Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Челноков В.Е. Физические основы работы силовых полупроводниковых приборов

.pdf
Скачиваний:
34
Добавлен:
24.10.2023
Размер:
9.71 Mб
Скачать

Из (4-38) — (4-40)

получаем формулу,

описыва­

ющую изменение обратного тока во времени:

 

I o 6 p =

(Axp

+ m)fe~"BTpIm.

(4-41)

Используя полученное

нами выражение (4-26), легко

объяснить линейную зависимость (4-38). Действительно,

если обратный ток во время фазы сохранения

изменяет­

ся по

закону

/ о б Р ( 0

— Im sin Ы,

 

 

 

(4-42)

 

 

 

 

 

 

то, используя

(4-27)

для

малых

значений

величины

jtftp, так

что f r p < ; 0 , l ,

получаем:

 

 

 

 

 

 

 

/ о б р . макс=

n f t p /m,

 

 

 

(4-43)

что согласуется

с (4-38).

 

 

 

 

 

 

Значения fK p, определенные

из

условия

/кр^ОЛт/р"1 ,

хорошо

согласуются с

экспериментальными

результата­

ми, приведенными на

рис. 4-5. Например,

для

образца

с т р = 1 6

мксек

/К р = 7

кгц,

а для образца с

т р = 2

шеек

f кр = 5 0

кгц.

 

 

 

 

 

 

 

 

Аналогичные .результаты получаются при использо­

вании

метода

заряда. Если

подставить Т\. из

(4-35)

в (4-42) и провести необходимые преобразования, получим:

/обр.мако=1,42л /Тр. (4-44)

Соотношение (4-35) достаточно хорошо согласуется с (4-26), а (4-44) с (4-43). Несколько завышенные зна­ чения 7 i и / 0 б р , рассчитанные по методу заряда, объясня­ ются принятым предположением, что весь накопленный заряд исчезает на фазе спада.

4-2. ПЕРЕХОДНЫЙ ПРОЦЕСС ВКЛЮЧЕНИЯ р-п-СТРУКТУРЫ

В ПРОВОДЯЩЕЕ СОСТОЯНИЕ

Выше мы указывали, что после приложения к р-п- структуре прямого напряжения стационарное распреде­ ление носителей тока в базовой области устанавливается в течение определенного времени. Наличие этого процес­ са приводит к тому, что напряжение или ток на внешних электродах обнаруживают временную зависимость. Поскольку для малого прямого сопротивления />я-струх-

90

туры удобнее реализовывать режим генератора тока, будем рассматривать реакцию напряжения на прямо­ угольный импульс тока.

До сих пор, рассматривая переходные процессы, мы, как правило, пренебрегали падением напряжения на со­ противлении базы, так как для обратного смещения па­ дение напряжения на базовой области по сравнению, с напряжением на р-я-переходе мало. При протекании прямого тока, особенно большой величины, падение на­ пряжения на базе может быть соизмеримо с падением напряжения на р-я-переходе или даже значительно пре­ восходит его. Поэтому анализ переходного процесса включения будем вести с учетом явлений, проходящих в базовой области. Итак, падение напряжения на струк­ туре при подаче прямоугольного импульса тока будет складываться из напряжения на р-я-переходе и падения напряжения на базе:

Ujjp=Upn-j-U.T-{-'Ux,

где UR — э. д. с. Дембера.

Напряжение на переходе будет изменяться от нуля до некоторого максимального значения, соответствующе­

го протеканию

стационарного прямого

тока,

по

закону

 

« ~ w = T t o

[•*&>•]•

 

 

и - « >

Функцию p i (0, /) можно

определить

для

низкого и

очень высокого

уровня, решив уравнение

вида

(4-1).

В конечном виде получим [Л. 4-1]:

 

 

 

M p n ( i ) = £ / p n ( o o ) - ^ l l n [ e r f ^ -~\ ' при t=£Q,

(4-46)

где ирп{°°) —установившееся напряжение на р-я-пе- реходе.

Типичная кривая установления напряжения на р-я- переходе для хР = 7 мксек изображена на рис. 4-10. Как видно, при включении в прямом направлении р-я-переход ведет себя аналогично конденсатору. Емкостная реакция р-я-перехода на внешний сигнал сохраняется и в случае приложеия к нему импульса прямого напряжения.

Падение напряжения на базе складывается из двух составляющих: омического падения напряжения на со-

91

Mg

 

 

iu

 

/

 

противлении толщи базы, связан-

s o

\

 

 

 

 

 

ного с прохождением

прямого то­

 

 

 

 

 

 

 

ка и э. д. с. Дембера.

