Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Сухвало, С. В. Структура и свойства магнитных пленок железо-никель-кобальтовых сплавов

.pdf
Скачиваний:
13
Добавлен:
22.10.2023
Размер:
15.03 Mб
Скачать

кристаллизационного процесса для пленок никеля и железа приводились на рис. 8 и 9, на которых показан пример их из­ менения в зависимости от температуры подложки.

Прежде чем перейти к анализу показанных на предыду­ щих рисунках зависимостей AF и AS от условий кристаллиза­ ции, заметим следующее. Энтропия процесса роста пленок, определенная с помощью использованного здесь метода, для сверхвысоковакуумных пленок, полученных при не слишком высоких переохлаждениях, по величине близка к ее равновес­ ным значениям. Так, например, для никелевых пленок вели­ чина AS находится в пределах 4,0—4,4 дж/моль-град, в то время как AS равновесного процесса кристаллизации никеля имеет значение 4,95 дж/моль • град. При уменьшении степени переохлаждения при кристаллизации сверхвысоковакуумных пленок значения энтропии кристаллизации пленок будут, оче­ видно, приближаться к равновесным. Однако при кристалли­ зации пленок при сверхвысоких переохлаждениях, в особен­ ности в условиях значительного влияния газовых химически активных примесей, величина энтропии роста пленок начи­ нает весьма сильно отклоняться от равновесных значений. При этом закономерности изменения AS в зависимости от условий кристаллизации не являются хоть в какой-то мерс аддитивными изменению технологических параметров роста пленок. В различных диапазонах условий и при различных сочетаниях значений кристаллизационных параметров вели­ чина AS изменяется весьма сложно, иногда экстремально. Это, очевидно, не согласуется с закономерностями изменения равновесных значений AS, например, в зависимости от темпе­ ратуры. Однако обнаруженные особенности резкого в той или иной мере изменения AS в зависимости от условий кристаллизации являются в данном случае естественным след­ ствием образования химических соединений в результате тер­ мохимических реакций испаряемого материала с компонента­ ми остаточных газов. Действительно, образующиеся хи­ мические соединения характеризуются комплексом термодинамических параметров, значительно отличающихся от аналогичных параметров основной фазы в пленке. Об этом свидетельствуют приведенные в табл. 8 термодинамические свойства некоторых соединений железа, никеля и кобальта с кислородом, азотом и углеродом.

Как было показано, количество образующихся в пленке химических соединений и их тип зависят от диапазона значе­ ний и взаимного сочетания условий кристаллизации. В связи с этим термодинамические параметры процесса кристаллиза­ ции пленок в условиях влияния примесей изменяются в соот­ ветствии с количеством и типом образующихся при данных конкретных условиях химических соединений. Величина AS

90

Т а б л и ц а 8

Термодинамические свойства некоторых соединений железа, никеля и кобальта с кислородом, азотом и углеродом [147, 148, 165]

Соединение T5, °K AS-10” , дж/град L10!0, кдж

Fe,]N

943

25,7

_

Fe.,N

16,8

Fe3C

1500

16,8

8,7

Со'О

2078

8,8

Со.,О.,

17,5

NiO

2233

6,32

NiC

2373

17,6

FeO

1651

9,75

5,15

Fe30 4

1870

25,2

22,9

F e,0 3

1730

15

 

зависит от того, какая из образующихся при кристаллизации фаз является ведущей в этом процессе. Известно, например, что в двойных эвтектических системах в эвтектической точке происходит смена роли фаз, участвующих в кристаллизации: до эвтектической точки ведущей является одна фаза, после —■ вторая. Следовательно, если термодинамические характери­ стики фаз эвтектики весьма различаются, то при достижении эвтектической точки происходит скачкообразное изменение AS. Наряду с этим может реализоваться случай, когда веду­ щая фаза эвтектической кристаллизации в выбранных усло­ виях затвердевает в аморфном или полуаморфизированном состоянии. В подобном случае AS, найденное по применяемой здесь методике, оказывается близким или равным нулю. От­ меченные особенности •— весьма частое явление, наблюдаемое при кристаллизации пленок в случае значительного влияния примесей. Уменьшение AS вплоть до нулевых значений 'наи­ более характерно для фаз с высокими _ диэлектрическими свойствами, склонными к аморфизации при относительно не­ больших переохлаждениях.

