Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Лодиз, Р. Рост монокристаллов

.pdf
Скачиваний:
43
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
35.03 Mб
Скачать

478

Р. ПАРКЕР. МЕХАНИЗМЫ РОСТА КРИСТАЛЛОВ

натяжения, К' — кривизна поверхности, у— свободная поверхно­ стная энергия, Q'— молярный объем кристалла, Rg— газовая постоянная.

Можно показать [211], что кривизна слабо искаженной сферы описывается следующим выражением:

K'(Q, ф ) :

 

1 -

 

а л у < я

(22.12)

R

R

R2

 

 

 

Из соотношений (22.10'), (22.11) и (22.12) получим для равно­ весной концентрации на поверхности искаженной сферы следую­ щее выражение:

Г 6К

1

C0 ,s (6. ф) = С0 1 + -

/ + (/ + 2 ) ( / - D ^ H 2

- ] . (22.13)

Теперь необходимо найти решение уравнения Лапласа, сводя­

щееся

к выражению

(22.13)

на поверхности вида

(22 10)

и при­

нимающее значение С» при г =

оо; такое решение имеет вид

 

 

С (г,

е , ф ) =

А

+ i i

g ^ L +

C,,,

 

 

(22.14)

где Л 3

и Вз суть постоянные. Это решение

дает

при г —* оо;

в силу соотношения

(22.10')

оно удовлетворяет

уравнению Лап­

ласа

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

1

 

c=

о

(22.14')

дг

\' дг

SIN 9

59 \

<Э9

sin2 9

<?ф2

и равно равновесной концентрации (22.13) на

поверхности

(22.10)

при условии, что

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/

 

Г

\

 

 

 

 

 

A3 = R(C0

+ — ^ - C o

a )

 

 

(22.15а)

Я 3 =

#Л-1 ¥

fa +

-

СJ +

С0 (/+2) (; - 1) Ig-'

(22.156)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

я 2

 

Значения Л 3 и 5з находят приравниванием коэффициентов при одинаковых F;m и членов, не содержащих F/m , в выражениях (22.13) и (22.14). Таким образом,

С ( г , е , ф ) ^ - П с о - Ч * + 2С °Г » +

+

{ ( C 0 - c o o ) ^ + c 0 r D / ? ? - ! / ( / + 1)} 6Г

 

(22.16)

 

 

 

Чтобы рассчитать скорость нарастания возмущения, найдем про­ изводную по времени от функции (22.10) и возьмем следующий аналог условия непрерывности (22.4), справедливый при малых

VI. МОРФОЛОГИЧЕСКАЯ УСТОЙЧИВОСТЬ

479

возмущениях:

dr

dR

. db у .

D

дС

0 0

.

dt

dt

dt

^т

^Q,s °'

возм. пов

 

Тогда скорость нарастания возмущения выразится следующим образом:

+ [(/ - О С ° > С ° -

[/ (/ + О2 - 4]] 6Ylm),

(22.18)

где С0 н { = С0[1 + (2VD/R]} есть равновесная концентрация по Гиббсу — Томсону на поверхности невозмущенной сферы. При­ равнивая коэффициенты при одинаковых Ylm в выражениях (22.17) и (22.18), получаем скорость изменения амплитуды 1-й гармоники возмущения в виде [211]

 

D(l-l)

*(/) = •

б,. (22.19)

Здесь G K O H H [ = (ССО — CO,R)IR] есть градиент концентрации на не­ возмущенной сферической поверхности. Положительный член в правой части выражения (22.19), пропорциональный градиенту, благоприятствует росту амплитуды 1-й гармоники, а отрицатель­ ный член, пропорциональный поверхностной энергии, способ­ ствует убыванию ее амплитуды. Амплитуды всех гармоник, для которых выражение в квадратных скобках положительно, воз­ растают; номера этих гармоник удовлетворяют неравенству:

(/ + 1) (/ + 2) + 2 < -^г-

( С М - С 0 ) .

