Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Рэди, Дж. Действие мощного лазерного излучения

.pdf
Скачиваний:
13
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
40.3 Mб
Скачать

П Р И М Е Н Е Н И Я Л А ЗЕ Р О В

451

Тонкая пленка из сплава марганца с висмутом является магни­ тожестким материалом с большой константой анизотропии. Направ­ ление легкого намагничения обычно перпендикулярно плоскости пленки. Эти пленки обладают, кроме того, сильным магнитоопти­ ческим эффектом. Температура Кюри этого материала равна 360° С. Запись на пленке из сплава марганца с висмутом можно производить, повышая температуру в отдельных точках пленки выше температуры Кюри. После охлаждения материала направ­ ление намагниченности области, подвергшейся нагреванию, опре­ деляется направлением магнитного поля, действовавшего во время охлаждения. Если все вещество, окружающее нагретую точку, намагничено однородно в некотором направлении, то поток от этого окружающего вещества вызовет в точке противоположно направ­ ленную намагниченность. Внешнее поле, наложенное в течение времени охлаждения, можно использовать для того, чтобы скомпен­ сировать действие замыкающего потока и произвести перемагничивание материала в первоначальном направлении. Таким обра­ зом можно записать или стереть точку. Впервые возможность записи на сплаве марганец — висмут при переходе через точку Кюри была продемонстрирована с помощью таких тепловых источников, как паяльник и электронный луч. Использование в качестве источника энергии лазера имеет то преимущество, что позволяет производить запись и считывание одним и тем же источником.

Записанную информацию можно считывать, используя магни­ тооптический эффект Фарадея или магнитооптический эффект Керра. Эффект. Фарадея состоит в том, что плоскость поляризации плоско-поляризованного светового луча при прохояадении его через намагниченный материал поворачивается на величину, зависящую от толщины пленки и свойств материала. Направление вращения изменяется при изменении направления намагничен­ ности. Расположенный за пленкой анализатор ориентируют так, чтобы он не пропускал свет, прошедший через пленку в местах с первоначальным направлением намагниченности. Тогда свет, проходящий через малые области с обратным направлением намагниченности, будет иметь плоскость поляризации, поверну­ тую таким образом, что часть света пройдет через анализатор. Увеличение интенсивности света, прошедшего через данный участок, можно зарегистрировать с помощью подходящего прием­ ника. Аналогичным образом используют и эффект Керра, но не в проходящем, а в отраженном свете. Стирание можно выполнить, включая соответствующим образом ориентированное вспо­ могательное магнитное поле одновременно с лазерным импуль­ сом.

Этот эффект продемонстрирован на опыте, и были сконструиро­ ваны также экспериментальные устройства памяти на МпШ [67,

29*

ГЛАВА S

452

68]. Была показана возможность записи и стирания пятна диамет­ ром в несколько микрон на пленке толщиной 100 А с помощью импульса гелий-неонового лазера мнкросекупдной длительности. Требуемая для этого мощность излучения невелика. Достаточен гелпй-неоновый лазер с мощностью в несколько десятков милли­ ватт. Можно получить плотность записи порядка 107 бит/см2. Каждый участок пленки можно многократно использовать для записи, считывания и стирания.

Для систем памяти с лазерным вводом информации было предло­ жено много других материалов [69], в том числе фотохромные вещества [70], халькогеннды европпя [71—73], гадолиний-же-

лезный гранат

[74,

75], ниобат

лития [76], сегнетоэлектри-

ческие вещества

[77]

и различные

виды ферромагнитных пленок

[73,

78].

