Добавил:
Upload Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Скачиваний:
35
Добавлен:
10.02.2015
Размер:
409.86 Кб
Скачать
f0 E :

3.Статистика электронных состояний.

Вразделе 2 были определены возможные в кристалле электронные состояния:

блоховские состояния, волновые функции и закон дисперсии для них, зоны разрешенных энергий, а также примесные состояния. Далее мы будем говорить о том, как заполняются эти состояния. При этом мы должны соблюдать два правила. Согласно принципу Паули каждое электронное состояние может быть занято не более чем двумя электронами

(различающимися по проекции спина) и в первую очередь заполняются состояния с минимальной энергией.

Функция плотности состояний.

Концентрация электронов и дырок в зонах.

Прежде всего, введем функцию плотности состояний в пределах зоны разрешенных

энергий.

Вблизи дна зоны проводимости, с законом дисперсии E k Ec

 

2k 2

2m , эта

функция,

g E , определяется соотношением:

 

 

 

 

 

dz g E dE ,

(3.1)

 

 

 

где dz

- число электронных состояний, энергии которых

заключены

в

интервале

E E dE . С другой стороны, это число равно удвоенному (спиновое вырождение!) числу блоховских состояний в объеме k - пространства, заключенного между двумя сферическими

изоэнергетическими поверхностями с энергиями E и E dE и радиусами

k и k dk ,

соответственно. С учетом того, что на

одно блоховское состояние в k -

пространстве

приходится объем 2 3 V , получим

dz 2 4 k 2Vdk 2 3 .

Переходя

в последнем

выражении к переменным энергии, и сопоставив полученный результат с (3.1), получим:

g E 4 V 2m*

h2 3\2 E Eс 1\2 .

(3.2)

 

Для определения концентрации электронов (их числа в единице объема) необходимо функцию плотности (при V 1) интегрировать по энергии в пределах зоны проводимости с учетом вероятности заселения электронных состояний согласно равновесной функции распределения Ферми

 

Emax

 

 

n

c

g E f0 E dE Nc F1\2 ,

(3.3)

Ec

Функция f0 E определяет вероятность заполнения уровня энергии E при температуре T ,

 

 

1

.

(3.4)

f0 E exp E F

kT 1

 

F - уровень Ферми, символ k перед T впредь будет определять постоянную Больцмана.

1 f0 (E)

kT

1/2

 

 

F

Ec

E

 

Интегрирование в (3.3) от дна зоны проводимости

 

 

E

до ее максимальной энергии Emax ,

 

 

 

 

 

 

c

 

c

которую мы заменим на , поскольку значение

f

0

E при E Emax

практически равно

 

 

 

 

 

c

 

нулю. Интеграл Ферми-Дирака F1\2 , введенный в (3.3), имеет вид:

 

 

 

 

 

 

 

 

1 1\2d , (3.5)

 

F

2 1 2

exp

1

 

1/ 2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

где переменной интегрирования является приведенная энергия E Ec kT и введен

F Ec kT - приведенный уровень Ферми. Постоянную

Nc

называют приведенной

плотностью состояний,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Nc 2

 

2 m*kT 3\2

2,5 1019

m* 3\2

T

3\2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

.

(3.6)

h

2

 

 

 

 

 

 

 

m0

 

300

 

 

Интеграл Ферми-Дирака может быть упрощен для значений 1 . В этом случае под

интегралом в (3.5), в квадратных скобках, можно пренебречь единицей во всем интервале

 

 

 

 

 

 

интегрирования. Интеграл 2 1\2 exp 1\2d 1 - табличный, и поэтому:

 

0

 

 

 

 

n

Nc exp Nc e

Ec F

/ kT

.

(3.7)

 

 

Условие F Ec

kT 1 означает, что уровень Ферми F лежит в запрещенной

зоне, ниже дна зоны проводимости Ec , по крайней мере, на величину kT (см. Рис.3.1). Этот

случай известен как невырожденное распределение электронов в зоне проводимости.