(22.20)

Все гармоники более высокого порядка (с меньшей длиной вол­ ны) должны затухать. Данному значению / соответствует опре­ деленный радиус сферы RKV(l), по достижении которого 1 гар­ моника становится устойчивой (т. е. сфера теряет устойчивость). Согласно (22.20), такой радиус удовлетворяет соотношению

Дкр (0 = [ ( / +

1 ) 2 ( / + 2 )

+ l ] Яш,

(22.21)

в котором R*M { = 2ГУ[(СС О

С 0 ) / С 0 ] }

есть радиус

шарообразного

критического зародыша, рассчитанный на основе теории зарож­

дения [см. г к р

в уравнении

(14.3)]. Наименьшая длина радиуса,

до достижения

которой ни

одна гармоника не развивается, соот­

ветствует номеру

/ = 2. Когда радиус

 

такого зародыша

только

что превзошел

то амплитуда

второй

(/ = 2) гармоники

начи­

нает возрастать. Этот радиус RKP

(2) —

7R*m, так что при 10%-ном

480

Р. ПАРКЕР. МЕХАНИЗМЫ РОСТА КРИСТАЛЛОВ

 

пересыщении # K p

( 2 ) ^ 1 0 ~ 5 (при

типичном

значении

TD =

= Ю - 7

см). Заметим, что искажение с / = 1 просто увеличивает

радиус

сферы.

 

 

 

 

Таким образом,

шар микронных

размеров,

растущий в

поле

диффузии, обычно неустойчив, если стабилизирующее действие оказывает только поверхностная энергия.

Этот весьма важный результат [211] позволяет со всей опре­ деленностью сделать тот вывод, что, по-видимому, все ранее (в гл. III ) рассмотренные формы, сохраняющиеся при росте, в дей­ ствительности неустойчивы. Таким образом, весь вопрос о мор­ фологии кристаллов, например как образуются кристаллы с большими плоскими гранями, остается открытым. Полученный результат применим также к росту шара из переохлажденного расплава (затвердевание), поскольку, как показали Маллинз и Секерка [211], задачи о переносе тепла и вещества формально эквивалентны. Интересно отметить, что при растворении или плавлении шарообразная форма устойчива, так как градиент концентрации бконц меняет знак и правая часть равенства (22.19) всегда отрицательна.

Цилиндр. Кориелл и Паркер [109] распространили вывод Маллинза и Секерки для сферы на рост цилиндра. Это, по-види­ мому, следующий по простоте случай. К тому же ряд кристал­ лов имеет форму, близкую к цилиндрической (ветви дендри­ тов, нитевидные кристаллы). Эти авторы рассмотрели искаже­ ния формы цилиндра как в поперечном сечении, так и вдоль его

образующей.

Возмущенное сечение описывалось формулой г =

= R + 6eiktf,

где k — положительное целое число. Оказалось, что

цилиндр, как и шар, устойчив по отношению к искажениям та­ кого вида, пока его радиус меньше критического радиуса ^ к р , и неустойчив, когда его радиус превосходит RKp. Однако в данном случае отношение критического радиуса устойчивости цилиндра к радиусу критического зародыша не равно семи; критический

радиус для гармоники с номером k = 2 удовлетворяет

теперь

соотношению

 

 

Я к р ( 2 ) =

[1 + 6 Л Х ] 7 Г Ц )

(22.22)

в котором А% = 7г In {v2ll),

Xi — константа роста,

In v2 =

=0,5772 (постоянная Эйлера).

