Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Ванюков, А. В. Теория пирометаллургических процессов учеб. пособие

.pdf
Скачиваний:
142
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
22.07 Mб
Скачать

содержащего — 1,0% меди (рис. 201). На первой стадии рафинирования температуру понижают до 450—500° С. (То иа рис. 201). Так как при понижении температуры растворимость меди уменьшается, то уже, начиная с температуры Т а, из исходного расплава выделяются кри­ сталлы меди. При температуре Т ь в равновесии находят­ ся две фазы: жидкий свинец с небольшой примесью ме­ ди (точка Ь') и кристаллы меди. Строго говоря, выделя­ ется не чистая медь, а кристаллы твердого раствора ме­ ди с небольшим содержанием свинца.

Количество выделившейся твердой фазы в соответст­ вии с правилом рычага равно

<7т = <7ж

>

(Х ІѴ .1 )

 

00

 

где <7т и <7Ж— количества соответственно твердой и жид­

кой фаз;

W и bb "—-отрезки на диаграмме состояния (рис. 201). Так как плотность меди (рСи «9000 кг/м3) меньше

плотности свинца (ррЬ« 10500 кг/м3), то образовавшие­ ся кристаллы всплывают наверх и накапливаются в ви­ де порошка, который снимают ковшами с дырчатым дном, так называемые «сухие» съемы. При понижении температуры ниже 450—500° С свинец в большей мере очищается от меди. Однако иа первой стадии этого не делают, так как при понижении температуры увеличива­ ется вязкость расплава и ухудшаются условия всплытия кристаллов меди. На второй стадии, после удаления су­ хих съемов температуру понижают до 330—340° С. При этой температуре ( Т с см. рис. 201) происходит дальней­ шее выделение меди из жидкого свинца. При темпера­ туре Т с в равновесии с твердой медью находится свинец с меньшим содержанием меди (точка с1) по сравнению с температурой 7Ѵ

Всплывающие кристаллы меди образуют сверху слой, в который захватывается механически значитель­ ное количество свинца ввиду его большой вязкости при этой температуре. Образующаяся корка содержит 70— 90% свинца. Это так называемые «жирные» съемы.

В результате описанных операций грубого рафини­ рования содержание меди в свинце можно понизить до 0,06%, т. е. до предела растворимости при температуре

~340°С . Одмако, так как равновесие в действительности не достигается, обычно получают продукт с содержани­

ем 0,10—0,7% Си.

Процесс кристаллизационного разделения при пони­ жении температуры для других систем в принципе ничем не отличается.

При получении силуминов (сплавов алюминия с кремнием, содержащих не более 13% кремния) из спла­ вов А1—Si кристаллизуется кремний и остается жидкая фаза, близкая по составу к силумину.

При рафинировании олова от железа при понижении температуры выделяются кристаллы химических соеди­ нений Fe3Sn2, FeSn или FeSn2.

Кристаллы меди с большим содержанием свинца, по­ лучающиеся при рафинировании в котле, могут быть очищены от свинца при их нагревании. Процесс произ­ водят на наклонной плите. Более легкоплавкий свинец вытапливается и стекает по плите в приемник. Стекаю­ щий расплав частично захватывает мелкие кристаллы меди.

Рафинирование свинца от меди в котле представля­ ет собой грубое рафинирование. Получающийся при этом свинец содержит еще много примесей и требует до­ полнительной очистки. Для дальнейшего тонкого рафи­ нирования к свинцу примешивают элементарную серу при температуре 330—350° С, которая связывает медь з сульфид меди (Cu2S), выделяющийся в виде твердой фазы. Съемы тонкого рафинирования состоят из Cu2S и PbS. Перед их снятием температуру повышают до 370° С для уменьшения захвата свинца.

§ 2. Кинетика процессов ликвационного рафинирования

Пример рафинирования свинца от меди показывает, что общими процессами для ликвационного рафинирова­ ния металлов являются образование зародышей новой фазы, их рост и процесс разделения фаз по плотностям.

Теория скорости образования зародышей из распла­ ва аналогична теории зарождения капель из пара. Вме­

сто пересыщения К Т In——,( где р

и р м — действительное

Рсо

пара,

Т — температура, К

и равновесное значение

постоянная Больцмана),

фигурировавшего при конден-

 

Д T

— тепло-

сации пара, вводят величину Хр — (здесь:

та плавления, Гм — температура

Ты

ДТ — пере­

плавления,

охлаждение) .

 

 

Скорость образования зародышей при

увеличении

переохлаждения ‘( А Т ) вначале

повышается, затем

уменьшается. Возрастание скорости связано с увеличе­ нием А Т , а убывание-— с замедлением кинетики, выз­ ванным понижением температуры.