Поскольку

580

 

 

 

 

.для

 

рассматриваемых

 

нами

 

 

 

 

структур типичны значения £ / П р ^

 

 

 

 

 

 

 

560

 

 

 

 

^0,5-н1

в,

отношения

w/Lp не

 

 

 

 

превышают

3—5

и

величина

 

 

 

 

 

 

 

5W

 

 

2

 

э. д. с. Дембера, полученная

для

 

 

 

 

этих

параметров

из

выражения

 

 

 

 

 

 

 

520

 

 

 

(2-89),

не превышает

нескольких

 

 

f

сотых вольта, ею во всех после-

 

 

 

 

 

 

 

 

0 2 4 6 8 Юмхсен

дующих расчетах можно прене-

Рис.

4-10. Установле-

бречь. Величина омического па-

ние

прямого

напряже-

дения

напряжения на базе

после

ния

на

p-n-переходе

подачи на р-я-структуру

прямого

и

? 0

,

5Та/с1*

/2°)

й^СМ2

^

тока уменьшается

вследствие Mo­

id

 

a/см

) .

 

дуляции.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Используя выражение (2-53) для распределения ды­

рок

в базе

' после

подачи

 

импульса

прямого

тока,

получаем:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

и6 (0 =

U6

(0) [ 1 - Ь- erf У-L

In (1 + х erf

/

±

)

 

 

 

 

 

 

 

4 ДР р Л

 

 

 

 

 

 

(4-47)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

х = {1+Ь)

*\

;

U6{0)

=

InpPnw.

 

 

 

 

 

Из этой формулы

видно, что величина

Ue(t)

монотон­

но уменьшается от значения 0(О) до некоторого уста­

новившегося

значения

Ue(oo).

На рис. 4-10—4-12 пред­

ставлены результаты

расчетов

переходного

процесса

включения для кремниевого диода с резким

несиммет­

ричным р-я-переходом

с базой

я-типа, р-п = 20

ом-см и

т Р = 7 мксек

[Л. 4-7].

Как видно

из рис. 4-11,

базовая

область в противоположность р-я-переходу имеет индук­

тивную реакцию

на воздействие внешнего электрическо­

го сигнала. Разница между величинами £/б(0) и

^б(со)

тем больше, чем

выше

плотность

прямого

тока

через

р-я-переход.

 

 

 

 

 

Из вышеизложенного ясно, что реакция р-я-структуры

(представляющей

собой

последовательное

соединение

р-я-перехода и сопротивления базы)

на импульс прямого

тока через него зависит от амплитуды тока. При малых токах, когда падение напряжения на базе пренебрежимо мало по сравнению с падением-на р-я-переходе, диод

92

ведет себя как емкость: напряжение на нем й течение переходного процесса постепенно, нарастает от некото­ рого начального до установившегося (как изображено на рис. 4-12, кривая 3). При больших плотностях прямо­ го тока, когда определяющими становятся процессы

в базе, диод ведет себя по­

 

добно

индуктивности: после

#8

too1

0

ПООЛ

Рис. 4-11. Установле­

Рис. 4-12. Процесс уста­

ние

прямого

напряже­

новления

прямого

напря­

ния

на

базовой

обла­

жения

на

р-л-структуре

сти

при

токе

в

импуль­

при

токах

10

а/см2 (1);

се

10

а/смг

 

(2)

и

0,5

а/см2

(2)

и

0,05

а/см2

0,5

а/сж2

(/).

 

 

 

(3).

 

 

 

 

 

броска напряжения наблюдается его спад, как показано на кривой / (рис. 4-12). В промежуточных случаях воз­ можно появление осцилляции — кривая 2 (рис. 4-12). В заключение отметим, что эксперименты, проведенные на диодных структурах, подтверждают правильность тео­ ретического расчета.

Г л а в а п я т а я

НЕКОТОРЫЕ СВЕДЕНИЯ ИЗ ТЕОРИИ ПЛОСКОСТНЫХ ТРИОДОВ

5-1. ПРИНЦИП ДЕЙСТВИЯ /?-я-р-СТРУКТУРЫ п л о с к о с т н о г о ТРИОДА

В предыдущих' главах мы рассмотрели прохождение тока через однородный полупроводник, образование электронно-дырочного перехода, его вольт-амперную ха­ рактеристику. Структуры с электронно-дырочными пере-

93

ходами являются основой большинства полупроводнико­ вых приборов: диодов, транзисторов, тиристоров и т. д.

Рассмотрим принцип действия р-я-р-структуры, явля­ ющейся основой такого широко распространенного в настоящее время прибора, как плоскостной триод или транзистор.

Выше мы видели, что при прохождении тока через p-n-переход, включенный в прямом направлении, концен-

w

1 '

lPS2

r>S2

' . П

£

+.1 -

Рис. 5-1. Включение p-n-p-структуры по схеме с общей базой.