Таким образом, пленки, выращенные в условиях влияния примесей, изменяют свои термодинамические свойства в соот­ ветствии с фазовым составом, который изменяется в зависи­ мости от условий кристаллизации. Следовательно, такие плен­ ки ведут себя как фазы переменного состава. Отметим, кроме того, что определение энтропии кристаллизационного процес­ са может служить дополнительным методом идентификации возникающих в пленке типов химических соединений.

Как отмечалось, в пленках имеет место значительная за­ висимость энтропии кристаллизации от плотности потока

9!

пара, давления остаточных газов и температуры подложки. Увеличение плотности потока пара может приводить не толь­ ко к росту AS, но и к ее уменьшению. Характер .подобного из­ менения зависит от фазового состава пленки. Особенностью зависимости энтропии кристаллизации пленок от температу­ ры подложки является постоянство величины AS в относи­ тельно широком температурном диапазоне в области низких Тп. В некоторых случаях (рис. 8, а) при определенном значе­ нии Гп наблюдается скачкообразное изменение AS практиче­

ски до нулевых значений. Примечательно, что в

диапазоне

нулевых значений AS величина AF не изменяется

(рис. 8).

По-видимому, следует считать, что превращение

величины

AS в ноль в рассматриваемом на рисунке интервале означает одинаковую степень упорядоченности атомов в обеих фазах, участвующих в кристаллизации, т. е. в исходной паровой и твердой закристаллизовавшейся, иными словами, аморфности твердой фазы. В случае рис. 8 такой фазой с наибольшей ве­ роятностью является NiO. В точке эвтектики NiO становится ведущей фазой, вследствие чего AS снижается практически до нуля. Отметим, что аморфизирование NiO наблюдается не при всех условиях кристаллизации пленок. Никелевая фаза при этом находится в кристаллическом мелкодисперсном состоянии.

Знание величины энтропии плавления AS позволяет опре­ делить величину скрытой теплоты кристаллизации L с по­ мощью соотношения AS = LfTs, а также при известном пере­

охлаждении оценить термодинамическое пересыщение по .со­ отношению AZn = AT -AS.

Можно отметить полную корреляцию в изменении ир и AZn. Совершенно естественно, что разнообразие в изменении величины AZn при вариации технологичеоких условий будет порождать соответствующее разнообразие изменения vv.

Данные о зависимости термодинамических характеристик кристаллизационного процесса пленок никеля и железа при­ водятся в табл. 9.

Отметим, что при значительном изменении скорости роста

•пленок и величины AF в узком диапазоне условий

точность

определения AS и других термодинамических характеристик

несколько снижается.

(AS,

Ts, АТ и

Знание термодинамических характеристик

L) позволяет проводить приближенные оценки

некоторых

важных кинетических параметров процесса

кристаллизации

пленок. Для этого можно использовать, например, соотноше­ ние (1.43).

Отдельные результаты по определению значений кинети­ ческого коэффициента скорости роста k и величины £>,/а; при­ ведены в табл. 10.

92

Т а б л и ц а 9

Некоторые термодинамические параметры процесса кристаллизации пленок никеля и железа, полученных в вакууме Ю-4 мм рт. ст.

Пленка

S.-10-22,

Гп, »К

T s, °к

47", град

Д5-1023,

Z.-1020,

AZn - 10го,

см '3 -сек"1

дж/град

К Д Ж

дж

 

 

При нормальном падении пучка пара

 

 

Ni

е

300

675

375

4,0

2,71

2,5

 

 

350

700

350

4,0

2,80

2,0

 

 

400

710

310

4,0

2,84

1,7

 

 

450

735

285

4,0

2,94

1,66

 

3

300

760

460

2,76

2,1

1,27

 

 

350

770

420

2,76

2,13

1,16

 

 

400

830

403

2,76

2,29

1,13

 

 

450

775

325

2,76

2,14

0,895

Fe

о

400

585

185

2,10

1,23

0,39

 

 

450

518

68

3,08

1,6

0,21

 

При падении пучка пара под углом 30° к нормали подложки

Ni

е

300

714

414

3,2

2,27

1,23

 

 

325

714

389

3,28

2,34

1,27

 

 

350

714

364

3,94

2,81

1,43

 

 

375

714

339

4,75

3,39

1,6

Таблица 10

Некоторые кинетические параметры процесса кристаллизации пленок никеля и железа, полученных в вакууме 10~4 мм рт. ст.