 

 

 

Оппсаиные методы дают возможность использовать лазерные эффекты, в частности лазерное нагреванпе в оптических запоми­ нающих устройствах большой емкости. Для практического приме­ нения методику следует значительно усовершенствовать. Заметим, что были предложены также другие системы памяти, основанные на лазерах, например голографическая память или пузырьковая объемная память: эти системы, однако, не связаны непосред­ ственно с темой данной к н и г и ,

§ 7 . ИСТОЧНИКИ ЗАРЯЖЕННЫХ ЧАСТИЦ

Источникп частиц с большой плотностью тока жела­ тельны для многих приложений, особенно если частицы генери­ руются в теченпе очень короткого промежутка времени. Примером одного из такпх приложений мог бы служить источник для полу­

чения

электронного

пучка. Импульсные

источники электронов

п понов дают лишь

ограниченное число

заряженных

частиц.

Для

таких приложений можно использовать лазер,

который

позволяет получить большое число электронов и ионов в малом объе.ме в течение короткого времени. Проведенное в гл. 4 рас­ смотрение электронного и ионного токов, возникающих при взаимо­ действии лазерного луча с поверхностью, дает представление о величине токов, которые можно получить таким методом. При взаимодействии излучеипя мощного рубинового лазера с металли­ ческой поверхностью легко получить импульсы электронного тока с плотностями до 100 А/см2 и длительностью порядка нескольких десятков наносекунд. Физические явления, связанные с образо­ ванием заряженных частиц, обсуждались в гл. 4; здесь мы рас­ смотрим возможные пути пспользования этих явлений.

Было проведено много исследований электронной эмиссии при взаимодействии лазерного излучения с поверхностью. Однако среди них относительно мало работ, цель которых состояла бы

П Р И М Е Н Е Н И Я Л А ЗЕ Р О В

453

в получении сведений об использовании лазерной электронной эмиссии в качестве практического источника частиц [79—82]. В одной из работ [79] была сделана попытка определить пара­ метры источника. В этой работе поверхности вольфрама, тантала и гексаборида лантана облучались светом рубинового и арго­ нового лазеров. С помощью рубинового лазера были получены импульсы тока до 100 мА. Однако эти импульсы неизменно сопро­ вождались разрушением поверхности. Невозможно было получить серию пмпульсов с контролируемым уровнем мощности, которые не вызывали бы повреждения поверхности. Наиболее подвержен­ ным разрушению материалом оказался гексаборид лантана. Полученные плотности электронного тока составляли около 104 А/см2, однако такие плотности можно было ползшить только при плавлении материала катода.

Для получения устойчивого импульсного периодического источника электронов использовался также ионный аргоновый лазер. Длительность импульса лазера составляла около 1 мкс при частоте повторения 10 кГц. Луч с пиковой мощностью 50 Вт фокусировался в пятно диаметром 15 мкм. В течение нескольких часов можно было получать импульсы тока величиной порядка 1 мА. При увеличении интенсивности лазерного излучения до зна­ чения, при котором начиналось плавление и вынос массы, импуль­ сы тока достигали величины порядка 100 мА, но их амплитуда уменьшалась со временем. Гексаборид лантана оказался менее подходящим материалом, че.м вольфрам и тантал.

Без заметного повреждения поверхности можно было получить стабильные периодические импульсы электронного тока с частотой 1 кГц и амплитудой 1 мА в случае вольфрама и 0,5 мА в случае тантала. В импульсном режиме, подходящем для импульсного электронного источника, могут работать и другие лазеры, напри­ мер лазер на пттрий-алюминиевом гранате, активированном неодимом.

При получении электронных импульсов в килоамперном диапа­ зоне лазеры обладают пренмлгществами по сравнению с искровым разрядом. Так, при облучении танталовых катодов получены импульсы тока величиной 500 А и длительностью 80 нс [80].

Было высказано предположение, что плазму, образованную под действием лазерного излучения, можно использовать для полз^- чения управляемых термоядерных реакций [82, 83] (см. гл. 4). Плазма, полученная с помощью лазеров, обладает большой плот­ ностью и высокой температурой. Для получения самоподдерживающейся термоядерной реакции необходимо, чтобы температура плазмы была выше 5>108 К, а плотность — более 1014 см-31).

х) При этой температуре должно быть пх > 1014. — Прим. рей.

