Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Носков Д.А. Электронно-ионное оборудование технологического назначения

.pdf
Скачиваний:
5
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
4.65 Mб
Скачать

 

 

 

 

 

 

 

• Т О

 

 

 

 

 

I

=

 

 

 

 

( З - З - П

 

где

8

• г

 

ц

-

длина

электродов

и расстояние от электро­

да

до

оси

 

U.

*

KB

-

потенциал

на электроде и на

оси.

Для

магнитных

квадрупольных ЛРНЗ

 

 

 

 

 

 

.

/ = л ! Х Е _ ш

сз - з - 4)

 

 

 

 

 

J

 

 

P.J.W

 

 

где

R

-

радиус

поверхности, на

которой юасполокены

сед-

лообраанье

катушгш,содержа ,ие w

витков.

 

 

Конструкции квадрупольных линз зависят от ст руктурч

элгктронно-огт/'ческой системы, от энеогии частиц и от

 

диаметра

подлежащего фокусировке пучга.

 

 

ллектрость.гические

квадиупольн-'е линзы обычно изготав­

ливают в ви^е стержнеГ, закреплениях ьа изоляторах непос­

редственно " вакуумном патрубке. Профиль

сучения стержней

согласно теории до^'Чв быть гиперболличе

кич. Одпко

при

^ост1.точни боои-шях ао сравнению о дьаметроы п у ч ы р а

с с т о я ­

ниях между стержня*!! модно использовать более проотые в из ­ готовлении цили"драческие,сте1тли. В некоторых случаях вмес­ то гтрржцей )iotuo использовать поовгдлиие полоски, занесен­ ные на стенки диэлектрического цилиндра.

Мсгнитньв квадрувольные линзы выполняют об ~чпо в виде двух рпевтромагнитных блоков, располаггтмы;-. онаружи вакуум­ ного кангпа, в котором движутся фокусируемые частицы.

В некоторых конструкциях ЕЛНЗ с целью уменьшения энер­ гоемкости полюсные наконечники вводят внутрь вакуумного ка-

HC 18 .

3-4. Отклоняющие системы ялектр"нно--ионных установок.

К отклонению жучков в установках технологического наз­ начения прибегают в нескольких случаях: для перемещения пучка по обрабатываемой детали, для юстировки пучка и цент-

К а т у ш е в

рирования его относительно оптической оси системы, для создания импульсного режима обработки при питании перемен­

ным ил" лоотиянным напряхением. В соответствии с этими

назначениями разработ ни oneiy "злкзированвые системы

откло­

нения, полнившие соотлетс .вующие названия. Отклоняющими

системами принято называтт системы, предназначенные

для

развертывания луча по растру или перемещения его по обра­

батываемому

контуру H I поверхности детали. Юстирующие

сис-

те

ы

полн

стью соответствуют своему назначению,

а

систе­

мы,

предназначенные для

сов^ания импульсного резина

путеи

пропускания

сканирующег

с веданной частотой луча черва ще­

левую диафрагму, называют

блаакирующими или иногда

отклоняю­

щими

системами.

 

 

 

 

 

Для оишонения пучка используются электрические и маг­

нитные п-ля, создаваемые с помощью электростатических,

 

электромагнитных систем

и комбинированные отклоняющие,

юс­

т и р у ю щ ие и бланкирующие

системы. Расчет этих систем

в

о б ­

шей случае заключаете в определении геометрических разме­

ров

параметров полей

(электрических или

нагнисных)

по из ­

данному углу отклонения о достаточной для практика

точно­

стью, Угол ыоьет быть

определен по Р э в е з т Е ы м В электронной

оптике

соотношениям:

 

 

 

 

 

у =

: V - пт I-W't

(3-4-1)

где

д

- длина пластин и отклоняющих

катучек;

 

£- расстояние ыевду пластинами}

Un и LW - потенциал плаотин и анпервптки отклонения;

1/уск - ускоряющее Напряжение.

Конструкция систем определяется в обпм случае их назначе­ нием и конструкцией электронно-оптической системы, в состав

которой

они входят.