при нормальном падении пучка пара

 

s„-io-=3,

 

 

 

Ур-Ю10,

ТС'Ю13,

Di

Пленка

гп,°к Ts. °к

47", град

——-10".

см'г-сек‘1

м/сек

м/сек-град

ai

 

 

 

 

 

 

 

м/сек

Ni

6

300

675

375

25,9

6,9

2,88

 

 

350

700

350

24,7

7,05

3,17

 

 

400

710

310

23,2

7,48

3,38

 

 

450

735

285

21,9

7,68

3,56

 

3

300

760

460

12,0

2,67

1,94

 

 

350

770

420

11,4

2,71

2,12

 

 

400

830

409

10,75

2,77

2,27

 

 

450

770

325

10,1

3,08

2,4

Fe

 

350

641

291

43,5

14,9

3,5

6

400

585

185

35,4

19,2

3,9

 

 

450

518

68

25,8

17,8

7,26

S3

Как видно из таблицы, диффузионные характеристики (Di/ai) при кристаллизации пленок существенно зависят от условий кристаллизации. Следует отметить, что приведенные в табл. 9 данные относятся к условиям примесной кристалли­ зации. В связи с этим зависимость диффузионных парамет­ ров от условий роста следует рассматривать в этом случае не только как результат влияния степени переохлаждения и пе­ ресыщения, но и как результат протекания процессов хемо­ сорбции и образования химических соединений.

Известный интерес представляют также приближенные оценки величины пересыщения пара у фронта кристаллиза­ ции, коэффициентов конденсации и поверхностного натяже­ ния. Величина пересыщения пара может быть определена, в частности, из соотношения

RT\ n - = AS-АТ.

Ре

Кратко описанные выше особенности термодинамических и кинетических параметров роста пленок, несмотря на их определенную приближенность в отдельных случаях, пред­ ставляют значительный интерес для полного понимания про­ цесса кристаллизации пленок.

Г л а в а III

ФИЗИКО-ХИМИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ ТЕРМОДИНАМИЧЕСКОЙ АКТИВНОСТИ ПЛЕНОК ЖЕЛЕЗО-НИКЕЛЬ-КОБАЛЬТОВЫХ СПЛАВОВ

Проведенные в .предыдущей главе термодинамический и отчасти кинетический анализы процесса кристаллизации пле­ нок показывают, что в большинстве случаев условия получе­ ния пленок, принимаемые за стандартные, 'весьма далеки от состояния равновесия и соответствуют термодинамическим пересыщениям, достигающим 10~5 дж/моль. В связи с этим закономерности роста пленок в подобных условиях также су­ щественно отличаются от равновесных. Неудивительно, что из многих методов активирования твердых тел наиболее часто используется кристаллизация из пара.

В тонких пленках под влиянием значительного пересы­ щения и переохлаждения при кристаллизации возникает тер­ модинамически и структурно нестабильное расположение эле­ ментов решетки, которое по сравнению с идеальными или слегка искаженными кристаллами характеризуется повышен­ ным значением свободной энергии Гиббса, или свободной эн­ тальпии. Активированное состояние структуры пленок— наи­ более важная особенность, определяющая всю специфику и гамму физико-химических свойств, отличающих их от характе­ ристик равновесного кристалла, присущая во многом и макро­ образцам при сверхнеравновесной кристаллизации.

Важнейшее свойство неравновесных структур состоит в том, что при одной и той же температуре они обладают зна­ чительно большей энтропией, чем равновесные. Этот факт уже анализировался в предыдущей главе в связи с энтропией плавления.

Увеличение энтропии кристалла в активном, возбужден­ ном состоянии можно рассчитать с помощью выражения

т

(3.1)

о

95

где S t, St , Cp, Cp —энтропии и теплоемкости активного и рав­ новесного кристаллов; So— энтропия при абсолютном нуле. Да­

же если теплоемкости Ср и Ср мало различаются, указанная раз­ ность энтропии может быть значительной вследствие высокой энтропии при абсолютном нуле. Немногие известные данные по­ казывают, что энтропия активированных кристаллов при абсо­ лютном нуле может составлять, например, до 40 % энтропии плавления.