чая

Таким

образом, отношение RKP/R^ зависит

в отличие от слу­

шара

от относительного пересыщения

на

бесконечности S,

так

как при S <С 1 справедливо равенство

(0,577 -f- In Х2>) — S

[см. рассуждения после вывода

выражения

(9 . 42)] . Заметим, что

критический радиус двумерного

зародыша

R*n равен по опреде­

лению Гв/ЦСоо - Со)/С0 ]. Если рассматривать одновременно воз­ мущения сечения цилиндра (цилиндр с продольными желоб-

VL МОРФОЛОГИЧЕСКАЯ

УСТОЙЧИВОСТЬ

481

ками) и искажения образующей г

вида ехр [i{kz/R)z],

где kz

действительное положительное, но не обязательно целое число (песочные часы), то задача заметно усложняется. На фиг. 31

приведены

данные

об

измене­

 

 

 

 

 

 

нии отношения

RKp/R*n

в зави­

 

 

 

 

 

 

симости от kz для разных зна­

 

 

 

 

 

 

чений

к;

во

 

всех

случаях

Ах =

 

 

 

 

 

 

=

4

(т.

е.

S «

0,0015).

 

Ци­

 

 

 

 

 

 

линдр

неустойчив

по

отноше­

 

 

 

 

 

 

нию к искажению

конкретного

 

 

 

 

 

 

вида

(k,kz),

 

если

его

приве­

 

 

 

 

 

 

денный

радиус

равен

 

или

 

 

 

 

 

 

превосходит отношение RKp/R*i,

 

 

 

 

 

 

приведенное на графике. В ча­

 

 

 

 

 

 

стном

случае только продоль­

 

 

 

 

 

 

ных

искажений

 

(песочные

ча­

 

 

 

 

 

 

сы) с большой длиной волны

 

 

 

 

 

 

(0,6 ^

kz

 

 

1)

 

цилиндричес­

 

 

 

 

 

 

кая

поверхность

всегда

неус­

 

 

 

 

 

 

тойчива, потому что такое ис­

 

 

 

 

 

 

кажение уменьшает

отношение

 

 

 

 

 

 

площади

поверхности

цилинд­

 

 

 

 

 

 

ра к его объему. При kz <

0,6

 

 

 

 

 

 

член,

отражающий

влияние

 

 

 

 

 

 

диффузии, меняет знак, так что

 

 

 

 

 

 

поле

диффузии

оказывает

 

ста­

 

 

 

 

 

 

билизирующее

 

действие.

В

 

 

 

 

 

 

этом

 

необычном

случае

 

об­

 

 

 

 

 

 

ласть

устойчивости

цилиндра

 

 

 

 

 

 

расположена

выше

кривой

R1<p

Ф и г .

31.

Зависимость критического

(штриховая

 

кривая на фиг. 31),

радиуса

RKP цилиндрического кри­

а

область

неустойчивости

ни­

сталла, растущего в поле диффузии,

же

этой

кривой.

 

 

 

 

 

 

от волнового числа кг

 

(согласно

 

 

 

 

 

 

теории

морфологической

 

устойчи­

 

Направленная

кристаллиза­

 

 

вости)

[109].

 

 

 

Цилиндр с радиусом

больше

R„n

неустой­

 

 

 

 

 

ку

ция

сплава. Маллинз и

Секер-

чив по отношению к

искажениям поверх­

ка [218], Секерка [219] и Во­

 

ности с волновым числом fe.

 

 

 

 

 

 

ронков

[220]

исследовали

 

ус­

 

 

 

 

 

 

тойчивость плоской поверхности раздела кристалл — расплав при кристаллизации разбавленного сплава таким же методом, как и Маллинз с Секеркой [211]. Предполагалось, что в движущейся системе координат, связанной с фронтом кристаллизации (ско­ рость кристаллизации постоянна и равна v), соблюдаются ста­ ционарные уравнения диффузии и теплопроводности. Градиент температуры в расплаве направлен к поверхности кристалла (температура расплава тем выше, чем дальше от поверхности

