Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Челноков В.Е. Физические основы работы силовых полупроводниковых приборов

.pdf
Скачиваний:
34
Добавлен:
24.10.2023
Размер:
9.71 Mб
Скачать

} п к ( j c

)

= _

Фп(пг-пр^^-тП;

(

5

l 3 )

/ я

к

( ш )

= - < ?D n("KO-»p,t )>

( 5 1

4

)

где п р к — равновесная концентрация электронов в ды­ рочной области коллектора; пк о — концентрация элек­ тронов на границе коллекторного перехода (рис. 5-6).

Для получения выражения дырочного тока базовой области воспользуемся уравнением непрерывности по­ тока дырок

дР ^Рп

— Р

1

dip

(5-15)

dt

ip

q

дх.

 

Учитывая, что для сделанных допущений

I p ^ - q D p ^ t

(5-16)

выражение (5-15) приводим к виду

Для рассматриваемого случая, когда анализируются установившиеся токи, при dp/dt = 0

g + ^ = ° -

< 5 - 1 8 >

Так как рп— величина постоянная, (5-18) можно пе­ реписать в виде

где

Dpxp = L 2 p .

(5-20)

Интегрируя уравнение (5-19), получаем:

Ар=р-рп

sh

+ B c h

(5-21)

Чтобы найти постоянные А я В, воспользуемся гра­ ничными условиями, определяемыми тем, что на эмиттерный и коллекторный переходы подано соответствен-

100

но прямое и обратное смещение. Тогда концентраций дырок на границах эмиттера и коллектора

P^Ps(0)

=

pne4Ua'kT

 

(5-22)

и

 

 

 

 

РКо = Рк(®)=Рпе

 

.

(5-23)

Подстановка (5-22) и

(5-23) в

(5-21)

после неслож­

ных преобразований дает выражение для концентрации дырок в области базы:

Ар—р-рп

=

(х — w)'

+ (Ло — Рп) sh - т -

— (Ло — Рп) sh

 

(5-24)

Отметим, что для w<^.L, что, как.правило, имеет ме­ сто в структурах плоскостных триодов, (5-24) приводит­ ся к простому выражению:

Ap~A(w—х).

(5-24а)

Общее выражение для плотности

дырочного тока

в области базы получается после подстановки выраже­

ния (5-24) в

(5-16):

 

 

 

 

 

 

рп) ch

х —

w "

(Рко — Рп) ch (

~i

(Рао

 

 

X -

 

 

sh /

О)

 

(5-25)

 

 

 

 

 

Плотности дырочных

токов эмиттера

и коллектора

можно получить, если подставить в (5-25)

соответствен­

но значения

д: = 0 и x=w

(см. рис. 5-5):

 

/ Р э ( 0 ) = ^ . [ ( р з 0 - Р п ) с ш ^ ) -

 

 

— (Рко — Рп) csch ^ ) ]

:

(5-26)

/ р к

<да) =

^(рэ„ -

Рп) csch

 

 

 

- (Рко

— A i ) c t h

.

(5-27)

101

Суммарные токи, протекающие в цепях эмиттера и коллектора, являются результатами сложения дырочно­ го и электронного токов. При обратном смещении кол­ лекторного перехода, а рассматривается именно этот случай, когда рк о<С/)п , плотность эмиттерного тока мож­ но выразить следующим образом:

 

/ э = [ / р в С 1 Ь ( - у + / п 5 з ] ( / и э Д Г - 1 ) +

 

 

 

+ / p e c s c h ^ ) ,

 

(5-28)

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

l p s =

4 -

^

 

(5-29)

и

 

 

 

 

L,p

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

=

 

 

 

(5-30)

Аналогично, пренебрегая пк о по сравнению с прк,

по­

лучаем

выражение для

 

коллекторного

тока:

 

/ к = / р 8

csch

( e 4 V j

a

-

1) +

I n s K +

/Р з cth ( - ^

,(5-31)

где

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

J

m

t =

^

B .

 

(5-32)

5-3. КОЭФФИЦИЕНТ ПЕРЕДАЧИ ТОКА

Мз полного тока эмиттерного перехода лишь дыроч­ ная составляющая оказывает воздействие на коллек­ торную цепь. Поэтому представляется важным оценить эффективность эмиттера как поставщика дырок в базо­ вую область.

Для оценки эффективности эмиттера воспользуемся введенным во второй главе понятием коэффициента инжекции p-n-перехода, представляющим собой отношение дырочной составляющей к полному току эмиттера:

 

Р

Л» (0) + Ira (°)

M l c t [ ]

Cth / W

(5-33)

/ Л \ _ j . A>"»o

102

Ранее было

показано,

что для электронно-дырочного

перехода

 

 

 

 

 

 

 

Л>0

° Р ° П

 

(5-34)

 

 

 

 

Поэтому

после некоторого

упрощения

выражение

для коэффициента

инжекции эмиттера примет вид:

 

т =

~

-.—^.