ГЛАВА 8

454

Надежды в этой области связаны

с последними достижениями

в лазерной технике, в частности с получением мощных пикосе­ кундных импульсов. Для осуществления управляемой термоядер­ ной реакции необходим дальнейший прогресс в создании лазеров большой мощности.

Лазер может стать также средством получения малых коли­ честв плотной высокотемпературной плазмы для исследования плазменных процессов. Такую плазму можно было бы создавать без возмущения удерживающего магнитного поля. Работа в этом направлении должна дать много интересных результатов. Про­ цессы, происходящие в лазерной плазме, изучались многими исследователями. Большинство этих исследований в конечном счете было явно направлено на применение лазеров для целей управляемого термоядерного синтеза. В настоящее время лучшим применением лазеров остается получение плазмы с особыми свойствами, а именно высокотемпературной плазмы, с которой можно проводить специальные исследования [84]. Была описана возможность применения лазера как диагностического средства для исследования плазменных процессов [85].

В плазме, полученной с помощью лазера с модулированной добротностью, легко получить температуры порядка сотен электронвольт и давления порядка сотен кплобар. Эти температуры и давления лежат в интервале, представляющем интерес для тер­ моядерных исследований. Как мы отмечали в гл. 4, наблюдалась эмиссия нейтронов из такой плазмы. В качестве источника частиц для инжекции в термоядерные устройства представляет интерес лазерный пробой газов. Плазма в этом случае образуется в огра­ ниченном объеме, что открывает возможности для решения неко­ торых проблем, возникавших ранее при конструировании термо­ ядерных устройств х). Эти возможности нельзя полностью реали­ зовать без значительного увеличения мощности, получаемой от лазеров [86]. Достижения в создании сверхмощных лазеров, вероятно, привели бы к открытию новых направлений в исследо­ вании плотной высокотемпературной плазмы.

Другим применением лазера, связанным с эмиссией частиц, является инициирование высоковольтного искрового разряда [87—94]. Потенциальными преимуществами этого метода являются: возможность работы в области высоких напряжений (вплоть до мегавольт), сохранность запускающего механизма, поскольку он электрически не связан с вы соковольтны й! источником, устой­ чивость включения и возможность периодического зажигания с частотой до 50 импульсов в секунду. В одной из работ ([89]) для этой цели был использован рубиновый лазер с модулирован-

В Инжекция лазерной плазмы в стелларатор описана в работе [135].— Прим,

ред.

П Р И М Е Н Е Н И Я Л А ЗЕ Р О В

455

пой добротностью мощностью 170 МВт. Луч фокусировался линзой с фокусным расстоянием 5 см ыа сферический электрод из нержа­ веющей стали, находящийся под напряжением ниже 100 кВ. При действии луча на поверхность металла образовывалась плотная плазма, которая инициировала пробой промежутка. В широком диапазоне условий разброс во времени пробоя промежутка состав­ лял мепее 2,5 не. Был осуществлен также пробой промежутков с разностью потенциалов 1,1 МВ. При высоких напряжениях время запаздывания пробоя составляло менее 5 ис при разбросе много меньшем 1 нс.

§ 8. Д РУГИ Е ПРИМЕНЕНИЯ ЛАЗЕРОВ

1. Измерения температуропроводности методом импульсного нагрева

Речь идет об использовании лазерного нагрева. Энергия быстро выделяется в некоторой точке; измерение температуры производится на определенном расстоянии от места выделения энергии. Использование лазера для измерения температуропро­ водности методом импульсного нагрева имеет ряд преимуществ [95—98]. Выделение энергии происходит в ограниченной области. С помощью коллимированного луча можно подвести к образцу большую энергию, чем в случае других источников тепла, исполь­ зуемых для импульсного нагрева. Лазерная энергия выделяется практически мгновенно на поверхности образца, поскольку коэффициент поглощения велик, а длительность импульса лазера с модулированной добротностью мала. Лазер вполне пригоден для импульсного измерения температуропроводности малых не полностыо поглощающих образцов, а также образцов, расположен­ ных в недоступных местах (например, в печи).