16 Зак. 718

482

Р. ПАРКЕР. МЕХАНИЗМЫ РОСТА КРИСТАЛЛОВ

кристалла

мы находимся). Как и прежде, предполагается, что на

поверхности раздела фаз выполняется условие локального рав­ новесия, однако теперь учитывается зависимость температуры поверхности от содержания примеси около нее. Выяснилось, что рост или подавление возмущений формы плоского фронта опре­ деляется действием трех факторов. Поверхностная энергия, как и прежде, оказывает стабилизирующее действие и сглаживает воз­ мущения. Градиент температуры около выступа или впадины также приводит к их исчезновению, потому что в данном случае в отличие от уже рассмотренных случаев кристаллизации шара и цилиндра температура расплава повышается с удалением от поверхности кристалла. Напротив, градиент концентрации рас­ творенного вещества с коэффициентом распределения k0, возни­ кающий из-за оттеснения примеси фронтом кристаллизации (см. гл. V I I I ) , способствует дальнейшему нарастанию возмущений. Если не учитывать влияния поверхностной энергии, которое мо­ жет быть мало по сравнению с влиянием градиента темпера­ туры, то условие устойчивости поверхности раздела фаз можно записать так:

поверхность

устойчива,

если

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

- \ ( g '

+

g) +

m'Gc<0;

 

 

 

поверхность

неустойчива,

если

 

 

 

 

(22.23)

 

 

 

 

v

 

 

 

 

 

 

- \ ( g ' + g )

+

m'Gc>0.

 

 

 

 

Здесь g'

—(KslK)Gts;

g =

(Kb/K)GtL;

Gts

и GtL

градиент

тем­

пературы в кристалле и в расплаве;

Ks,

K

L

температуропро­

водности;

К =

xk{Ks

+

K L ) ' ,

GC

градиент

концентрации

в рас­

плаве

около

 

неискаженной

 

поверхности

кристалла,

 

Gc =

— (CooV/D)[(\

ko)/k0];

Со — концентрация

примеси в

объеме

расплава;

k0

— равновесный

коэффициент

распределения;

v —

скорость кристаллизации; т' — наклон линии ликвидуса

на диа­

грамме состояния. Условие (22.23) аналогично, но не идентично

предложенному

Тиллером

и др. [221] критерию концентрацион­

ного переохлаждения (КП):

 

 

 

поверхность

устойчива, если

 

 

 

-

GtL

+

m'Gc

< 0;

поверхность

неустойчива,

если

(22 24)

 

 

-

GtL

+

m'Gc

> °-

Смысл критерия КП понятен из фиг. 32: истинная температура в расплаве, изображенная сплошной линией, может быть меньше температуры ликвидуса из-за накопления примеси перед фрон-

VI. МОРФОЛОГИЧЕСКАЯ УСТОЙЧИВОСТЬ

483

том роста. В результате там формируется 'область концентраци­ онного переохлаждения (заштрихована). Условие (22.24) есть условие равенства двух наклонов на поверхности раздела ф а з 1 ) . Как уже говорилось, критерий КП подтвержден экспериментами Уолтона и др. [222], а также Тиллера и Раттера [223] (см. [80]). Условие (22.23) отличается от критерия (22.24) тем, что оно со­ держит градиент температуры в кристалле, который связан с по­ током в расплаве через скрытую теплоту плавления L и скорость перемещения фронта роста v. Таким образом, плоский фронт может быть неустойчивым в отсутствие КП и устойчивым при наличии КП,

lll

А

 

Ф и г . 32. Схема возникновения концентрационного

переохлаждения перед

плоским фронтом кристаллизации

[80].

В заштрихованной области истинная температура ниже температуры ликвидуса.

Если учесть влияние поверхностной энергии, то критерий устой­ чивости сильно усложняется [218,219]. В предельном случае, от­ вечающем большим скоростям роста, стабилизирующее влияние поверхностного натяжения превосходит возмущающее действие примеси.

В независимом исследовании данной задачи Воронков [220] пришел к тем же выводам [к уравнению (22.23)], что и Маллинз с Секеркой [218].

Темкин [224, 225] исследовал скорость увеличения полусфери­ ческого выступа на плоском фронте кристаллизации разбавлен­ ного бинарного сплава. Но, как показали Маллинз и Секерка [218], исследование поведения выступа специфической формы еще не позволяет сформулировать критерий устойчивости пло­ ского фронта роста по отношению к произвольному возмущению.