(5-35)

Разлагая гиперболический тангенс в ряд, учитывая, что обычно w/L<^\, получаем:

т ^ 1 l£»«L.

 

(&.35а)

Сравнивая это выражение с выражением

(2-70), по­

лученным для отдельного p-n-перехода, можно

отме­

тить, что вместо Ьр в выражении

(5-35а) стоит

w. Это

объясняется тем, что наличие дополнительного

перехода,

расположенного возле перехода,

инжектирующего _ дыр­

ки, привело к изменению распределения дырок в базо­ вой области, причем уменьшение концентрации дырок происходит уже не на расстоянии порядка диффузион­ ной длины, а на расстоянии, равном ширине базовой области w.

Из выражения (5-35) видно, что для повышения эф­ фективности эмиттера необходимо иметь электронно-ды­

рочный переход с ат а <С0Р . Для

типичных

транзисторов

со

структурой

типа р-п-р проводимость

эмиттера а Р

=

=

100 ом • см~х,

сгп =1 ом-смг^,

L P = 0,1

см,

L„ = 0,15

см,

да = 0,002 см, поэтому у очень близок к единице.

 

 

Проследим

за дальнейшим

движением

" неосновных

носителей, попавших в базу. Не все дырки, инжектируе­ мые в область базы, достигают коллектора. Часть из них рекомбинирует в объеме базы (рекомбинацией на по­ верхности вблизи эмиттерного перехода пренебрегаем). Эффективность переноса неосновных носителей через базовую область оценивается с помощью коэффициента переноса р\ определяемого как отношение тока дырок,

инжектируемых

из эмиттера и

достигших

коллектора,

к току дырок,

инжектированных

из

эмиттера:

 

р = / Р к ( а > ) / / р э ( 0 ) .

 

(5-36)

103

Полученные выше выражения (5-26)

и (5-27), по ко­

торым определяются значения IPK(w)

и /рэ(0),

можно

упростить, использовав условие рко<^рп,

которое

реали­

зуется при обратном смещении коллекторного

перехода,

а также условие рэо^Рп,

которое реализуется

при пря­

мом смещении эмиттерного перехода,

так как

обычно

qU^kT.

 

 

 

 

В результате получим:

 

 

 

 

B =

s c h - f - .

 

 

(5-37)

Аналогично предыдущим случаям, разлагая гипербо­ лическую функцию в ряд и ограничиваясь двумя пер­ выми членами разложения приведем (5-37) к виду

Используя найденные выражения для коэффициента инжекции эмиттерного перехода (5-35а) и коэффициента передачи (5-37а) и представляя коэффициент передачи эмиттерного тока а в виде "произведения этих коэффи­ циентов, получаем:

« = ^ 0 - = £ ) [ ' - - H i ) ] - <И8>

В гл. 3 было показано, что при напряжениях, близ­ ких к напряжению пробоя, в электронно-дырочном пере­ ходе начинается генерация носителей тока, обусловлен­ ная процессами лавинного умножения в слое объемного заряда. Этот эффект можно учесть, введя коэффициент умножения носителей тока в коллекторном переходе М, представляющий собой, как и в отдельном р-га-переходе, отношение количества носителей, выходящих из коллек­ торного перехода, к количеству носителей, введенных в этот переход. В этом случае выражение для коэффи­ циента передачи эмиттерного тока р-ге-р-структуры мож­ но написать в виде

 

а='РуЛГ.

(5-38а)

Анализ выражений (5-35), (5-36) и (5-38)

показы­

вает,

что для допущений, принятых нами, в частности,

при

пренебрежении процессами, проходящими

в слое

объемного заряда, т. е. в случае тонких р-л-переходов, и J04

Малом уровне инжекции, коэффициент передачи эмиттерного тока не зависит от величины тока эмиттера, а определяется параметрами р-я-р-структуры,-Получен­ ные результаты применимы в довольно широком диапа­ зоне эмиттерных токов германиевых плоскостных трио* дов. Для построения теории кремниевых плоскостных триодов необходимо рассмотреть факторы, влияющие на зависимость коэффициента передачи от тока.

5-4. ЗАВИСИМОСТЬ КОЭФФИЦИЕНТА ПЕРЕДАЧИ ОТ ТОКА. ДИФФЕРЕНЦИАЛЬНЫЕ И ИНТЕГРАЛЬНЫЕ КОЭФФИЦИЕНТЫ ПЕРЕДАЧИ

Определим сначала зависимости от тока коэффици­ ента инжекции у и коэффициента переноса р\ не учиты­ вая умножения носителей в коллекторном переходе.