трация неосновных носителей вблизи перехода сущест­ венно повышается. Избыточные носители, например дырки, инжектированные в электронную базовую область, диффундируют в глубь этой области. Если в базовой области рядом с первым имеется еще один р-я-переход, включенный в обратном направлении (рис. 5-1), то дыр­ ки, достигшие границы слоя объемного заряда второго перехода, перебрасываются его электрическим полем во вторую область с дырочным типом проводимости и в результате ток через второй переход резко возрастает. Изменяя напряжение на р-я-переходе, включенном в пря­ мом направлении, можно изменять количество инжекти­ рованных дырок в я-области и в конечном итоге Vox через второй р-я-переход. При включении в цепь второго перехода сопротивления нагрузки Яя появляется возмож­ ность управления мощностью, выделяемой на этом со­ противлении, с помощью изменения напряжения на первом р-я-переходе.

Эти свойства р-я-р-структуры были использованы при создании полупроводникового усилителя — плоскостного триода, который изготавливается таким образом, что

94

р-я-переход, к которому прикладывается прямое напряже­ ние, обладает высоким коэффициентом инжекции дырок. Это достигается за счет того, что проводимость р-области, откуда дырки вводятся в я-область, существенно выше •проводимости последней. Дырочная область смещенного в прямом направлении p-n-перехода называется эмитте­ ром, а электронная (средняя область р-я-р-структуры)— базой триода. Вторая область дырочного типа, кудэ дырки собираются из базы, называется коллектором. Базовая область плоскостного триода выполняется до­ статочно тонкой: меньше диффузионной длины дырок, так как в противном случае большинство инжектирован­ ных носителей не достигнет коллектора, а рекомбинирует в базе. Коллекторный переход, как правило, обладает хорошими запирающими свойствами, что позволяет прикладывать к нему высокие напряжения и управлять большими мощностями в цепи нагрузки.

Определим соотношения, связывающие токи р-п-р- структуры при ее нормальном включении, когда эмиттер-

ный переход инжектирует, а коллекторный

экстрагирует

неосновные носители

тока. Обозначим h — ток эмиттера,

/ к — ток коллектора

и /б — ток

базы.

к току эмит­

Отношение дырочного тока

коллектора

тера, характеризующее эффективность триода, называ­ ется коэффициентом передачи эмиттерного тока и обычно обозначается буквой а:

Как следует из определения, а всегда меньше едини­ цы, но, что необходимо отметить, разница между этимч значениями у современных триодов составляет величину порядка нескольких сотых или тысячных.

Помимо дырочной составляющей эмиттерного тока через коллекторный переход протекает электронная Insi и дырочная /pS 2 составляющие обратного тока собственно коллекторного перехода. Здесь и в дальнейшем, где спе­ циально не оговорено, для упрощения выкладок рассмат­ риваются только электронная и дырочная составляющие тока насыщения обратно включенного р-я-перехода.

Существует несколько возможных включений р-п-р- структуры, однако наибольшее распространение получи­ ли два из них: включение по схеме с общей или зазем­ ленной базой и включение по схеме с общим или зазем-

95

ленным эмиттером. На рис. 5-1 представлено включение р-п-р-етруктуры по схеме с общей базой. В этом случае входным или управляющим током является ток эмитте­ ра, а выходным или нагрузочным — ток коллектора. Соотношение между эмиттерным и коллекторным током

получим из

условия

электронейтральности

базовой

области

 

 

 

 

/э —/э а—/ps 2 /ns2—/б = 0.

(5-2)

Учитывая,

что

 

 

 

/ э = / к + /б,

(5-3)

выражение для тока

коллектора можно представить

в виде суммы двух составляющих, одна из которых за­

висит, а другая не зависит от тока

эмиттера:

/к ==/э гх + /коб.

(5-4)

Независимая составляющая, представляющая собой ток. через нагрузочное сопротивление при отсутствии входного сигнала (/а =0), называется нулевым коллек­ торным током триода в схеме с общей базой и является не чем иным, как обратным током собственно коллектор­ ного перехода /K o6==/s2=/pS 2+/«s2.

Коэффициент передачи эмиттерного тока, хотя он и меньше единицы, часто называют коэффициентом усиле­ ния по току плоскостного триода, включенного по схеме

собщей базой.