23.ИССЛЕДОВАНИЕ УСТОЙЧИВОСТИ

СУЧЕТОМ Д О П О Л Н И Т Е Л Ь Н Ы Х ФАКТОРОВ

Поверхностная диффузия. Кориелл и Паркер [226] исследо­ вали влияние поверхностной диффузии на устойчивость цилиндра

') Наклоны прямых АВ и AV на фиг. 32. — Прим. ред.

16'

484 Р. ПАРКЕР. МЕХАНИЗМЫ РОСТА КРИСТАЛЛОВ

и шара при росте из пересыщенного раствора или из пересы­ щенного пара в присутствии инертного газа. Влияние поверх­ ностной диффузии на устойчивость шара рассмотрели Николз и Маллинз [227], а на устойчивость плоского фронта кристаллиза­

ции— Шьюмон [228]. Как оказалось,

поверхностная

диффузия

способствует устойчивости этих форм роста. Дело

в том, что

благодаря эффекту Гиббса — Томсона

равновесная

концентра­

ция над поверхностью с большой кривизной превышает равно­ весную койцентрацию над плоской поверхностью, так что вдоль поверхности кристалла возникает градиент концентрации, благо­ даря которому при наличии поверхностной диффузии вещество переносится от выступа к плоскому участку. В итоге выступ утрачивает устойчивость, а исходная форма роста становится

более устойчивой.

 

 

Чтобы

решить задачу

о поведении

возмущения вида

exp(ikq>),

наложенного на

поверхность

кругового цилиндра

(с образованием в результате гофрированной колонны), нужно просто к прежнему члену [109], характеризующему обусловлен­ ный объемной диффузией поток, алгебраически прибавить поток

вещества, связанный

с диффузией по поверхности. Тогда

* " ( Л

) = - Л ' И +

АР

(23.1)

1 Н —2

Здесь 1\'=\+Аф{к+\)

и Р=

т—С0,R)Q^AxDsk2(k+l)/DC0;

на поверхности цилиндра C0,R = С0

+ C0TD/R,

где С0 — равновес­

ная концентрация кристаллизующегося вещества у плоской

поверхности кристалла; Ds — коэффициент

поверхностной

диф­

фузии; Q — объем в расчете на одну молекулу (остальные

обо­

значения прежние). Ясно, что чем больше

отношение Ds/D,

тем

больше критический радиус кривизны возмущения. Согласно чи­ сленной оценке [226], проведенной для роста из пара в присут­ ствии инертного газа, устойчивость поверхности под действием поверхностной диффузии возрастает в 40 раз, т.е. критический радиус искажения ^К р(3) возрастает с 1,1-10—е до — 4,6• 10- 5 см.

Аналогичные результаты получены при анализе устойчиво­ сти шара [226,227]. Из численного примера, приведенного Ни-

колзом и Маллинзом,

следует, что критический радиус искаже­

ния возрастает примерно в 100 раз, а именно с Ю - 5 до Ю - 3

см.

Поверхностная кинетика. /. Устойчивость

шара с учетом

по­

верхностной

кинетики.

Кан [229], а также

Кориелл и Паркер

[230] исследовали влияние кинетических явлений на поверхности раздела фаз на устойчивость шара при росте в поле диффузии, отказавшись тем самым от предположения о существовании ло­ кального равновесия, принимавшегося в предыдущих работах.

 

VI. МОРФОЛОГИЧЕСКАЯ УСТОЙЧИВОСТЬ

436

Прочие

предположения, т. е.

предположения

об изотропности

свободной поверхностной энергии и о справедливости

уравнения

Лапласа

(движущие силы

кристаллизации

малы),

остались в

силе. Кориелл и Паркер рассмотрели как линейную, так и ква­ дратичную зависимости скорости роста от пересыщения. Оказа­ лось, что чем медленнее поверхностные процессы, тем устойчивее форма роста.

