р |
|
|
При малых и средних прямых смещениях на р-л-пе- реходе, когда процессы рекомбинации в слое объемно го заряда играют существенную роль, величина тока рекомбинации определяется выражением (см. 2-102)
1г = 1гЛи)е"и1Ш. |
(5-42) |
105
Из выражений (5-22) и (5-26) можно получить:
/ * = ^ |
cth {- {eqmT |
- 1 ) « / р . |
(5-43) |
Сравнивая соотношения (5-42) и (5-43), легко зазаметить, что при малых и средних значениях U, когда величина /, 0 значительно превышает I p s , коэффициент инжекции существенно меньше единицы. С ростом на пряжения в силу того, что показатель экспоненты для тока рекомбинации вдвое меньше показателя для тока инжекции, последний значительно превышает ток реком бинации, и значение у практически не отличается от единицы.
Ток утечки / у т в большинстве случаев тоже нелиней но связан с напряжением, приложенным к р-я-переходу, но эта нелинейность обычно невелика и практически можно считать, что
где Луч — сопротивление утечки.
Наличие токов рекомбинации и утечки приводит к тому, что коэффициент инжекции при малых токах воз растает сравнительно медленно. При прямых смещениях на р-я-переходе диффузионные токи значительно превос ходят токи рекомбинации и утечки даже в кремниевых
p-n-переходах и коэффициент |
инжекции |
! + 7Г |
1 + |
h |
°vLn |
Отношение токов |
|
i s |
(5-45) |
/« |
|
называют относительным дефицитом инжекции, а раз ность 1—у просто дефицитом инжекции.
Концентрации неосновных носителей у р-я-перехода в эмиттере и в базе связаны с концентрациями основ
ных носителей у p-n-перехода |
следующими |
соотноше |
|||
ниями: |
|
|
|
|
|
|
|
<7(у-Ц) |
|
|
|
п0 |
= |
п'пе |
кТ |
; |
(5-46) |
|
|
Q (Ч>к-Ц) |
|
|
|
p 6 |
= |
p V |
k T |
, |
(5-47) |
106
где п'п — концентрация электронов в «-области (базе) у p-n-перехода; p'v — концентрация дырок в р-области (эмиттере) у р-п-перехода.
Поэтому |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
К |
^Рпп'п |
|
|
|
|
|
|
(5-48) |
|
Для |
неравновесных носителей в полупроводнике |
имеет |
||||||||||||
место |
соотношение |
п'рр'р |
= п^ехр^ |
^"'^кт**'* ) ' г |
д |
е |
||||||||
и f K 3 — квазипотенциалы Ферми дырок |
и электронов со |
|||||||||||||
ответственно. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
В силу |
условия |
квазинейтральности |
|
|
|
|
|
|||||||
|
п'п |
= |
(Мл |
|
qUjkT ^ I |
, |
п |
Ш |
) |
I |
|
(5-49) |
||
|
+ рпр'и,ы)(1-е |
|
|
|
" |
|
||||||||
|
^ |
= |
(Nt |
+ n,e"VIK)(l-e |
|
|
^ |
) ~ \ |
|
|
(5-50) |
|||
где рп — равновесная концентрация дырок в базе; |
пр — |
|||||||||||||
равновесная концентрация электронов в эмиттере; |
|
Na— |
||||||||||||
концентрация акцепторов в р-области; |
А'д — концентра |
|||||||||||||
ция дырок в «--области. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
На |
основании |
|
(5-48) — (5-50) |
можно |
записать, |
что |
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
р |
|
|
|
|
(5-51) |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
N |
° |
|
|
|
|
|
|
Учитывая закон действующих масс, получаем оконча |
||||||||||||||
тельно: |
|
|
|
|
|
|
„2 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
||
|
|
|
|
|
|
|
п. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
wDnN, |
|
N |
z |
|
|
|
|
|
(5-52) |
|
|
|
lp |
|
LnDvNR |
|
|
Пр^ „qVlkT |
|
|
|
|||
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|||||
|
|
|
|
|
|
1 |
"г N |
е |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
1 4 |
а |
|
|
|
|
|
|
Из (5-51-) и (5-52) следует, что при малых уровнях |
||||||||||||||
инжекции, когда |
pneiulhT |
< М Д |
и |
я р е 9 № |
г < М а дефицит |
|||||||||
инжекции |
практически не |
меняется |
и |
равен: |
|
|
|
|||||||
|
|
|
1п |
wDnNa |
|
O J ( J 6 O |
|
« Р к . д . э ¥ к . э . э |
|
(5-53) |
||||
|
|
|
lp |
LnDpN„ |
Lnna(l |
|
< р я . д . в < р н . э . в ' |
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
||||||||
где Обо и оэо — немодулированные |
проводимости |
базы и |
||||||||||||
эмиттера |
соответственно. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
• 107
Поскольку степень легирования эмиттера обычно примерно на два порядка выше, чем степень легирова ния базы, т. е. >Л/д<С!/Уа, то при переходе к высоким уров ням инжекции, как видно из (5-52), имеет место увели чение дефицита инжекции и, соответственно, снижение коэффициента у. При очень больших значениях тока че рез р-я-переход, когда
U~ Т к — q Ш ^ »
отношение 7 „ / / р стремится к значению -туг- [Л. 5-2].