Приращение температуры с обратной стороны слоя толщиной L дается соотношением [95]

T(L, t ) = T m[1 + 2 S ( - l ) ’l e x p ( - n W / L 2)],

(8.3)

n=l

 

где Tm — максимальная температура, которая достигается в точке L, %— коэффициент температуропроводности. Из этого уравнения можно получить

x = 0,139L2/ii/2 см2/с,

(8,4)

где h/2 — момент времени, в который

Т (L, t) = Тт/2. Метод

состоит просто в измерении температуры обратной стороны образца как функции времени, например, с помощью радиационного

ГЛАВА S

456

приемника. В абсолютных измерениях нет необходимости; время ti/a можно получить из относительных измерений. На результат не влияет количество излучения, отраженного от поверхности образца. Таким образом, лазер обеспечивает удобный способ измерения температуропроводности с простой обработкой резуль­ татов, не требующий абсолютных калибровок 1).

2. Получение тонких пленок

Испарение веществ под действием лазерного луча дает возможность использовать лазер для нанесения тонких пленок в вакууме [31, 99—101]. Преимущество лазера при получении тонких пленок состоит в возможности уменьшить загрязнение пленкн. Впервые для этой цели в работе [99] был использован рубиновый лазер, работающий в обычном режиме. Для полу­ чения пленкп испарению подвергались образцы в порошкообраз­ ном состоянии, помещенные в тигель. Пленки хорошего оптиче­ ского качества были получены испарением многих веществ, таких,

как Sb2S3, As2S3, Se, ZnTe, Те, Mo03, РЬТе и Ge. Результаты сильно зависели от свойств исходного материала. Исследование пленок из ZnTe и РЬТе показало, что они стехпометрнчески соответствуют исходному материалу. Легко получались пленки с толщиной от нескольких сотых до нескольких десятых микрона за одни импульс. Хороших результатов не удалось получить с такими веществами, как InAs, Си20, ZnO, InSb и CdTe. Многие пз этих сложных материалов разлагались, так что трудно было сохранить стехиометрию.

Другой проблемой, возникающей при использовании импульс­ ного рубинового лазера, была неравномерность нанесения веще­ ства, обусловленная сильным кипением исходного материала. Неоднородности могли быть связаны и с тем, что наряду с паром вылетали также жидкие и твердые частицы. Толщина пленок, получаемых за один импульс, также ограниченна. Чтобы преодо­ леть указанные трудности, была изучена возможность нанесения тонких пленок с помощью С02-лазера [99]. При использовании СО2-лазера непрерывного действия выброс частиц с поверхности можно было значительно уменьшить и получить хорошие пленкн таких веществ, как SiO, ZnS, ZnSe, PbF2, Na3AlFB, Si02, MgF2, Si3N4, LaA103, ТЮ2 и A120 3. Используя лазер мощностью 25 Вт,

Ч Отметим разработанный в [136] метод измерения теплопроводности жидкостей с малым коэффициентом поглощения на длине волны лазера. Метод основан на исследовании динамики образования «тепловой линзы» в жидкости вследствие малого остаточного поглощения.— Прим. ред.

П Р И М Е Н Е Н И Я Л А ЗЕ РО В

457

удалось получить скорости нанесения пленки до нескольких ангстрем в минуту.

Таким образом, напыление с помощью лазера в высоком вакууме оказывается перспективным для изготовления тонких пленок тугоплавких веществ, особенно в тех случаях, когда желательно минимальное загрязнение.