Отличие от случая, когда поверхностная кинетика несуще­ ственна, состоит в изменении краевого условия для потока; те­ перь это условие (для роста из расплава) при линейной поверх­ ностной кинетике имеет вид

Здесь v — скорость роста кристалла; Тп.т — температура поверх­ ности раздела фаз; Т0 — равновесная температура [для искрив­ ленной поверхности согласно уравнению (10.7)]; К — линейный кинетический коэффициент; Ks и Кь — температуропроводности; 7а(л6»<р) и TL(r,Q,ф) — соответственно температуры в кристал­ ле и расплаве, сложным образом зависящие от К- Далее Ко­ риелл и Паркер [230] пользовались критерием относительной устойчивости

- 4 ^ - = 1 ,

(23.3)

R/R

К

из которого находится величина радиуса кристалла Rr,

при кото­

ром возмущение растет с той же скоростью, что и сам кристалл; при больших значениях радиуса возмущение растет быстрее. [Критерий абсолютной устойчивости, сводящийся к равенству правой части (23.3) нулю, определяет условия, когда возмуще­ ние вообще не усиливается.] Оказывается, что минимальное зна­

чение Rr{l)

отвечает значению / = 3; действительно,

возмущение

сферы с / =

1 означает

просто увеличение

ее радиуса; возмуще­

ние с I = 2 превращает

сферу в эллипсоид, неустойчивый абсо­

лютно, но

устойчивый

относительно. Эти

выводы справедливы

при К—*°о

(бесконечно

быстрая поверхностная

кинетика).

В.предельном случае К->0

(бесконечно

медленная

кинетика)

критический радиус минимален при бесконечно большом /, а в реальном случае (конечное К) — при некотором конечном зна­ чении /. Радиус Rr примерно обратно пропорционален кинетиче­ скому коэффициенту, если последний мал. Близкие к изложен­ ным результаты получены и для квадратичной зависимости ско­ рости роста от переохлаждения.

Численная оценка произведена на примере кристаллизации салола, кинетические процессы у которого протекают очень мед­ ленно [198]. По теории Кориелла и Паркера [230] шарообразный

486

 

Р. ПАРКЕР. МЕХАНИЗМЫ РОСТА КРИСТАЛЛОВ

кристалл

салола при росте из

расплава, переохлажденного на

5° С, должен

сохранять форму

до тех пор, пока его радиус не

достигнет

0,5

см; без учета же кинетических процессов полу­

чается Ю - 4 см. Величина 0,5 см согласуется с наблюдаемыми на опыте размерами устойчивых плоских граней кристаллов салола (порядка нескольких сантиметров).

Другой любопытный теоретический вывод состоит в том, что даже при исчезающе малой поверхностной энергии сферический фронт роста может быть относительно устойчивым, если только кинетический коэффициент конечен.

Кан [229] провел качественный анализ устойчивости шара при росте из пересыщенного раствора со скоростью, пропорцио­ нальной пересыщению. Используя уравнения (22.16), (22.17) и (23.2), переформулированные для роста из раствора, и не учи­ тывая возмущений и влияния кривизны поверхности, Кан пока­ зал, что

 

 

dt

1 + (KCTRID)

 

 

 

 

 

Здесь К — линейный кинетический

коэффициент, a D — коэффи­

циент диффузии

в маточной

среде. Из этого

уравнения следует,

что при малых значениях радиуса R скорость роста

кристалла

лимитируется

кинетическими процессами

на его поверхности и

выражается формулой R /С(С» — С0 ), а при достаточно

боль­

ших размерах

кристалла (большие значения

R) скорость

роста

лимитируется

диффузией;

тогда

уравнение

(23.4)

приобретает

вид R = —D(CQ

COO)/RCT,

т.е. радиус

кристалла

возрастает

пропорционально t[/\ В первом случае

сферическая

поверхность

устойчива, так как, с одной

стороны,

концентрация

в

растворе

у фронта роста CS примерно

равна

Со и там отсутствуют

гради­

енты концентрации, которые приводили бы к возмущающему

действию

диффузии. С другой

стороны, стабилизирующее влия­

ние поверхностного

натяжения

сохраняется. Во втором случае,

как уже было показано, сферическая

поверхность

неустойчива.