В случае чисто диффузионного движения инжектиро ванных неосновных носителей в базе коэффициент пере носа в стационарном режиме определяется выражением (5-36). При наличии в базовой области заметного элек трического поля инжектированные неосновные носители движутся не только вследствие диффузии, но и в резуль тате дрейфа в поле. Такое поле возникает, например, при наличии в базе градиента концентрации примесей. Решение стационарного уравнения непрерывности с уче том постоянного электрического поля Е, ускоряющего движение носителей, приводит к следующему выраже нию для коэффициента переноса [Л. 5-3]:
Р |
|
exp (qEw/2kT) |
, |
|
Р — |
qELp |
|
|
~* |
2 |
k T |
ш_ |
/ fqELpy |
~ |
V(qELp/2kT)*+\ |
S h L p y |
{ 2kT J + |
+ |
(5-54)
w_ |
f |
(qELv\* |
+ < * 7p |
7 l / f w ) + 1 |
|
L |
у |
[2kT J |
Если электрическое поле E равно нулю, то (5-54) переходит в (5-37). Если электрическое поле отлично от нуля, но мало, так что ELp<^kTjq и w>Lv, то из (5-54) следует:
PH2(l4#)exp(-i+#). (5-55,
Таким образом, в этом случае имеет место экспонен циальный рост р при увеличении напряжения Ew в ба зовой области.
108
|
При больших значениях поля характер |
зависимости р" |
|||||
от |
Е |
изменяется. |
Действительно, |
при |
ELv~>kTlq |
из |
|
(5-54) |
получим: |
|
*_ |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
р=<<? \ |
|
|
(5-56) |
где |
•& = w/\ipE — время |
дрейфового |
пролета дырок |
через |
|||
базу; |
ц р — подвижность |
дырок. |
|
|
асим |
||
|
Следовательно, |
при |
стремящемся к нулю, р1 |
||||
птотически приближается к единице. |
|
|
|
Приведенные выше простые выражения для коэффи циента переноса получены при условии постоянства под вижности и времени жизни неосновных носителей вдоль базы. Помимо электрического поля, обусловленного гра диентом концентрации примесей в базе, может возникать электрическое поле, связанное с различием условий, в которых находятся основные и неосновные неравновес ные носители [Л. 5-2]. Действительно, поскольку в базо вой области существует градиент концентрации неоснов
ных носителей |
вследствие их ухода |
в коллектор, то |
в силу условия |
квазинейтральности в |
ней существует |
в каждой точке такой же градиент концентрации нерав новесных основных носителей. Однако в то время как неосновные носители движутся через базу соответствен но этому градиенту, поток основных носителей от эмит
тера |
к коллектору |
отсутствует, |
поскольку |
последний |
|||||
представляет |
для |
них |
значительный |
потенциальный |
|||||
барьер. В результате этого |
и возникает |
электрическое |
|||||||
поле, |
ускоряющее движение |
инжектированных |
неоснов |
||||||
ных |
носителей. Величина его, очевидно, может быть |
||||||||
определена из |
условия |
|
|
|
|
|
|
||
|
|
/ . я = |
ЯЪ,яЯ + |
? Я » з £ = |
0, |
|
(5-57) |
||
откуда |
|
1 |
|
|
|
1 |
|
(5 58^ |
|
|
£ |
kT |
dn |
kT |
|
dp |
|||
|
|
q |
it |
dx |
q |
Na |
+ p |
dx' |
' |
где n=iNR+p' — концентрация электронов в базовой об ласти; р''— концентрация неравновесных дырок; р — кон центрация дырок (равновесных и неравновесных).
С учетом (5-58) дырочный ток в базовой области можно записать следующим образом:
109