3. Имитация действия радиации

Нестационарные эффекты, вызванные проникающей радиацией в полупроводниках, можно надежно и с малыми затра­ тами имитировать с помощью лазеров [103]. При поглощении лазерного излучения в полупроводнике образуются такие же электронно-дырочные пары, как п под действием рентгеновского излучения ядерного взрыва. Длительность импульса лазера с модулированной добротностью также имеет нужный порядок величины. Экспериментальное исследование показало, что пере­ ходные токи в кремниевых транзисторах, вызванные лазерным импульсом, почти идентичны токам, возникающим под действием рентгеновского излучения от импульсного источника или под дей­ ствием электронов от линейного ускорителя [104]. Выделение энергии можно сделать однородным, а скорость ионизации — очень высокой. С помощью лазера на неодимовом стекле мощно­ стью 10 МВт можно имитировать действие на кремний излучения мощностью 1012 рад/с. Таким образом, с помощью лазеров легко исследовать надежность полупроводниковых устройств, находя­ щихся в определенных условиях радиоактивного облучения.

4. Выводы

Предлагалось множество других возможных примене­ ний лазеров; едва ли целесообразно подробно их описывать. Область применений лазеров очень широка. Она включает такие вопросы, как ускорение микрочастиц [105, 106], инициирование химических реакций [107—109], образование искровых люток для измерения скорости в высокотемпературных газах [110, 111], моделирование солнечного ветра [112] и фотохимические исследо­ вания [113, 114]. Перечень других применений лазерных эффектов лгожно было бы продолжать неограниченно. Действительно, единственное ограничение для применения лазеров обусловлено лишь пределалш человеческого воображения. Описанные здесь применения, можно надеяться, послужат стимулом для дальней­ ших исследований.

30-023

ГЛА ВА S

 

 

 

458

 

ЛИТЕРАТУРА

 

 

 

 

1.

Gagliano F. P ., Lumley

It. M.,

Watkins L. S .,

Puoc.

IEEE, 57, 114

2.

(1969).

 

 

 

(1964).

Fairbanks R. II ., Adams С. M., Welding Journ., 43, 975

3.

Namba S., Kim P. II., Jap. Jouni. Appl. Phys., 3, 536 (1964).

4.

Schmidt A. O., Ham I.,

Hoshin II., Welding Journ., 44,

481s (1965).

5.

Miller K. J., Nunnikhoven J. D.,

Welding Journ.,

44, 480 (1965).

6.Aderson J. E., Jackson J. E., Welding Journ., 44, 1018 (1965).

7.Earvollno L. P., Kennedy J. H., Welding Journ., 45, 127s (1966).

S.Laser Welding and Machining, Proc. Eng. Seminar New Ind. Tech. Penn­

sylvania State Univ., June 27—July 2, 1965 published by the Pennsylva­ nia State Univ. College of Engineering, University Park, Pennsylvania (1966) .

9.Cohen. M. I., Epperson J. P ■, Application of Lasers to Microelectronic Fabri­ cation, in Electron Beam and Laser Beam Technology, «Advances in Ele­ ctronics and Electron Physics» (Marton L. and El-Kareh A. B., eds.). Aca­ demic Press, New York, 1968.

10.Banas С. M., Can. Materials and Processing Tech. Coni’., Toronto, Sept. 29—

Oct. 2 (1969).

11.Ready J. F., The Tool and Manufacturing Engineer, p. 24 (March 1969).

12.Ready J. F., Laser Focus, p. 38 (March 1970).

13.Gagliano F. P., 1969 lnt. Electron. Circuit Packaging Symp., San Francisco,

August 20—21, 1969 (IECP Symposium Record, Vol. 10).

14.Norton J. F., McMullen J. G., Journ. Appl. Phys., 34, 3640 (1963).

15.Chen D., Ready J. F., Bull. Amer. Phys. Soc., 11, 454 (1966).

16. Sullivan A. B. J., llouldcrojl P. T., Brit. 'Welding Journ, 14, 443

(1967) .

17.Adams Д/. / . , Brit Welding Instr. Res. Bull., 9, 245 (1968).

18.Bod D., Brasier R. E., Parks ./., Laser Focus, p. 36 (August 1969).

19.Booklet «CO; Applications» published by Coherent Radiation Laborato­ ries.