Концентрация дырок (электронных вакансий в валентной зоне) определяется по аналогии с

(3.3) и (3.5):

E

 

 

 

 

p v

g p E 1 f0

E dE Nv F1/ 2 i ,

(3.8)

 

 

 

 

 

здесь введена функция распределения дырок

 

 

 

 

1

 

1

f p E 1 f0 E exp F

E kT 1

exp p

i 1

с p Ev E kT , i Ec Ev kT ,

и функция плотности дырочных состояний с mv* - эффективной массой дырок:

g p E 4 V

2mv

 

h2 3/ 2 Ev E 1/ 2 .

 

 

 

(3.9)

При условии i 1

или F Ev

kT (невырожденное распределение дырок) (3.8)

сводится:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

p Nv exp i Nv exp F Ev

kT .

 

 

 

(3.10)

 

 

2 mv*kT 3\2

19

mv* 3\2

T

3\2

Nv 2

 

 

 

 

 

2,5 10

 

 

 

 

 

 

 

h

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

m0

 

300

 

В полупроводнике, находящемся в состоянии равновесия, оба выражения (3.7) и (3.10)

контролируются одним и тем же уровнем Ферми

F . Поэтому, если полупроводник слабо

легированный, произведение (3.7) и (3.10) сводится к выражению (закон действующих масс):

n p N

e N

e i N

N

e i .

(3.11)

c

v

c

v

 

 

Т.е. это произведение концентраций электронов и дырок (при выполнении условия слабого легирования) зависит только от ширины запрещенной зоны и не зависит от степени легирования и характера легирования (донорами или акцепторами) полупроводника.

Выражения (3.3), (3.7) и (3.8), (3.10) показывают, что положение уровня Ферми относительно дна зоны проводимости и потолка валентной зоны является своего рода индикатором значения концентрации носителей в зонах. Это будет использовано нами в Разд. 7 при формулировке концепции квазиуровней Ферми.

Статистика примесных состояний.

Доноры, как мы видели в разделе 2, приводят к образованию примесных уровней Ed .

При абсолютном нуле все электроны находятся на этом уровне, т.е. концентрация связанных

на уровне Ed электронов равна nd Nd (случай однократной ионизации доноров), где Nd -

концентрация донорной примеси. С повышением температуры происходит ионизация

примесного уровня, т.е. становится отличной от нуля концентрация дырок pd

на примесном

уровне. При произвольной температуре должно выполняться соотношение

Nd pd

nd .

Отношение концентраций

pd

и nd определяется соотношением:

 

 

n

p

g exp E

F / kT .

(3.12)

 

 

d

d

 

d

 

 

 

 

Коэффициент вырождения g связан с тем, что состояние

Ed , занятое электроном,

имеет

двукратное вырождение по спину, тогда как дырочное состояние (отсутствие электрона) не вырождено. Далее находим:

 

 

 

n ge Ed F / kT N

d

n

,

 

 

 

d

 

d

 

 

nd

Nd

g 1 exp Ed

F kT 1

(3.13)

 

 

Nd

g 1 exp d

1 ,

 

 

 

 

 

 

 

 

и pd

Nd

g exp d 1 ,

 

 

(3.14)

где d

Ec Ed kT .

 

 

 

 

 

Акцепторная примесь порождает примесный уровень Ea (связанная дырка). Степень заполнения этого уровня характеризуется концентрациями pa и na , при этом na pa Na

- концентрация акцепторных примесей.

Зависимость уровня Ферми от температуры в полупроводниках.

Условие термодинамического равновесия в электронной подсистеме полупроводника выражается в том, что все концентрации n, p, pd ,na , полученные ранее, контролируются одним и тем же уровнем Ферми F . Следовательно, равновесное значение этого параметра может быть определено из условия электронейтральности среды, n na p pd . В случае собственного полупроводника имеем n p или:

Nc exp Nv exp i ,

откуда следует:

 

 

 

 

F Ec Ev

2 kT

2 ln Nv

Nc .

(3.15)

Перепишем электронную концентрацию с учетом (3.15):

Nc exp Nd g exp d
n pd :

n Nc exp Ec F kT Nc Nv 1 2 exp EA kT ,

где введена энергия активации EA Ec Ev 2 , характеризующая экспоненциальную зависимость концентрации n от обратной температуры.