Неравновесный, дефектный кристалл по сравнению с иде­ альным обладает, таким образом, активностью Ат, которая при температуре Т термодинамически определяется выра­ жением

A t = Z* — Zt ,

 

 

(3.2)

где Z* и ZT — свободные энтальпии идеального и возбужден­

ного кристаллов при температуре Т.

 

 

 

Учитывая, что Z* AHt — TASt, из

(3.1),

(3.2)

получаем

т,

 

т

 

 

Ат = (Но Н0) J(Cl -

Ср) dt — T ^Sj + j*

(Cp~

Cll) ) dt,

о

 

0

 

(3.3)

 

 

 

 

где H0 и Но —энтальпии

возбужденного

и идеального кристал­

лов при абсолютном нуле.

 

 

 

 

Приближенное численное решение такого рода уравнений показывает, что активность, вызываемую сильной разупорядоченностыо вещества, следует непременно учитывать при расчете равновесия всех возможных реакций: структурных (релаксационные, рекристаллизационные) и фазовых (поли­ морфные и прочие) превращений, реакций химического типа (взаимодействие с реакционноспособными газами и жидко­ стями) и т. д.

Поскольку в общем случае мера повышенной свободной энергии возбужденного кристалла определяется величиной термодинамического пересыщения, пропорционального актив­ ности А, то термодинамическое пересыщение при кристалли­ зации может служить косвенной характеристикой активности тонких пленок. Однако отметим, что для пленок, получаемых при высоких температурах подложки, начальная их актив­ ность, определяемая главным образом величиной AZш может несколько отличаться от их 'Конечной, послекристаллизациоиной активности. Подобный эффект возможен вследствие того, что во время кристаллизации при высоких Тп и охлаждении пленок после конденсации в них могут интенсивно протекать вторичные релаксационные процессы, приближающие состоя-’

96

ние структуры к более равновесному. Аналогичная ситуация возникает при любой термообработке пленою, когда вслед­ ствие отжига происходит изменение свободной энтальпии. В подобном случае конечную термодинамическую активность пленок следует определять экспериментально. Так, в частно­ сти, в соответствии с работой [192] такого рода термодина­ мической характеристикой может служить коэффициент ак­ тивности ае, определяемый электрохимическим методом.

Активное состояние при предельном отклонении от состоя­ ния идеального кристалла можно представить как суммарный результат действия нарушающих факторов. Такими фактора­ ми в пленках являются увеличение поверхности (дисперсность микроструктуры, изменение ее геометрических характери­ стик), высокая концентрация дислокаций, точечных и прочих дефектов, деформация решетки, наличие внутренних напря­ жений различных типов, возникновение метастабильных и посторонних фаз, пустот, преимущественных кристаллогра­ фических ориентировок и т. д.

Рассмотрим основные особенности перечисленных пара­ метров неравновесного, активного состояния пленочной струк­ туры и их связь с термодинамическим пересыщением, при ко­ тором происходит кристаллизация пленок.

§ 1. Микроструктура беспримесных тонких пленок

Если исходить из позиций общих закономерностей роста кристаллов, то следует предположить, что протекание про­ цесса кристаллизации на аморфной подложке в условиях высокого термодинамического пересыщения должно сопро­ вождаться возникновением мелкокристаллитной дисперсной структуры пленок вследствие зарождения большого числа центров кристаллизации. При некотором предельном увели­ чении степени термодинамического пересыщения величина зерна может стать столь малой, что в пленке практически воз­ никает квазиаморфное состояние. Заметим, что для металлов с незначительной вязкостью такое состояние наступает при весьма низких температурах подложки.

В общем случае величина зерна определяется главным об­ разом величиной объемной свободной энергии Гиббса:

AZv = AS-AT,—

nr3 = —

АТ.— nr3,

3

Ts

3

в то время как влиянием поверхностной составляющей сво­ бодной энергии в данном случае можно пренебречь.