Трудность зародышеобразования связана с поверх­ ностной энергией зародышей, имеющих высокую удель­ ную поверхность. Поэтому большое влияние па процес­ сы кристаллизации оказывают поверхностно активные вещества. Зародышеобразованію, как правило, пред­ ставляет собой гетерогенный процесс — центрами роста кристаллов служат посторонние частицы.

Процесс роста кристаллов может лимитироваться тепло-и массопередачей, или собственно поверхностной реакцией присоединения молекул к кристаллу. Предель­ ным случаем, когда рост кристаллов контролируется теплоотводом, служит кристаллизация чистых веществ.

Из-за выделения

скрытой теплоты

плавления на

межфазной границе

кристалл — расплав

температура

поверхности всегда выше температуры в объеме. Даже для самого медленно кристаллизующегося из исследо­ ванных веществ — салола лимитирующей стадией будет теплоотвод, так как при сколь угодном увеличении ин­ тенсивности перемешивания скорость кристаллизации продолжает увеличиваться. При отсутствии перемеши­ вания примерно 50% градиента температуры (grad Т) идет на создание пересыщения и примерно 50% требует­ ся для теплоотвода. Введение сильного перемешивания

может снизить долю

градиента температуры,

идущего

на теплоотвод, не более как до 20%.

 

Кристаллизация

металлов еще в большей

степени

контролируется теплоотводом, чем кристаллизация са­ лола. Например, теплопроводность олова больше в ІО2 раз, а скорость кристаллизации больше ~ в 2 - ІО4 раз. Следовательно, повышение тепловыделения на границе твердое — расплав за счет увеличения скорости крис­ таллизации много больше, чем возрастание теплоотвода за счет увеличения температуропроводности. Если про­ цесс контролируется массопередачей, можно выделить

две стадии: массоперенос из объема раствора к поверх­ ности кристалла и собственно процесс присоединения к поверхности. Процесс массопереноса описывается урав­ нением

' =

* * (* (0 ,-* ,® ,).

 

(ХІѴ.2)

где

/ — молекулярный поток, г/см2;

см/с;

 

К т — коэффициент массопереноса,

N w

N s — концентрации компонента в

объемен на

 

поверхности г/см3.

 

 

Реакцию на поверхности можно представить урав­

нением

 

 

1 =

* / ( * « , - "<.,).

 

(ХІѴ-3>

где

/ — произвольная функция;

 

 

 

К — константа скорости, см/с;

 

 

 

Nco — концентрация насыщения в растворе, г/см3.

Концентрация в объеме N o больше, чем

концентра­

ция насыщения при той же температуре N

Концентра­

ция на поверхности N s имеет промежуточное

значение

между N 0 я А/’».

 

 

При плохом перемешивании JV(S) ближе к Л/<»)И ско­ рость процесса контролируется массопереносом. Если перемешивание хорошее, то N@) приближается к JѴ(0) и

процесс протекает под контролем поверхностной ре­ акции.

Вследствие различия удельного веса выделяющихся кристаллов и расплава происходит разделение фаз. Вре­ мя, требуемое для расслаивания, зависит от скорости осаждения или всплытия частиц. В простейшем случае для движения под действием силы тяжести малой ша­ рообразной частицы, погруженной в вязкую однородную среду, скорость описывается формулой Стокса, справед­ ливой для свободного осаждения частиц в неограничен-

ном объеме,

2

(рі — р,) г2

( и

= — g

----—— , где ѵ — линейная ско-

 

 

9

т)

рость движения частицы, см/с; рі и р2 — плотности соот­ ветственно частицы и среды, г/см3; г — радиус шарика, см; ц — динамическая вязкость, г/с. см). В действитель­ ности расплав, подвергающийся отстаиванию в процессе кристаллизационного рафинирования, представляет со­

бой суспензию, в которой происходит сложное движение частиц, сопровождающееся трением между частицами и их взаимными столкновениями. Кроме того, частицы имеют различные размеры и их форма часто в значи­ тельной мере отличается от шарообразной. Поэтому среднюю скорость осаждения рассчитывают с привлече­ нием критериальных уравнений.

ч§ 3. Направленная кристаллизация и зонная плавка

Появление промышленности производства кристаллбв способствовало развитию процессов направленной кристаллизации и зонной плавки, которые применяются не только для выращивания монокристаллов, но и для глубокой очистки веществ, в частности металлов, иду­ щих на производство прецизионных сплавов.

Очистка направленной кристаллизацией и зонной плавкой основана на отличии концентрации примеси в затвердевшей фазе от концентрации примеси в жидкой фазе. Рассмотрим это на примере разбавленного раство­ ра (рис. 202). Если примесь понижает температуру плавления основного компонента (рис. 202, а), то кон­ центрация компонента в выпадающих кристаллах бу-

Рис. 202. Распределение примеси при кристаллизации:

а — примесь понижает температуру

плавления основного компонента;’

б — примесь повышает температуру плавления основного компонента

дет меньше, чем в исходном

расплаве. Например, при

температуре Т а из исходного расплава состава а выде­

ляются кристаллы состава а'.