Рассмотрим теперь примесный (донорный) полупроводник. При достаточно низких температурах межзонная генерация неэффективна и электроны в зоне проводимости появляются благодаря ионизации доноров. Электронейтральность в этих условиях выражается условием

1 1 . (3.16)

А) Рассмотрим это выражение при таких низких температурах, когда лишь небольшая часть доноров ионизована, т. е. когда exp d 1. Тогда в знаменателе правой части

(3.16) единицу можно отбросить

exp 2 N

d

gN

c

1 exp

d

,

 

 

 

 

 

 

 

 

откуда легко получить поведение уровня Ферми для рассматриваемых температур:

FdA Ec Ed 2 kT

2 ln Nd gNc 1 .

(3.17)

Выражение под логарифмом обычно меньше

единицы,

т.е.

F A

убывает линейно с

 

 

 

 

 

 

 

d

 

температурой. Этот режим известен как режим ионизации примесей. Зависимость концентрации электронов от температуры равна:

n Nc exp Ec FdA

kT Nc Nd g 1

1 2 exp EAd

kT ,

т.е. она определяется энергией активации Ed

E E

 

2 .

 

 

A

c d

 

 

 

B) Температура выше, чем в случае А), но в то же время достаточно низкая; при этом все доноры ионизованы, но межзонная генерация все еще не эффективна. В этом случае n Nd , т.е. знаменатель в правой части (3.16) равен единице. Находим:

n N

exp N

,

F B E kT ln N

d

N

. (3.18)

c

d

 

d c

c

 

Это опять линейно убывающая функция температуры и, легко показать, энергия активации равна нулю.

n Nc exp Ec FdB kT Nd .

Данный температурный диапазон называется областью истощения примесей.

Таким образом, в области температур 0 T TS идет ионизация примесей (зависимость

(3.17)), а при TS T Ti -

ионизация примесей

прекращается (истощение примесей) -

зависимость (3.18). При

температурах T Ti

становится эффективным межзонное

возбуждение носителей и система далее ведет себя как собственный полупроводник.

Характеристические температуры TS , Ti определяются приравниванием (3.17), (3.18), и (3.18), (3.15), соответственно.

Ec Ed

 

1

 

 

Nd

 

Ec

kTS

 

Nd

 

kTS

ln

 

ln

,

 

 

 

 

2

 

2

 

gNc

 

 

 

Nc

 

 

 

Nd

1/ 2

 

Nc

 

 

Ec Ed

 

 

 

 

 

 

 

 

Ec Ed

 

 

 

 

 

 

kTS

ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

, TS

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

gNc

 

Nd

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

1/ 2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Nc

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2k ln

 

Nd

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

gNc

 

 

 

Nd

 

 

 

 

 

Ec Ev

 

 

 

kTi

 

 

Nv

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Nd

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ln

 

 

Ec kTi ln

,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Nc

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

Nc

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Nv

1/ 2

 

Nc

 

Ec Ev

 

 

 

 

 

 

Ec Ev

 

 

 

 

 

 

 

 

kTi ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

, Ti

 

 

 

 

 

 

 

.

 

N

 

 

N

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1/ 2

 

 

 

c

 

d

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Nv

 

 

 

Nc

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2k ln

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Nc

 

 

Nd

 

; (3.19)

(3.20)

Температура TS , при которой доноры уже истощены, а ионизация валентной зоны еще не эффективна, равна 30 К и 40 К для Ge и Si, соответственно. В то же время Ti -

температура, при которой электронная концентрация начинает возрастать благодаря ионизации валентной зоны, равна 450 К и 680 К для Ge и Si. Таким образом, мы видим, что в указанных полупроводниках экспоненциальная зависимость концентрации носителей от температуры не имеет места в широком диапазоне температур. Схематически зависимость концентрации электронов в зоне проводимости донорного полупроводника показано на Рис.

3.2.

Электронная концентрация в металлах. Зависимость уровня Ферми от температуры.

При анализе концентрации электронов в металле мы считаем, что концентрация электронов в зоне проводимости постоянная, т.е. она от температуры не зависит (в случае полупроводников это не так). Для концентрации электронов справедливо выражение (3.3),

которое мы перепишем положив Ec

0 :

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n g E f0

E dE .