В общем случае, когда помимо инжекции из эмитте­ ра в базу имеет место инжекция из базы в эмиттер и, кроме того, существенны токи утечки и рекомбинации в слое объемного заряда эмиттерного перехода, коэф­

фициент инжекции

определяется

выражением

 

у

[р*

 

 

 

!

i

(5-39)

Spa +

J-na

~Ь Л- + / y i

.

.

/па

,

Л- 1_Лгт

 

 

 

 

1

/

"Г/

I /

 

 

 

 

 

 

1 рэ

 

J рэ

I рэ

где / г — ток рекомбинации в слое объемного заряда р-п- перехода; / у т — т о к искусственной или естественной утечки, обусловленной шунтированием р-я-перехода по­ верхностями с большой скоростью рекомбинации.

Как следует" из выражений (5-34) и (5-35),

'рэ

"pLn

\

Р J

(5-40)

 

или для w L p

 

 

 

 

 

Т~'»

1ГТ'

 

(5-41)

 

'PSJ

а п ь р

 

 

При малых и средних прямых смещениях на р-л-пе- реходе, когда процессы рекомбинации в слое объемно­ го заряда играют существенную роль, величина тока рекомбинации определяется выражением (см. 2-102)

1г = 1гЛи)е"и1Ш.

(5-42)

105

Из выражений (5-22) и (5-26) можно получить:

/ * = ^

cth {- {eqmT

- 1 ) « / р .

(5-43)

Сравнивая соотношения (5-42) и (5-43), легко зазаметить, что при малых и средних значениях U, когда величина /, 0 значительно превышает I p s , коэффициент инжекции существенно меньше единицы. С ростом на­ пряжения в силу того, что показатель экспоненты для тока рекомбинации вдвое меньше показателя для тока инжекции, последний значительно превышает ток реком­ бинации, и значение у практически не отличается от единицы.

Ток утечки / у т в большинстве случаев тоже нелиней­ но связан с напряжением, приложенным к р-я-переходу, но эта нелинейность обычно невелика и практически можно считать, что

где Луч — сопротивление утечки.

Наличие токов рекомбинации и утечки приводит к тому, что коэффициент инжекции при малых токах воз­ растает сравнительно медленно. При прямых смещениях на р-я-переходе диффузионные токи значительно превос­ ходят токи рекомбинации и утечки даже в кремниевых

p-n-переходах и коэффициент

инжекции

! + 7Г

1 +

h

°vLn

Отношение токов

 

i s

(5-45)

 

называют относительным дефицитом инжекции, а раз­ ность 1—у просто дефицитом инжекции.

Концентрации неосновных носителей у р-я-перехода в эмиттере и в базе связаны с концентрациями основ­

ных носителей у p-n-перехода

следующими

соотноше­

ниями:

 

 

 

 

 

 

 

<7(у-Ц)

 

 

п0

=

п'пе

кТ

;

(5-46)

 

 

Q (Ч>к-Ц)

 

 

p 6

=

p V

k T

,

(5-47)

106

где п'п — концентрация электронов в «-области (базе) у p-n-перехода; p'v — концентрация дырок в р-области (эмиттере) у р-п-перехода.

Поэтому

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

К

пп'п

 

 

 

 

 

 

(5-48)

Для

неравновесных носителей в полупроводнике

имеет

место

соотношение

п'рр'р

= п^ехр^

^"'^кт**'* ) ' г

д

е

и f K 3 — квазипотенциалы Ферми дырок

и электронов со­

ответственно.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

В силу

условия

квазинейтральности

 

 

 

 

 

 

п'п

=

л

 

qUjkT ^ I

,

п

Ш

)

I

 

(5-49)

 

+ рпр'и,ы)(1-е

 

 

 

"

 

 

^

=

(Nt

+ n,e"VIK)(l-e

 

 

^

) ~ \

 

 

(5-50)

где рп — равновесная концентрация дырок в базе;

пр

равновесная концентрация электронов в эмиттере;

 

Na

концентрация акцепторов в р-области;

А'д — концентра­

ция дырок в «--области.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

На

основании

 

(5-48) — (5-50)

можно

записать,

что

 

 

 

 

 

 

 

р

 

 

 

 

(5-51)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N

°

 

 

 

 

 

 

Учитывая закон действующих масс, получаем оконча­

тельно:

 

 

 

 

 

 

„2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

п.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

wDnN,

 

N

z

 

 