Переход

от одного

закона

роста

к

другому происходит при

KCTR/D

»

1, так что сфера должна

быть устойчивой, пока ее ра­

диус не достигнет значения R ж

D/KCT-

 

2.

Устойчивость

плоского

фронта

кристаллизации

бинарного

сплава

с учетом

поверхностной

 

кинетики.

Таршис и Тиллер [231],

Зайденстиккер

[232] и Джексон

[193] исследовали

морфологиче­

скую устойчивость плоского фронта кристаллизации сплава при

условии, что градиент температуры на фронте

роста

направлен

в сторону кристалла. В этих работах, как и в анализе

Маллинза

и Секерки [218], учитывается влияние примеси

и кривизны по­

верхности (поверхностной энергии); к тому же в них предпола­ гается, что скорость кристаллизации v одинакова по всему

VI. МОРФОЛОГИЧЕСКАЯ УСТОЙЧИВОСТЬ

48?

фронту и пропорциональна переохлаждению. Найденное реше­ ние удовлетворяет стационарным уравнениям диффузии и тепло­ проводности, уравнению непрерывности потока вещества и гра­ ничному условию, наложенному на температуру поверхности раздела фаз. Джексон и Зайденстиккер установили, что харак­ тер кинетических явлений на поверхности кристалла не влияет на область устойчивости, но влияет на спектр Фурье развиваю­ щихся возмущений в области неустойчивости. Таршис и Тиллер, пользуясь численными методами, выяснили, что характер кине­ тических явлений влияет не только на спектр Фурье возмущенной формы, но и на область неустойчивости, и даже им определяется сама возможность возникновения неустойчивости. Столь боль­ шое расхождение выводов может объясняться различием исход­ ных предположений: в двух первых работах [232, 193] градиенты температур считались постоянными, а Таршис и Тиллер пола­ гали, что эти градиенты меняются при изменении кинетического коэффициента.

3. Прочие исследования

устойчивости

с учетом

поверхностной

кинетики.

Котлер и Тиллер [233] исследовали устойчивость

ци­

линдра

по отношению к возмущениям

как вдоль

цилиндра,

так

и в поперечном сечении

с учетом градиента температуры (кри­

сталлизация из переохлажденного расплава) и концентрации примеси; наряду с этим они принимали во внимание кинетиче­ ские явления на поверхности и ее кривизну. Ими рассчитана за­ висимость длины волны наиболее быстро растущих возмущений вдоль оси цилиндра от переохлаждения и линейного кинетиче­ ского коэффициента.

Шьюмон [228] исследовал движение возмущенного плоского фронта кристаллизации из пересыщенного раствора с учетом линейной поверхностной кинетики на этом фронте. Было устано­ влено, что при заданном градиенте концентрации примеси устой­ чивость возмущения определяется влиянием противодействую­ щих друг другу факторов — потока вещества и поверхностной энергии — и не зависит от кинетического коэффициента. Впро­ чем, если градиент концентрации может меняться, то при любом малом кинетическом коэффициенте градиент концентрации об­ ращается в нуль, а фронт роста становится устойчивым.

Чернов [234] подошел к исследованию устойчивости совер­ шенно иначе. Он провел качественный анализ формы много­ угольного кристалла, растущего из пересыщенного раствора. Взяв за отправную точку расчеты Зегера [78], согласно которым пересыщение на краю грани такого кристалла максимально, а в ее цнтре минимально, Чернов предположил, что это непостоян­ ство концентрации вдоль грани компенсируется линейным кине­ тическим коэффициентом так, что скорость роста поддерживает­ ся одинаковой во всех точках грани. Этот коэффициент заметно

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