(3.21)

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

F 0

При T 0

это выражение может быть переписано

как n

g E dE . Последним

 

 

 

 

 

0

равенством

определяется F 0

-

уровень Ферми при

T 0 ,

соответствующий данной

концентрации n . При T 0 (3.21)

перепишем, пользуясь формулой интегрирования по

частям:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n g E f0

E dE G E

f0 E

 

0 G E f0

E

E dE , (3.22)

 

0

 

0

 

 

E

где G E g(E)dE , а f0 E E - обладает свойством дельта функции (Рис.3.3).

0

Дальше используется разложение G E в ряд Тейлора в точке F :

 

G E G F E F G E F

 

1

E F 2

G E F

, (3.23)

2

 

 

 

 

 

и полученный ряд подставляется в (3.22), под интеграл. Результат имеет вид:

n G F 1 2 kT 2 g

6 E

F ,

(3.24)

где принято во внимание, что линейный член разложения (3.23) при интегрировании дает нуль, а квадратичный член, приводит к результату:

dgdE F 1 2 E F 2 f0 E E 2 kT 2 6 dgdE F .

0

Перепишем (3.24), вводя F 0 :

F 0

 

 

F

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

g

 

 

 

 

 

g E dE g E dE

2

kT 2

 

 

F

 

 

6

E

0

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

F 0

E F F 0 F

1

 

 

 

 

 

g

 

g E dE g

2 kT 2

 

 

 

 

 

E F

F

 

 

 

 

 

 

 

6

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

F F 0

1

kT

2 ln g E

 

 

 

F . (3.25)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

6

 

E

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Изменение уровня Ферми с температурой в металлах не связано с изменением концентрации электронов. Это есть результат расширения переходной (от 1 к 0) области функции распределения Ферми (Рис.3.4).

g(E)

g(E)

Электронная теплоемкость.

Средняя энергия электронов проводимости равна:

 

 

 

E el Eg E f0

E dE g, E f0

E dE . (3.26)

0

0

 

Этот интеграл можно вычислить тем же методом, что был использован выше, заменив g E g, E Eg E :

 

 

 

 

F

 

1

 

 

 

 

d g E E

 

 

 

 

 

E el Eg E dE

2k 2T 2

.

(3.27)

 

 

6

 

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

dE

 

 

 

E F

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Отсюда можно получить электронную теплоемкость:

 

 

 

 

 

 

 

 

d E

el

 

 

 

dF

 

 

 

 

 

1

 

 

 

dg E

 

 

 

CVel Fg F

 

 

 

 

 

2 2k 2T F

 

 

 

 

 

g F ,

 

dT

dT

 

6

 

 

dE E F

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

1

 

 

 

 

* 3 / 2

 

 

 

CVel

2k 2Tg F

 

 

 

2k 2T 4

2m

 

 

F1/ 2 .

(3.28)

 

 

 

 

 

2

 

 

 

 

3

 

3

 

 

 

h

 

 

 

 

 

 

CDреш.

Сравним эту величину с теплоемкостью, записанной на основе классических

соображений, т.е. энергия единицы объема классического электронного газа равна концентрации n умноженной на 3kT2 , откуда:

CVel

classic

3kn 2 3k 2 4 2m 3 2 F 3 2 2 3h3 ,

 

n 4 2m 3 2 F 3 2 2 3h3 .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Найдем отношение

 

 

 

 

 

 

 

 

Cel

 

kT

 

 

 

 

 

V

 

2

 

10 2 .

 

 

 

 

 

CVel

3F

 

 

 

 

 

classic

 

 

 

 

 

Отличие

теплоемкости электронов

в металле Cel

от

классически ожидаемого ее

 

 

 

 

 

 

 

V

 

 

значения объясняется вырождением электронного газа. Это означает, что в процессах обмена энергией участвуют только электроны, энергии которых расположены вблизи уровня Ферми в пределах kT , тогда как электроны, расположенные достаточно далеко от F (более чем на kT ), в этих процессах не участвуют (см. рис.3.4).

Интересно также сравнить электронную теплоемкость с решеточной теплоемкостью

при низких температурах , что будет сделано в Разд.5.

1 f0 (E)

kT

1/2

F

Ec

E

Рис. 3.1.

Рис. 3.2.

g(E)

Рис. 3.3.

g(E)

Рис. 3.4.

Соседние файлы в папке ФТТ_Садыков_13-14