 

 

 

(5-52)

 

 

 

lp

 

LnDvNR

 

 

Пр^ „qVlkT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

N

е

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1 4

а

 

 

 

 

 

 

Из (5-51-) и (5-52) следует, что при малых уровнях

инжекции, когда

pneiulhT

< М Д

и

я р е 9

г < М а дефицит

инжекции

практически не

меняется

и

равен:

 

 

 

 

 

 

1п

wDnNa

 

O J ( J 6 O

 

« Р к . д . э ¥ к . э . э

 

(5-53)

 

 

 

lp

LnDpN„

Lnna(l

 

< р я . д . в < р н . э . в '

 

 

 

 

 

 

 

 

где Обо и оэо — немодулированные

проводимости

базы и

эмиттера

соответственно.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

• 107

Поскольку степень легирования эмиттера обычно примерно на два порядка выше, чем степень легирова­ ния базы, т. е. >Л/д<С!/Уа, то при переходе к высоким уров­ ням инжекции, как видно из (5-52), имеет место увели­ чение дефицита инжекции и, соответственно, снижение коэффициента у. При очень больших значениях тока че­ рез р-я-переход, когда

U~ Т к — q Ш ^ »

отношение 7 „ / / р стремится к значению -туг- [Л. 5-2].

В случае чисто диффузионного движения инжектиро­ ванных неосновных носителей в базе коэффициент пере­ носа в стационарном режиме определяется выражением (5-36). При наличии в базовой области заметного элек­ трического поля инжектированные неосновные носители движутся не только вследствие диффузии, но и в резуль­ тате дрейфа в поле. Такое поле возникает, например, при наличии в базе градиента концентрации примесей. Решение стационарного уравнения непрерывности с уче­ том постоянного электрического поля Е, ускоряющего движение носителей, приводит к следующему выраже­ нию для коэффициента переноса [Л. 5-3]:

Р

 

exp (qEw/2kT)

,

Р —

qELp

 

 

~*

2

k T

ш_

/ fqELpy

~

V(qELp/2kT)*+\

S h L p y

{ 2kT J +

+

(5-54)

w_

f

(qELv\*

+ < * 7p

7 l / f w ) + 1

L

у

[2kT J

Если электрическое поле E равно нулю, то (5-54) переходит в (5-37). Если электрическое поле отлично от нуля, но мало, так что ELp<^kTjq и w>Lv, то из (5-54) следует:

PH2(l4#)exp(-i+#). (5-55,

Таким образом, в этом случае имеет место экспонен­ циальный рост р при увеличении напряжения Ew в ба­ зовой области.

108

 

При больших значениях поля характер

зависимости р"

от

Е

изменяется.

Действительно,

при

ELv~>kTlq

из

(5-54)

получим:

 

*_

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

р=<<? \

 

 

(5-56)

где

•& = w/\ipE — время

дрейфового

пролета дырок

через

базу;

ц р — подвижность

дырок.

 

 

асим­

 

Следовательно,

при

стремящемся к нулю, р1

птотически приближается к единице.

 

 

 

Приведенные выше простые выражения для коэффи­ циента переноса получены при условии постоянства под­ вижности и времени жизни неосновных носителей вдоль базы. Помимо электрического поля, обусловленного гра­ диентом концентрации примесей в базе, может возникать электрическое поле, связанное с различием условий, в которых находятся основные и неосновные неравновес­ ные носители [Л. 5-2]. Действительно, поскольку в базо­ вой области существует градиент концентрации неоснов­

ных носителей

вследствие их ухода

в коллектор, то

в силу условия

квазинейтральности в

ней существует

в каждой точке такой же градиент концентрации нерав­ новесных основных носителей. Однако в то время как неосновные носители движутся через базу соответствен­ но этому градиенту, поток основных носителей от эмит­

тера

к коллектору

отсутствует,

поскольку

последний

представляет

для

них

значительный

потенциальный

барьер. В результате этого

и возникает

электрическое

поле,

ускоряющее движение

инжектированных

неоснов­

ных

носителей. Величина его, очевидно, может быть

определена из

условия

 

 

 

 

 

 

 

 

/ . я =

ЯЪ,яЯ +

? Я » з £ =

0,

 

(5-57)

откуда

 

1

 

 

 

1

 

(5 58^

 

£

kT

dn

kT

 

dp

 

 

q

it

dx

q

Na

+ p

dx'

'

где n=iNR+p' — концентрация электронов в базовой об­ ласти; р''— концентрация неравновесных дырок; р — кон­ центрация дырок (равновесных и неравновесных).

С учетом (5-58) дырочный ток в базовой области можно записать следующим образом:

109

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