20.Stone G. B., Laser Focus, p. 43 (March 1970).

21. Wilson D. A’., Optical Spectra, p. 52 (March/April 1968).

22.Jenkins F. A., While H. E., «Fundamentals of Optics», Ch. 9, McGraw-

Hill, Now York, 1957.

23.Smith J. F., Laser Focus, p. 32 (March 1969).

.24. Cohen M. /., Bell. Lab. Rec., 45, 246 (1967).

25.Epperson J. P., Dyer R. W., Grzywa J. C., Laser Focus, p. 26 (Oct., 1966).

26.Brandli II. F., Keller M., Roulier A., p. 26 (May, 1967).

27.Mod Plast., p. 71 (May, 1969).

28.Lumley R. M., Geram. Bull., 48, 850 (1969).

29.Plitzer E. K., Turner R., Journ. Sci. Instr. (Journ. Phys. E.), Ser. 2, 1,

360 (1968).

30.Siekman J. G., Moryn R. E-, Philips Res. Rep., 23, 367 (1968).

31.Nichols K. G., Brit. Connnun. Electron., 12, 368 (1965).

32.Shackleton J. R., Semicon. Prod. Solid State Tech. p. 15 (May 1965).

33.llaun R. D., IEEE Spectrum, p. 82 (May 1968).

34.Gagliano F. P., Lumley R. M., Watkins L. S., Proc. IEEE, 57, 114 (1969).

35.Cohen M. I., Unger B. A ., Milkosky J. F-, Bull. Svst. Tech. Journ., 47,

385 (1968).

36.Cohen M. I., Laser Focus, p. 25 (November 1967).

37.Penrod J., Laser Focus, p. 25 (August 1968).

38.

Boot II.

A .

II., Clunie D.

M., Thorn R. S. A., Electron Lett., 2, 1 (1966).

39.

Berg A.

L.,

Load D. E.,

Solid State Electron., 11, 773 (1968).

40.Siekman J. G., Microelectron. Reliability, 7, 305 (1968).

41.Brech F., Cross L., Appl. Spectrosc., 16, 59 (1962).

П Р И М Е Н Е Н И Я

Л А З Е Р О В

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

459

42.

Runge Е. F.,

Minch R.

W .,

Bryan

F. Я .,

Spectrochim.

Acta,

 

20,

433

13.

(1964) .

S. D .,

Scribner

B.

/.,

Margoshes

M., Appl.

Opt.,

6,

81

Rasberry

44.

(1967).

 

S. D.,

Scribner

B.

F.,

Margoshes

M., Appl.

Opt.,

6,

87

Rasberry

45.

(1967).

 

W.

II., Pelletier Y.

Y.

A ., Dennen

W. If., Appl. Spectrosc.,

Blackburn

46.

22, 278

(1968).

 

Laqua A'.,

Hagenak

W. D.,

Spectrochim. Acta,

23B,

197

Mossotli

1'. G.,

47.

(1967).

E-

/•’•,

Bonjiglio

S., Bryan

F.

R.,

Spectrochim.

Acta,

22, 1678

Range

48.

(1966) .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Whitehead A. B., Heady II. II., Appl. Spectrosc., 22, 7 (1968).

 

 

 

49.

Rosan R. C., Ilealy M. A'., McNary

W. F.,

Science, 142, 236 (1963).

 

50.Fenner lV. C., Daly Ar. R., Rev. Sci. Instr., 37, 1068 (1966).

51.Vastola F. J., Pirone A . / . , Knox В. E., Ann. Conf. Mass Spectromet. Allied

Topics, 14th, Dallas (May 1966).

52.Knox В. E., Vastola F. J., Laser Focus, p. 15 (Jan. 1967).

53.Fenner N. C-, Daly N. R., Journ. Materials Sci., 3, 259 (1968).

54.Lincoln K. A., Ini. Journ. Mass Spectromet. Ion Phys., 2, 75 (1969).

