книги из ГПНТБ / Носков Д.А. Электронно-ионное оборудование технологического назначения

- н о

циалом

и напиты­

ваются

через

разделительные

трансфорлгторы

-у

А

Бо втором -

под

гусоким

потенциа­

"J НГИ

лом нгходится

илько

источник

запирающего

на­

пряжения и в . о -

рлчная

обмотка

а.

импульсного

тран-

сформатэоа

(см.

Рис.6-3-1

Способы

подачи от"и-

оис 6-3-1).

В

первом

случае за ­

рающзго импульса "а

упрсзляющий

труднено jnpai ie-

электрод

пушки

заряженных частиц пульсирующего напряжения, яапрк

iep

ьа -

пряжения, n o j . y 4 a e « o r o н в выходе простейшей схемы

удвоения.

Принцип получения импульсного режима показан

на

рис. 6-3-2,

Достоинством данной схемы являемся то,

что

вторичная

ленной

ч а с о т ы , не при 1е гая к CKJKHHH электронным схеиаь.Од-

H-IKO

днаф^г.иа, как ». ппи постояыок ускоряющем напряжетии,

несет бояъиую таловую нагрузку. Необходимость охлаждения

диафрагмы в ни .кий н^эффщиен™ токопрохогдения являются при­

рядом емкости, с разрядом

формирующей лик ш и схемы с

маг­

нитными

ыодулятераыи. На рис.6-3-4 прияедсны [.ринципиадоНые

с*, «ь с

частичным разрядом

емкости г гриппующей линкс X

на

й и п у л ь м П З трансформатор,

со вторичной обмотки которого

им-

-

и з -

пульс высокого

на­

пряжения

подается

на

катод

л ш к и .

Для обеспечения

условий

фокусиров­

ки

пучкв

импульс

ускоряющего

напря­

жения должен

иьеть

прямоугольную

фор­

a

i

му

или

плоскую

вершину. Для

ста ­

Рис.6-3-4. Принципиальные

билизации плоеной

схемы

генерирования импульсов:

части

импульса

при­

а)- о

частичным разрядом

емкости}

меняю!

корректирую­

о б)-с

разрядом

формирующей

линии

щие цепи

и схемы

электронной

стаби­

лизации. В простейшем случае цепь состоит

чз последователь­

но соединенных

ёмкости

и сопротивления,

подключенных

парал­

лельно к первичной обмотке трансформатора.

Стабилизация

плоской части

импульса

использует схемы

с

регулирующей

ЛБМ-

напрятения

с эталонным и усилений сигнала ошибки, в

соот­

ветствии с

которым изменяется сопротивление регулирующей

отклонение

выходного

напряже Нин от воыйнальното.Принцйпиаль-

чая схема

генератора

с цепью коррекции импульса приведена

на рис . 6 - 3 - 5 . В качестве

лаыпы-клточа используется импульс­

ная модуляторная лампа ГМЙ -90. Цепь норревцт состоит

из

емкости и сопротивления^

Вторичная об'-отка импульсного

трансф_рматора намотана

двойным проводом,0 по которому

по­

Стр.

П Р Е Д И С Л О В И Е

3

ГЛАВА I . BJIEKTPOHHO-ИОННЫЕ МЕТОДЫ ОБРАБОТКИ

МАТЕ­

РИАЛОВ И КЛАССИШАЩШ ЭЛЕКТР0НН0-И0ННСГ9

ОБОРУДОВАНИЯ. •.

5

T - I .

Процессы, протекающие в твердом теле

при

электронной

и ионной

бомбардировке

• 5

1-2.

Технологические

операции, выполнкзмые

электпоино-ионяыми методами

7

1- 3.

Классификация электронно-ионного оборудо­

вания

8

•1-4.

Принцип устройства и основнче уэлы элек­

тронно-ионных установок

12.

ГЛАВА П. ИСТОЧНИКИ ЗАРЯЯЁННЫХ ЧАСТИЦ

•

1J ,

2- 1.

Териочагсды

как эмиттеры электронов

в

технологических

установках.

К

2-2.

П;1а?"^н5»и

источники

электронов

..

20

2 - 2 - 1 . Источники HP основе

отбора

электронов

из

пказмы

. ,

21

2-2-2. Электронике

пушки на

основе

высоковольт­

ного разряда в

разреженном

г а з е . . . . . . . . . .

2Э

2-3.

Источники ионов

54

2-3-1. Ионные источник» с поверхностной човиза-

цией паров

, . . .

, .

36

2-3-2- Ш.азыенние

источники

ионов

с использова­

нием испарения

ччстых вещесзв

38

2-3-3. Плазменное

источники

ионов

тугоплавких

элементов с катод.шм распылением рабочего

вещества

42

2-3-ц. Источники ио\.ов

с использованием"процес­

сов диссоциации

химических

соединений

твердых веществ

45

ГЛАВА Ш.ИОННО- И ЭЛЕКТРОННООПТИЧЕСКИЕ СИСТЕМЫ...

48

3-1 .

Структура электронно- и йонно-оптических

сисгем

48

3—1—I. ЭОС для получешя эдектроиных пучков

49

Стр.

3

-1-2.

ЭОС для получения ионных

пучков

57 •

3

-2.

Ионные

и электронные пушки

55

. 3-3.

Электронные

лиьзы

62

3-3-1. Электромагнитные линзы

62

3

-3-2. Электростатические линзы

65

3-3-3. КвмрУ"°льные Л1.нзы

,68

3-4.

Отклоняющие

системы

эдектрон!:э-ионных .

установок

70

3

-5.

Массфильтры

ионных

установок

76

3

-5-1. Мегнитные массфильтры...

76

3

-5-2. Динамический квадрупольный массфильтр.

78

ШВА

1У.

РАБОЧИЕ КАМЕРЫ ЭЛЕКТРОННЫХ И ИОННЫХ

УСТРОЙСТВ

80

4- 1.

Основные типы рабочих камер

81

4-2.

Загрузочные

устройства

84

4-3.

Cue яровые окна

"

87

4 -4.

Системы контроля процессов микрообра-

ботки

90

Г Л Ш

У.

ВАКУУМНЫЕ СИСТЕМЫ ЭДТКТРОННО-ИОННЫХ

УСТАНОВОК

94

5- 1 .

Вакуунгче системы с обводкой откачкой

объемов

95

Вакуумные системы для сверхвысокова-

куумных уст^ ново.

97

э - 3 .

Вакуумны'- системы установок с выводом

пучка

в атмогфчру

100

ГЛАВА У1.

aiFUk

ПИТАНИЯ ЭЛЕКТРОННО-ОПТИЧЕСКИХ

СИСТЕМ

103

6

- 1.

.Бдок~~хеыы

питалия эдектронно-оптичес-

ских

с и л е ы

105

6

-2.

Источники постоянного нап^Яо-ания

106

6

-3.

Схемы

питания импульсных

установок

109

С о д а р к а н и

е

115