 

 

Как

отклоняющие, так

и юстирующие системы в бол^иннотве

случаов

устанавливаются

непосредственна л вакууме, и

только

в некоторых устьновках магнитные оистемы располагают

с н а р у ­

жи корпуса электронно-оптической системы. Отклоняющие

с и о -

 

- '<г -

 

 

 

 

 

 

 

 

тем* сварочных установок и установок для гчзморной

обработ­

ка конструктивно выполняются

как продолжение S0C и

крепятся

к проекционной линаг. Электростатические

систеиы маготавли-

 

 

ваюгэя в виде d пат плас­

 

 

тин и закрепляются в изо­

 

 

лирующей

 

цилиндре,

который

 

 

сочл-няетоя с деталями лшн

 

 

зы (см.рио.3-4-1),

При кон­

 

 

струировании такой

системы

 

 

необходимо учитывать вели-1

 

 

чину ускоряющего налряде- ( .:

 

 

ния

и величину

потенциала,|

 

 

прикидываемого к

пласти­

 

 

нам. Для работы на

 

высо­

 

 

ких

напряжениях на

краях

 

 

гпастин

долины

быть

 

га -

Рис.3-4-1.Ц^инцип устрой­

кругления для уменьшения

ства электростатической

напряженности

электричес-

отклоняющей

системы

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ны быть

тщательно

отполи­

 

 

рована

В тех

случаях,ког­

 

 

да расстояние м зду обра­

 

 

батываемой деталью и шн-

 

 

8 0 й

не позволяет устано­

 

 

вить

электростатическую

 

 

с"стену,

 

применяют

элект­

 

 

ромагнитные системы,изго­

 

 

товленные

в виде кольцево­

 

 

го магнитопровода,

на

ко­

 

 

тором размещены две пары

 

 

катушек. Схематично

прин­

 

 

цип устройства

электро­

 

 

магнитной

системы

показан

 

 

на рис.3-4-2. В данной

кон­

Р а с 5-4-2.

Принцип уст­

струкции

 

магнитные

ппля,от­

клоняющее

луч в двух

 

пер­

ройства эдектронагнитноГ.

 

стлвонявр.лй

снате>'ч.

пендикулярных

направлениях,

 

 

создаются

с пмощью

двух

пар соиоток возбуждения,

- 73 -

расположенных в ^дной плоскости на одном магннтопроводе, а не разнесет, в пространстве, как ато имеет место в электростатических отклоняющих оистемах. Благодаря этому значительно уменыяактея габе^иты системы* Такая системе

'та.;ае укрепляется на проекционной лигзе и юстируется отно­ сительно оптической оси оиотемы. В установках большой мощ­ ности предусматривают охлаждение оистемы проточной водой, предотвращающее чрев, эрный нагрев магнитопровода рассеян­ ными электронами.

Юстирующие сиотемн пр"Яципиально могут выполняться так же, как отклоняющ;:з,но к ним предъявляются более высо-

'кие требования^ точки зрения искажений и изменения

рас ­

пределения плотности электронов в сечении луча. Эти

систе­

мы устанавливаются между пушной и линзами и предназначены для вытздення пучка на ось системы. Поэтому при конструягровании системы стремятся получить более однородные поля.

Хорслий

эффект дает

применение

комбинированных

о т к л о н я в ^

систем,

в которых ^т.лонение

в

одной плоскости

производят­

ся мвгнитньй полем6

в другок

 

электрически.

Принцип vos-

ройогг -. отклоняющей комбинированной системы показав на

рис . 3 - ^ - 3 . Отклоняющие пластин" с

змещени непосредственно

 

на

полюсных

наконечниках

 

 

аагкязной

отклонявши

 

 

аиотемы.

2

такой системе

 

 

удается

на

сравнительно

 

 

небольше)

по длине

 

 

;отрезке разместить

уст­

 

 

ройства,

отклоняющие пу­

 

 

чок в двух плоскостях и

 

 

имеющие

однородные

поля.

Рис . 3 - 4 - 3 . Комбинированная

 

Юстирующие

уистемы,

а в

 

НЕ :оторых случаях и от­

отклоняющая системе:

 

 

клоняющие, изготавливают

1- отклоняющие пластины;

 

 

в виде двухярусных

сис­

2- 1.олюса маг итной откло- •

 

 

тем. С помощью двухярус-

няющей системы

 

 

ВЫУ

"йстем

осуществляет­

 

 

 

 

ся

параллельный перенос

 

 

луча без

изменения

его'

- 74 -

ааре#деаьвоотв относительно рож сиотемц. В первом ярусе луч отклоняется на веданный угод, а во втором - откловя ется не атс* хе угид в другую сторону. При ровзых резне-^ pax снохеы ярусов такое охкдоиенае вызываехоя одинаковый1

электростатической снстемы, ядш одинаковыми амперввтsavi магнитной системы. Двухяруоные системы изготавливают

главным образом как адактгомагчитные о рав«* мощением обмоток воз­

и- буждения на одном маг-

нихоьеоводе, Испольауют-j ся также и комбинировав-' ные системы. Двухярусные онотемы применяются так­

 

+

же для отклонения луче о

 

изменением угла

наклона.