Вслучае включения р-я-р-структуры по схеме с об­ щим эмиттером (рис. 5-2) током управления и нагрузоч­ ным током являются соответственно токи базы и кол­

лектора. Подставляя

значение / э

из

(5-3) в

(5-2)

полу­

чаем аналогично (5-4):

 

 

 

 

 

 

/к =

/б5 + /коя,

 

 

 

 

(5-5)

где

 

 

 

 

 

 

 

В =

а/(1—а)

 

 

 

 

(5-6)

представляет собой

 

коэффициент

усиления

по

току

в схеме с общим эмиттером, а

 

 

 

 

 

/коэ =

/коб/(1—а)

 

 

 

(5-7)

является нулевым

коллекторным

током

плоскостного

триода в схеме с общим эмиттером. Поскольку

а по ве­

личине близок к единице, 5^>1,

а /коэ^^коб-

 

 

 

96

* nw

P

 

1К 2*

1

1

 

5

C H — 1

Рис. 5-2. Включение р-л-р-структуры по схеме с общим эмиттером.

ШN

а

W 0

Рис. 5-3. Выходные

(коллекторные) характеристики р-п-р-структу-

ры в схеме с общей

базой.

Ш/

>is>o

Рис. 5-4. Выходные (коллекторные) характери­ стики р-и-р-структуры в схеме с общим эмит­ тером.

1-Ц

91

Выходные (коллекторные) характеристики плоскост­ ного триода в схемах с общей базой и общим эмиттером представлены соответственно на рис. 5-3 и 5-4. Посколь­ ку наблюдается примерно одинаковый сдвиг коллектор­ ных кривых при одинаковых приращениях тока управле­ ния, можно сделать вывод о том, что коэффициенты уси­ ления в схеме с общей базой и общим эмиттером незначительно зависят от режима работы триода.

5-2 ВЫРАЖЕНИЯ ДЛЯ ТОКОВ, ПРОТЕКАЮЩИХ В p-n-p-СТРУКТУРЕ ПЛОСКОСТНОГО ТРИОДА

Для того чтобы установить связь между электриче­ скими характеристиками и физическими параметрами структуры плоскостного триода,, определим дырочные и электронные составляющие токов, протекающих в р-п-р-

Рис. 5-5. Распределение плотностей постоянных токов в р-л-р-структуре.

структуре. Прежде всего будем считать, что примесь в каждой области р-п-/?-структуры распределена равно­ мерно. Рассматриваем случай, когда на прибор подаются только постоянные напряжения. Структура включена по схеме с общей базой, как показано на рис. 5-5.

Здесь, как и в предыдущих главах, рассматривается одномерное приближение, когда концентрация носителей тока изменяется только в направлении, перпендикуляр­ ном к плоскости р-п-перехода,

98

Кроме того, p-rt-переходы

 

считаются

тонкими, т. 6.

процессами,

протекающими

в

слое

 

объемного

заряда,

пренебрегаем.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Рассматриваем малые уровни инжекции, когда кон­

центрация

неосновных

носителей

в

областях

структуры

не

превышает

равновес­

 

 

р

 

 

п

 

Р

ную концентрацию

основ­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

•к w

*

 

ных

носителей

электро­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

нов пп

и напряжения

Ud

 

 

 

 

 

 

 

 

 

и падают

на эмиттер-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ном

и

коллекторном

пе-

и с

 

 

Распределение

 

концен-

реходах.

 

 

 

 

 

 

р

5.5

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ч

 

Вначале

рассмотрим

 

трации

 

неосновных

 

носителей

токи,

протекающие

через

в

р-я-р-структуре.

 

 

 

дырочную

область

эмит­

 

 

 

 

 

электронов

можно

тера. В этом

случае

концентрацию

 

описать для х^О

выражением

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

пъ

(х) — /?р э

=

Э о

- л р э ) е*'Ч

 

 

(5-8)

где прэ

 

— равновесная

концентрация

электронов

в обла­

сти

эмиттера;

пэ0

— граничная

величина

концентрации

инжектированных из базы электронов

(рис. 5-6).

Для

принятых

допущений

плотность

эмиттерного

тока,

текущего

из

базы

в

 

эмиттер,

пропорциональна

градиенту концентрации

электронов:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

In(x)

=

qDn^.

 

 

 

 

 

(5-9)

При помощи уравнения (5-8) и (5-9) можно

получить

выражение

для

электронного

тока

в любом

сечении

эмиттера:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/пэ

( J

C ) =

Шщ^п^

 

 

т.п

 

 

J о)

 

На

 

границе

перехода

эмиттер — база плотность элек­

тронного

тока определится

из

(5-10)

при

х=0:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/ п з ( 0 ) = ^ » ( я ; ' - " > » ) .

 

 

(5-П)

' Соответственно

для

дырочной

 

области коллектора

(рис.

5-5 и 5-6)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

«к (х)

-

- V =

к о

-

прк)

е iw~x)IL";

 

 

(5-12)

7*

99

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