Следовательно, в качестве фактора,, управляющего гео­ метрическим размером микроструктуры кристалла, может

7. С. В. Сухвало

97

 

быть .принята величина термодинамического пересыщения

A Z n = A S - A T = — АТ. В соответствии со сказанным величина

^ s

зерен будет определяться не только температурным пере­ охлаждением, но н изменением энтропии AS или скрытой теп­ лоты кристаллизации L. Весьма характерным эксперимен­ тально обнаруженным [24] примером, подтверждающим по­ добную закономерность, является различие в величинах зерен пленок серебра и золота, напыленных при одинаковых техно­ логических условиях. Как известно, температуры плавления серебра и золота сравнительно близки, однако вследствие того, что величина энтропии плавления у золота больше, чем у серебра, AZa при кристаллизации пленок серебра меньше, чем при кристаллизации пленок золота при малоразличающихся АТ в обоих случаях. Вместе с тем следует иметь в виду возможность снижения AZa в пленках серебра вследствие влияния остаточных газов. Эти обстоятельства обусловливают большую дисперсность микроструктуры в случае пленок Аи.

Геометрические параметры зерен зависят не только от термодинамического пересыщения, но и от кинетических па­ раметров кристаллизационного процесса, в том числе от мо­ дифицирующего влияния подложек, примесей и дисперсных частиц, зерен второй фазы при гетерогенной структуре, дей­ ствия всевозможных вибраций и т. д. Поэтому необходимо учитывать, что кристаллизация может развиваться путем са­

мопроизвольного (т. е.

термодинамически обусловленного)

и несамопроизвольного

зародышеобразования. Самопроиз­

вольное зародышеобразование зависит исключительно от сте­ пени термодинамического пересыщения. Факторы, способ­ ствующие несамопроизвольному зародышеобразованию, т. е. возникновению центров роста при переохлаждениях, значи­ тельно меньших, чем термодинамически необходимо, чрезвы­ чайно разнообразны. Все они способствуют главным образом

измельчению зерна. В общем случае размер его зависит от

термодинамического пересыщения и количества зародышей, возникающих вследствие несамопроизвольной кристалли­ зации.

Очевидно, что закономерности, управляющие размером зерна при изменении кристаллизационных параметров, наи­

более просты и однозначны при кристаллизации

пленок в

условиях сверхвысокого вакуума, исключающих

какое-либо

изменение состава и модифицирующего влияния

примесей.

В подобном случае при анализе микроструктуры пленок до­ статочно учитывать только АТ.

На рис. 20 (кривая 3) приведены данные о закономерно­ сти изменения величины зерна пермаллоевых пленок в функ-

'38

цин Тп в условиях сверхвысокого вакуума [193]. Легко ви­ деть, что размер зерен при увеличении Тп (или уменьшении АТ, поскольку в этом случае Ts не изменяется) линейно воз­ растает.

Согласно общеизвестным данным, в зависимости от пере­ охлаждения происходит изменение формы зерен от равноос­ ных три незначительном АТ до сферолитных при более высо­ ком АТ. Промежуточными между равноосной и сферолитной формами зерен являются полосчатая, ячеистая и дендритная

Рис. 20. Зависимость размера зерен в никелевых (I) [24] и пермаллоевых пленках, напыленных в вакууме 10-5 (2), 10~8— 10-9 мм рт. ст. (3) [193].

Штриховой линией обозначено предполагаемое продолжение кривой /

формы. По-видимому, при сверхвысоких переохлаждениях наиболее вероятной должна быть сферолит.ная структура, отличающаяся неупорядоченностью, повышенной пористо­ стью и искаженностыо формы. Для сплавов металлургическо­ го происхождения в этом плане уже получено немало экспе­ риментальных доказательств.

Нет оснований считать, что перечисленные типы микро­ структуры не реализуются в пленках. Вместе с тем ввиду сверхвысоких скоростей охлаждения материала, поступающе­ го к фронту роста, нельзя не учитывать, что процесс пленоч­ ной кристаллизации является существенно неравновесным. Это обусловливает специфические особенности геометриче­ ских форм и параметров микроструктуры пленок при любом конкретном переохлаждении. Можно, в частности, ожидать минимальную разветвленность дендритов, сглаживание рез­ ких различий между равноосными, ячеистыми зернами и дендритами и ряд других аномальных отклонений в росте крис­ таллитов. Необходимо отметить, что наиболее аномальной должна быть микроструктура у пленок, полученных при высо­ ких переохлаждениях, в особенности при реализации кристал­ лизационного процесса по механизму ПК. К сожалению, дета­ ли подобной микроструктуры для пленок железо-никель-ко- бальтовых сплавов не известны, так как экспериментально

99

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