 

 

 

 

При этом в первом ярусе

 

 

луч отклоняется

па мень­

 

 

ший угол, чем во

втором.

Рве.3-4-4.

Принцип парал­

Принцип изменения угла

лельного смещения дуче '

наклона

показан

", на .

двухярусной

отклоняющей

рис, 3-4-5 .Геометрические"

езстемой

 

раамеры

систем и парамет­

 

 

ры схем

ш.^ания

под^ира-

+

 

ютоя так, чтобы

обеспе­

 

чить необходимый

угод

 

 

 

наклона.

Причем,если

 

 

 

оиотемо

располагается

 

 

 

Перед линзой, то

углы

на­

 

 

клона выбираются

так,

 

 

 

чтобы луч пересекался

с

 

 

осью систе>'ч в центре

 

 

 

линзы. При разработке

 

 

 

специализированных уста­

 

 

новок, в которых ДдЛ сме­

? . ! о . З - 4 - 5 .

Принцип взмане-

щения луча и для

измене­

ния у-ла

наклона исполь­

аая угла наклона в двух­

зуется одна двухярусная

ярусной отклоняющей системе.

- 75 -

система, для возбуждения магнитного поля сиотен предусмат­ ривают автоном: ые обмотки. Одна группа обмоток обеспечивает поля, необходимые для смещонвя луча.а друг8я-испольаувтся длг изменения наклонг. Таков усложнение конструкции обуо-

лов1ено требованиями к ст бильности ггчов

при смешеяив

ду~

йа. В сл-чае одинакового ^иола витков й геоыетрвчоских

раз ­

меров системы отклонения в обоих ярусах питание обмоток

можно производить от одного источника, что

значительно

 

у-рощвет с: эму питания.

 

 

При необходимости отклонения луче ив аалые расстояния можно использовать свойство электромагнитных линз отклонять несоосяме пучка. Принцип отклонения несоосного пучка в про­

цессе фокусйроькь

показан на рис . 4 - 4 - 3 . Прз и^изневин

энер-

 

 

ГЙИ электронов в иечз-

 

 

ыеь^ой

оптической

 

S E •

 

 

ле линзы ПОЛОЕСЯЙФ ча~

 

 

вяышаего

сеченка

 

пугк

 

 

обещается

не

tonhso

ъ

 

 

оссвоя

направлении. &Q

 

 

г в

радвсглвои*

 

dpfl

 

 

эгсв точке всареча лу­

 

 

ча с

поверхностью

 

на­

 

 

ивна

перемещается-

в

 

 

рздеагьнсз* направлений,.

 

 

Авалогкчнэз-

радиальное

 

 

веремг-пеяве луча проис­

 

 

ходит

Й при

взмоненва

 

 

оптической

силы линзы

 

 

и неизаен!-' и ускоряю­

Рис.4-4-3. Принцип отклонения

щем напряжении.

Этот

принцип

ШПОЛЬЗОБЗВ

для

несоосного пучка

электромаг­

формирования

канала

пря

нитной линзой

 

изготовлении

алмазных

 

 

волок

злектройяо-лучевыь

 

 

методом,

(тогда

вход-

нзя распушка, выевшая большой диаметр на поверхности, изготавливается во вращаю­ щейся заготовке отклоненные он оси вращения лучом» а рабо-

- 76 -

чий кшцл малого диаметра изготавливается лучом, пряхи сов-

вадапцмм с осьо вращении, причем место иа.именьвего сеченая луча смещено внутрь вагпховкв,

3-5» Маосфидыры ионных установок

Для лвгмровг'ва полупроводников методом ионной вмдланхацвв в долученвя сверхчист'лс пленок методом ионного осаж­ дения требуется пучок яояов определенного массового соста­ ва, в которых практически отсутствуют ионы каких-либо при­ месей. Для фильтрация нинов иоподьауют нескхлько методов, среди которых наиболее известным" является магнитный сепа­ ратор, динамический -вадл упольный массфилыр я дннаынчеокяй электромагнитный высокочастотный массфилыр.

3-5-1. Магнитные маеоф!.льтры

Принцип разделения движущихся в магнитном поле иовов по

.массам ооноваи на то»ь что имеющие одинаковую скорость ~оаы

заворачиваются магнитным поде: по радиусу, величина которо­ го пропорциональна корню квадратному иа отноиення массы вова его заряду, согласно язвеотрому выражению:

 

г v ¥

• #

,

 

 

где Ц

- ускоряющее

напряжение;

8

- напряженность

магнитного

поля;

^

- отношение

маооы вова к его заря­

ду.