55.Levine L. P-, Ready J. F., Bernal G. E., Journ. Appl. Phys., 38, 331

(1967) .

56.Lincoln K. A., Werner D., Ann. Coni. Mass Spectromet. Allied Topics,

15th, Denver (May 1967).

57.Knox В. E., Materials Res. Bull., 3, 329 (1968).

58.Knox В. E., Ban V. S., Materials Res. Bull., 3, 337 (1968).

59.Megrue G. II., Science, 157. 1555 (1967).

60. Sharkey A. G., Shultz J. L., Friedel R. A ., Nature, 202, 988 (1964). $ o

61.Joy W. A'., Ladner W. R-, Pritchard E., Nature, 217, 640 (1968).

62.Laser Focus, p. 12 (March, 1967).

63.Woywood D. J., Laser Focus, p. 28 (February, 1968).

64.Elion II. A ., «Laser Systems and Applications», pp. 166—168. Pergamoil

Press, Oxford, 1967.

65.Carlson C. O. el al., Science, 154, 1550 (1966).

66.Smith D. O., IEEE Trans. Magn., MAG-3, 433 (1967).

67. Chen D., Ready J. F., Bernal G. E., Journ. Appl. Phys., 39, 3916

(1968) .

68.Aagard R. L. et al., IEEE Trans. Magn., MAG-4, 412 (1968).

69.Hunt R. P., IEEE Trans. Magn. MAG-5, 700 (1969).

70.Kiss Z. Y., IEEE Journ. Quantum Electron., QE-5, 12 (1969).

71.Greiner J. II., Fan G. J., Appl. Phys. Lett., 9, 27 (1966).

72.Methfessel S., IEEE Trans. Magn., MAG-1, 144 (1965).

73.Мее C. D., Fan G. J., IEEE Trans. Magn., MAG-3, 72 (1967).

74.Chang J. T., Dillon J. F., Gianola U. F., Journ. Appl. Phys., 36, 1116

(1965) .

75.Goldberg N., IEEE Trans. Magn., MAG-3, 605 (1967).

76.Chen. F. S. et al., Proc. IEEE, 56, 782 (1968).

77.Requa S. C., Hanlet J. M. N., Space Aeronaut., p. S7 (August 1964).

78.Treves D., Hunt R. P., Dickey B., Journ. Appl. Phys., 40, 972 (1969).

79. Pittaway L. G. et

al., Brit. Journ. Appl. Phys. (Journ. Phvs. D)., Ser, 2r

1, 711 (1968).

Судзиловский В. IO., Ложников А. А., ЖЭТФ, 35*

SO. Богданкевич О. В.,

2052 (1965).

 

81.Dalman G. С., Wen Т. S., Proc. IEEE, 52, 200 (1964).

82.Dawson J. М., Phys. Fluds, 7, 981 (1964).

83.Басов II. Г., Крохин О. II., ЖЭТФ, 46, 171 (1964).

84.Sucov Е. W ., et al., Phys. Fluids, 10, 2035 (1967).

30*

ГЛАВА S

 

 

460

85. Басов II. Г.,

Крохин О■

II.,

Склизкое Г. В., Appl. Opt., 6, 1814

(1967).

Nucl. Fusion,

8, 3

(1968).

■86. Kidder R. E.,

87.Pendleton W. K., Guenther A. II., Rev. Sci. Instr., 36, 1546 (1965).

88.Guenther A. II., McKnight R. II., Proc. IEEE, 55, 1504 (1967).

89. Guenther A. H., Bettis J. R., IEEE Journ. Quantum Electron, QE-3,

581(1967).

90.Steinmetz L. L., Rev. Sci. Instr., 39, 904 (1968).

91.Miyoshi Y . , Hosokawa T., Sliintani M., Jap. Journ. Appl. Phys., 8, 620

(1969).

92.Deutsch F., Brit. Journ. Appl. Phys. (Journ. Phys. D.), Ser. 2, 1, 1711

(1968).