Если примесь повы­

шает

температуру плавления

основного компонента

(рис.

202,6), то выпадают кристаллы, обогащенные ею.

Действительно, при температуре Т а для исходного ра­ сплава состава а (рис. 202,6), кристаллы - имеют со­ став, соответствующий точке а.

Равновесное распределение примеси между твердой

и жидкой фазами характеризуется коэффициентом рас-

Q

пределения К 0= ——.

сж

Вобщем случае Ко зависит от концентрации, если не

считать сильно разбавленных растворов. Окончательное распределение компонентов в закристаллизовавшемся слитке зависит не только от коэффициента распределе­ ния, но и от условий проведения кристаллизации. При равновесной кристаллизации, когда скорость диффузии в твердой фазе соразмерна со скоростью кристаллиза­ ции в каждый данный момент времени сущест­ вуют лишь кристаллы, равновесные по составу с имеющимся расплавом. При температуре Т а і(рис. 202)

с

исходным

расплавом

состава а

находятся

в

рав­

новесии

кристаллы состава

а'.

При

температуре

Ть существуют расплав состава b и кристаллы

состава

Ь',

при температуре Т с— расплав состава с и кристаллы

 

 

 

 

 

 

состава с'. При понижении

 

 

 

 

 

 

температуры ниже

Тс

(напри­

 

 

 

 

 

 

мер

T D)

состав

кристаллов не

 

 

 

 

 

 

меняется, так как при Тс крис­

 

 

 

 

 

 

таллизация

уже

заканчива­

 

 

 

 

 

 

ется.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

В

итоге

равновесной

крис­

 

 

 

 

 

 

таллизации

получаются

крис­

 

 

 

 

 

 

таллы одинакового

состава с

 

 

 

 

 

 

исходным расплавом

и равно­

 

 

 

 

 

 

мерным

распределением

при­

 

 

 

 

 

 

меси.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

При

увеличении

 

скорости

 

 

 

 

 

 

кристаллизации

процесс

идет

 

 

 

 

 

 

по-иному. Ранее выпавшие

 

Относительнаядоля д зат­

кристаллы

не полностью

при­

 

вердевшейживности

 

ходят в равновесие с распла­

 

 

 

 

 

 

вом,

существующим в данное

Рис.

203.

Распределение

при­

время. Поэтому

части слитка,

затвердевающие в разное вре­

меси

при

направленной

кри­

сталлизации для

различных

мя, будут иметь различный со­

значений

коэффициента

рас­

став.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

пределения

 

 

 

 

 

 

 

 

Для очистки веществ от примесей проводят направ­ ленную кристаллизацию, так как только в этом случае можно пространственно разделить части слитка с раз­ личным содержанием примесей. Предполагая, что диф­ фузия в твердой фазе не происходит, можно выделить три режима: 1) полное перемешивание в жидкости (оди­ наковая концентрация в ней), 2) частичное перемешива­ ние жидкости, 3) отсутствие перемешивания. Макси­ мальное разделение примеси достигается при условии полного перемешивания и описывается уравнением.

c

= K 0 c 0 ( i - g ) K° - \

(XIV.4)

где

С — концентрация примеси в той же части твердой

 

фазы, где закристаллизовалась доля g

исход­

 

ной жидкости;

 

 

С„— исходная концентрация в расплаве;

 

К о — равновесный коэффициент распределения. При выводе уравнения (XIV.4) также предполага­

лась, что К о не зависит от концентрации.

Когда перечисленные выше условия, т. е. полное пе­ ремешивание в расплаве и отсутствие диффузии в твер­ дой фазе, не выполняются, сегрегация примеси меньше, чем рассчитанная по уравнениям (XIV.4). Для этого слу­ чая вводят эффективный коэффициент распределения К- На рис. 203 приведены кривые распределения примеси при нормальной кристаллизации. Нормальная кристал­ лизация может быть эффективным методом очистки, если абсолютное значение разности (1—К ) больше или

равно 0,5.

Бартон, Прим и Шлихтер, рассматривая концентра­ ции у поверхности раздела кристалл — расплав, устано­

вили следующую

связь между

эффективным и равно­

весным коэффициентом распределения.

 

К

=

 

 

(XIV.5)

где

/ — скорость

движения

фронта кристаллизации,

 

см/с,

 

 

расплаве,

 

D — коэффициент диффузии примеси в

 

см2/с,

 

 

 

 

Ô— толщина пограничного диффузионного слоя, см.

