книги из ГПНТБ / Монокристаллы молибдена и вольфрама

= га 'э 0 ;--- '

■Ѳ- к 3 - а. •

£ =

1§"!*I

ио га

8 S ™о

â g §Х

ä п о I

&S.S«,

- ю а

о

erf 5?

= а. I

<у о

ч с

ч £ С Л

Фото 3. Монокристаллы молибдена (а) и вольфрама (б), рост которых происходил в условиях резкой асимметрии нагрева; монокристалл вольф­ рама с обнаженной поверхностью фронта кристаллизации (в), его попе­ речное сечение (д), монокристалл с линейной полосчатостью на боковой поверхности (г),^ эллипсообразная форма сечения (е) монокристаллов

вольфрама (Х5).

Фото 4. Периферийное наращивание диаметра монокристаллов молибдена в случае асимметрично­ го нагрева (в) и при помощи конусного катодного узла с симметричным петлевым катодом (з); формирование стабильной и симметричной зоны (б), конусным катодным узлом с петлевым като­

дом (Х5).

Фото 7. Бсрограммы:

а—с плоскости (100) монокристалла мо­ либдена (направление роста [100]); о—с плоскости (100) монокристалла молибдена (направление роста [111]); о—с плоскости

(111) монокристалла молибдена (направление поста 1111]).

Фото 8. Обнаженная поверхность фронта кристаллизации молибдена (а), ячеистая примесная субструктура поверхности фронта кристаллизации молибдена (б), то же—в поляризо­ ванном свете (в); а —Х4: б, в—х250.

Фото 9. Дендритная примесная суб­ структура поверхности фронта крис­ таллизации молибдена:

а—обнаженная поверхность фронта: б. о— дендритные субструктуры (д—Х5. /7—Х250.

я_Х400).

влияние конвективных потоков в зоне расплавленного молибтспа на распределение элементов примесной субструктуры поверхности фронта кристаллизации (б, я); а, е—Х250; б—ХІО.