93.Ujihara K ., Proc. IEEE, 56, 2090 (1968).

94.Marolda A . J., IEEE Journ. Quantum Electron., QE-4, 503 (1968).

95.Deem H. W., Wood W. D., Rev. Sci. Instr., 33, 1107 (1962).

96.Rudkin R. L., Jenkins R. J., Parker W. J., Rev. Sci. Instr., 33, 21 (1962).

97.Namba S. et al., Jap. Journ. Appl. Phys., 6, 1019 (1967).

98.Nasu S. et al., Jap. Journ. Appl. Phys., 7, 682 (196S).

99.Smith II. M., Turner A. F., Appl. Opt., 4, 147 (1965).

100.Groh G., Journ. Appl. Phys., 39, 5804 (1968).

101.Samson J. A. R., Padur J. P., Sharma A., Journ. Opt. Soc. Amer., 57,

966(1967).

102.Zavitsanos P. D., Sauer W. E., Journ. Electrochem. Soc., 115, 109 (1968).

103.Hass G., Ranisey J. B., Appl. Opt., 8, 1115 (1969).

104.Laser Focus, p. 28 (October, 1968).

105.Ilabing D. II., IEEE Trans. Nucl. Sic., NS-12, 91 (1965).

106.Wanick R. W., Jarmuz P. J., Appl. Phys. Lett., 12, 52 (1968).

107.Аскаръян Г. А . и dp., Ппсьма в ЖЭТФ, 5, 258 (1967).

10S. Nelson L. S., Richardson N. L., Prentic J. L., Rev. Sci. Instr., 39, 744

(1968).

109.Rousseau D. L., Leroi G. E., Link G. L., Journ. Chern. Phys., 42, 4048

(1965).

110.Pao Y. II., Rentzepis P. M., Appl. Phys. Lett., 6, 93 (1965).

I'll.

Chen C. J., Journ. Appl. Phys., 37, 3092 (1966).

112.

Laser Focus, p. 18 (September, 1968).

113.

Tsuchimori N., Yamanaka T., Yamanaka C., Jap. Journ. Appl. Phys.,

 

7, 84 (1968).

114.Tiffany W. B., Journ. Chem. Phys., 48, 3019 (196S).

115.Novak J. R., Windsor M. W-, Proc. Roy. Soc., A308, 95 (1968).

116*.Locke E- V.,

Hoag E. D., Hella R. A ., IEEE

Journ.

Quant. Electr, 8,

132,

1971.

Banas С. M., Amer. Welch Soc.

Aniv.

Meeting, April,

ill*.Brown C. O.,

1971.

 

 

 

 

 

H 8* .Рыкалин II. H., Расчеты тепловых процессов прп сварке, Машгиз, 1961.

119 * .Макаров II.

И., Рыкалин II. II., Углов А. А., ФХОМ, № 3, 9 (1967).

120*.Кудинов В. В., Рыкалин 11. II., Шоршоров М. X.,

ФХОМ, № 4, 51 (1968).

121 *.Баранов М.

С., Кондратьев В. А ., Углов А . А., ФХОМ, №5,11 (1972).

122* .Рыкалин II. Н., Углов А. А., ФХОМ, 5, 23 (1970).

123*.Углов А . А ., Докт. диссертация, ИМЕТ АН СССР, М., 1970.

f2 i* .Бабенко

В.

П., Тычинский В. П., Газолазерпая резка материалов,

ЛДНТП,

1972.

 

Сурмепко Л. А.,

125*.Володькина В. JI., Либенсон М. II., Прокопенко В. Т.,

Резка тонкослойных материалов излучением С02-лазера, JIДНТ11, 1973. 126*.5айко В. Л., Либенсон М. II. и др., Лазерная технология (Инст. «Элек­

троника»), М., 1970.

127*.Вейко В. П., Либенсон М. II., Обработка материалов излучением оЭтиче-

ских квантовых генераторов, ЛДНТП, 1969.

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