В приведенной формуле обычно известны

только К о

и f. Величина коэффициента диффузии в жидкости для многих, жидких растворов находится между ІО-5— ІО-4 см2/с. Величина б, как правило, неизвестна. Ее мож­ но предсказать теоретически только для очень простых гидродинамических условий, б меняется в пределах от

10~3 до ICH см.

(XIV.5) может

быть

использовано для

Уравнение

определения величины б/ D . Действительно, если пред­

ставить его в форме

 

 

 

 

 

 

_

< Х І Ѵ -6)

и построить график зависимости In

1 j от f, то угол

наклона прямой равен б/ D ,

а отрезок,

отсекаемый по

оси ординат In

— lj. Следовательно, для определения

Ко и б/D требуется провести несколько направленных кристаллизаций с различными скоростями, но в одина­ ковых условиях перемешивания.

а

ö

в

г

А

Состав

3

Рис. 204. Зависимость формы фронта кристаллизации от состава сплава и скорости кристаллизации

Отличие эффективного коэффициента распределения от равновесного определяется многими причинами. В значительной мере оно зависит от формы фронта кри­

сталлизации. Чтобы приблизить эффективный коэффи­ циент распределения к равновесному, т. е. улучшить разделение компонентов, следует стремиться к плоско­ му фронту кристаллизации. Влияние состава и скорости кристаллизации на форму фронта кристаллизации пока­ зано на рис. 204. При малой скорости кристаллизации или кристаллизации почти чистого вещества А фронт плоский (рис. 204, а). При увеличении скорости или со­ держания компонента В в исходном расплаве возникает так называемая ячеистая субструктура (рис. 204,6). Начало образования ячеистой субструктуры связано с концентрационным переохлаждением. В процессе рос­

та кристалла

в расплаве

вблизи кристаллизующейся

поверхности

появляется слой,

обогащенный

примесью

(рис. 205). В

соответствии

с

диаграммой

состояния

(рис. 205) температура кристаллизации такого раствора при /Со<1 ниже и он, скапливаясь в пространствах между ячейками, кристаллизуется с запаздыванием. При этом, конечно, происходит сегрегация примеси. При дальнейшем увеличении скорости кристаллизации или

содержания

компонента В

 

 

 

с поверхности

начинают

 

 

C*(o)

прорастать

дендриты

 

(рис.

 

 

V

204, в ) .

В пространстве меж­

§

 

ду ними захватывается

еще

I,

 

Фронт

большее количество

приме­

CmS

кристаллизации

си и еще больше повышает­

 

 

IsРасстояние вдаль слитка

ся « К » ,

по сравнению с пре­

дыдущим

случаем.

Нако­

нец, при очень больших ско­

Рис. 205. Распределение концентра-

ростях

или

концентрациях

дни примеси у фронта кристаллиза­

компонента

В

(рис. 204, г)

 

 

ции (/Со< 1)

могут

образовываться

от­

 

 

 

дельные кристаллы вещества, обогащенного компонен­ том А , а затем — кристаллизоваться оставшийся рас­ плав, обогащенный компонентом В .

Наряду с направленной кристаллизацией благодаря своей простоте и эффективности в последнее время по­ лучила чрезвычайно широкое распространение зонная плавка. Применяется она и для получения особо чистых металлов, идущих на синтез полупроводниковых соеди­ нений. Схема процесса зонной плавки пфедставлена на рис. 206. Вдоль слитка перемещается относительно не-

большой длины расплавленная зона. Перемещение рас­ плавленной зоны в одном и том же направлении осуще­ ствляется несколько раз. В ту же сторону, в которую движется расплавленная зона, происходит оттеснение примеси, если K < Z \ , и в противоположную сторону, ес­

Нагредотель

1 1

зона

■Рис. 200. Схема зонной плавки

ли /С>1. Степень распределения примеси зависит от от­ ношения длины расплавленной зоны и длины слитка, от скорости перемещения зоны, от интенсивности переме­ шивания расплава и коэффициента распределения при­ меси. Это распределение описывается уравнением

 

(XIV.7)

где С0 и С— исходная

и концентрация примеси в твер­

дой фазе,

г/см3;

К — коэффициент распределения;

X — расстояние от точки, в которой начинается затвердевание;

I — длина расплавленной зоны.

Уравнение (XIV.7) справедливо для всего слитка, кроме конечного участка, равного длине расплавленной зоны, где распределение подчиняется закону нормальной кристаллизации. На рис. 207 приведены кривые для одно­ проходовой зонной плавки, выражающие концентрацию примеси в твердой фазе в зависимости от расстояния (в длинах зоны) для различных значений коэффициен­ тов распределения К-

Легко представить себе, что сегрегация примеси, до­ стигнутая после первого прохода, в результате последую­ щих проходов увеличится. Эффект очистки после одного

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