 

 

 

 

 

 

Принцип работы сепаратора показав на рио.3-5-1. В пучке со­ держатся три компоненты яонов. При прохождения секторного

магнитного поля ионы разделяются по массам я поступают на мнвень в точка В , в, в В2 . Магнитные массфильтры уопеово применяются в ионно-дучевых установках для легирова­ ния. Такие массфильтры наготавливают, как правило, с электро­ магнитом, вес и габариты которого определяютоя энергией се­

парируемых ионов. К недостаткам магнитных ыассфнлыров

от­

носятся кроме больиог1 веса а габаритов критичность в

раз­

бросу ИОНОВ со эвергиям, высокие требования к стерильности

Р и с . 3 - 5 - 1 . Магнитный

масс-аналиэатор!

 

Jt-ионный источник; 2-вагнитное

поле$

 

 

3-иишень

 

 

 

 

 

 

тока воабукденся

электромагнита й вво^явя энерго*-'8*©»»»

Б увхаиовке дья каготовд-'?вая интегральных исвь

у г - ' -

яовлен импульсный

массфильтр^ямеЮнЩЁ сравнительно

маяае

габариты. Припщ.п

устройства ыассфизырп

показав

.

 

 

 

рас. 3-^-2 .Массфйлыр

 

 

 

предетввляег

коль­

 

 

 

цевой

магнит,внут­

 

 

 

рь которого распо-

 

 

 

лояенн

пластины,

 

 

 

с помощью которых

 

 

 

соэдде^оя

вращаю-

 

 

 

щее„й

электрическое

 

 

 

поле, и два диско­

 

 

 

вых электрода

с

 

 

 

осевыми

отверстия-

Рис.3-5-2. Импульсный массфйлыр}

 

м и " И о

н ы

поотупввт

1,2-ускоряющие электроды?

 

* сепара-.ор через

3-электроды для создании вращающегося

отверстие

перпенди-

электрического

поля

 

кулярно

к

оси

а з а ­

 

 

 

ворачиваются

магнит­

 

 

 

ным полем. Под дей­

 

 

 

ствием

вращающегося

от - «(* -

иода коны тормозятся и„двигаясь го спирали,приближаются к осн. Ускоряющим полей дисковых электродов ноны выводятся на ось и направляются на. мишень. Частота вращающегося поля, длительность импульса и другие параметры подбираются так, ;

чтобы зоны нужной ыасиы успели сгруппироваться на оси,а ионы других масс разбрасывались на стенки кошеры.

3-5-2. Динамический квадрупольныв Массфильтр

Динамический ввадруиольный массфильтр состоит из четы­ рех стержней, на которые пода.тоя постоянное и перевенное ввоокочаототное напряжение, создающие гиперболические поля. Устройство аасофмльтра схематические покаэьзо на рас . 3 - 5 - 3 .

4f

Н тмнной системе

Рис . 3 - 5 - 3 . Квадрупольный маосанализатор ( ф в д ы р ) :

1-ионный источник; 2-входная диафрагма; З-стеранй}

4- выходвая лвг'-рвгма;

5- келлег*ор

 

 

 

 

 

-

75

-

 

 

 

 

 

 

Ионный пучок, покупающий

в

квадруполь, подвергается

воз -

|

действию электрического поля. Зовы начинают двигаться

по

I

сдок^ыи траектория!^

оовершая колебания в

гиперболлическои

J nuie. Параметры

квадруполя,

частоту и амплитуду пзреыенпо-

J го

напряжения

ыошю

подоирать

так, ч ю

ноны

определенной

I массы

б„дут двигаться

вблизи

оси

квадруполя н

пройдут

На

 

коллектор, а ионы других масс, совершая колебания с увели­

чивающейся

амплитуде^будут

ооакдаться на

стенках

экрана п

 

па стерюшх.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

I

Такой

ыассфйлыр

отличается

просго^эй

ковструкцвв^иа-

i лым весом

и габаритами, большим

токопрохоздепиеы,

целой

'анэргоемкостью, Некритичность аассфильтра к равбросу ионов пучке по энергиям позволяет аксплуатировр'ь его с наиболее простнчй источнпквки ионов, что эначитечййо облегчав? усло­ вия эксплуатации яовпо-лучевых установок»

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