Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Основы оптоэлектроники.-1

.pdf
Скачиваний:
23
Добавлен:
05.02.2023
Размер:
644.5 Кб
Скачать

того, что исходное выражение для ВАХ p-n перехода не дает экспоненциальной зависимости тока в этой области напряжений. Поэтому для запирающих напряжений дифференциальное сопротивление обычно вычисляется по (43), когда V0 0:

R

kT .

(44)

d

qIоб

 

 

 

Таким образом, величина дифференциального сопротивления

p-n пере-

хода при выбранном значении постоянного напряжения на нем V0 определяет-

ся в первую очередь значением обратного тока, а также величиной приложенного к переходу постоянного напряжения.

Следующим важным параметром, характеризующим электрические свойства p-n перехода, является его дифференциальная емкость C . Физически эта емкость образована n- и p- областями (их можно рассматривать как обкладки плоского конденсатора), разделенными i-слоем толщиной W , в котором проводимость равна собственной (его можно рассматривать как слой диэлектрика между обкладками конденсатора). Эта емкость называется барьерной. Величина барьерной емкости единичной площади определяется концентрациями донорной Nd и акцепторной Na примесями в n- и p- областях соответ-

ственно, высотой потенциального барьера на границе раздела областей разного типа проводимости б , а также величиной напряжения на переходе V , сме-

щающего его в прямом (проводящем) направлении:

C

0

 

q 0

 

Nd Na .

(45)

 

W

 

2 б V

 

Nd Na

 

Здесь разность потенциалов между n- и p-областями перехода определяет высоту потенциального барьера между областями перехода и определяется следующим образом:

 

 

 

 

 

 

 

б

кT ln

Nd Na .

 

 

q

 

2

 

 

 

 

 

ni

 

Как и всякий электронный прибор, в котором имеется перенос носителей заряда через область их регистрации, p-n переход должен обладать некоторой инерционностью по отношению к внешнему воздействию. Это означает, что при подаче на него переменного напряжения различной частоты p-n переход может не успеть отреагировать на него, если частота напряжения высока и превышает некоторый характеристический параметр, определяемый параметрами p-n перехода, или успевать, если частота внешнего воздействия мала. Этим характеристическим параметром является время перезарядки его емкости C . Для исследования частотных свойств p-n перехода его необходимо включить в прямом или запорном направлении и приложить синусоидальный сигнал с малой амплитудой, обычно не превышающей напряжение постоянного смещения на переходе. Изменяя частоту синусоидального сигнала от меньшего значения к большему, с помощью

31

квадратичного детектора определяется амплитуда переменного напряжения Uн, снимаемого с сопротивления нагрузки Rн. Из полученной частотной зависимости U н f определяется частота, на которой падение переменного напряжения

на сопротивлении нагрузки уменьшится в 2 =1.41раза по сравнению с его значением на низких частотах, например, на частоте 10 Гц. Частота, на которой амплитуда синусоидального напряжения уменьшается в указанное число раз, называется частотой среза - fср. Из найденного таким образом значения частоты среза определяют время релаксации заряда в переходе:

p n

1 .

(46)

 

fср

 

С другой стороны, поскольку перезарядка емкости C p-n перехода физически осуществляется через его дифференциальное сопротивление Rd , то вре-

мя перезарядки может быть найдено из выражения:

p n C Rd .

(47)

Следовательно, если известны значения емкости и дифференциального сопротивления перехода, то имеется возможность вычислить время перезарядки и сравнить его с экспериментально найденным значением времени релаксации p-

nперехода.

Сфизической точки зрения время релаксации перехода равно времени жизни неравновесных носителей заряда в p-n переходе. По его величине можно определить, например, инерционность фотоприемного устройства на основе барьерной фотоэдс p-n перехода.

Величина барьерной фотоэдс p-n перехода на низкой частоте при напряжении на переходе V0 0 определяется следующим выражением:

U

 

 

kT

 

 

 

iфт

 

kT

i

,

(48)

p n

 

ln 1

 

 

 

 

 

q

 

 

 

 

 

 

q Iоб

фт

 

 

 

 

 

 

 

 

Iоб

 

 

 

 

где предполагается, что I

об

i

;

i

 

q 1 R Pпад - фототок,

т.е. ток,

 

 

 

фт

фт

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

образованный неравновесными носителями заряда при 100%-ном поглощении в полупроводнике оптической мощности 1 R Pпад . Здесь Pпад - мощность

оптического излучения, падающая на полупроводник, R - коэффициент отражения света от поверхности полупроводника, 0 б V б и 0 0.05.

4.2 Примеры решения задач по определению параметров фотоэлектрических эффектов в полупроводниках

Задача 1. Определить величину фотопроводимости кремниевого образца размерами 1 1 5 см3 при его освещении оптическим излучением интенсив-

ностью I0 1012 квант/(см2 с) из собственной полосы поглощения в предпо-

32

ложении, что квантовая эффективность излучения составляет 106 см 1, а частота модуляции гармоническим сигналом составляет f 105 Гц.

Считать, что освещение проводится с широкой стороны образца, а регистрирующие контакты припаяны к узким торцам.

Решение. В данной задаче необходимо определить изменение проводимости всего образца под действием оптического излучения, а не единичного объема, как это рассмотрено в курсе лекций. Поэтому выразим изменение проводимости всего образца, если известно изменение удельной проводимости. Пусть рассматриваемый образец имеет длину L в направлении протекания тока и площадь омических контактов к образцу S и удельную проводимость . Если при освещении удельная проводимость изменяется на величину , то изменение проводимости всего образца будет равно

G S .

(49)

L

 

Именно это выражение определяет искомую неизвестную величину, в котором изменение удельной проводимости есть удельная фотопроводимость. Последняя величина определяется выражением (37), в котором неизвестными величинами являются скорость генерации неравновесных электронов и дырок, а также время релаксации фотопроводимости. Используем выражение для вычисления времени релаксации фотопроводимости:

фп

n p n p

,

n p p n

 

 

в котором все величины являются справочными (см. Приложение к данному учебно-методическому пособию). Подставив справочные значения подвижно-

стей электронов и дырок, а также времен их жизни ( n p 10 3c ), получим:

фп

 

n

 

p

 

n

 

p

 

n

 

p

10 3

3c.

 

 

 

 

 

 

10

 

 

n p p n

 

 

 

n

p

 

Следующим шагом определим скорость генерации неравновесных носителей заряда с учетом коэффициента отражения излучения от поверхности кремния

n 1

2

 

Si

1

 

2

R

 

 

 

 

.

n 1

 

Si

1

 

 

 

 

 

Подстановка в данное выражение значения относительной диэлектрической проницаемости кремния дает следующее значение коэффициента отражения

 

11.7 1

2

 

3.4 1

2

 

2.4

2

R

 

 

 

 

 

 

 

0.25.

 

11.7 1

 

3.4 1

 

 

4.4

 

 

 

 

33

Скорость генерации неравновесных носителей заряда - число электроннодырочных пар, генерируемых в единицу времени в единичном объеме, равна

g 1 R I0 0.5 106 0.75 1012 3.75 1017 пар/ c .

Теперь найдем фотопроводимость единичного объема

 

q n p g

фп

 

1.6 10 19

1450

480 3.75 1017 10 3

 

1 2 фп2

 

 

1 4 2

1010 10 6

 

 

 

 

 

1.6 1.2 0.6 102 10 4

1.05 10 1

2.7 10 7 Ом 1 см 1.

 

 

1 4 10 104

 

 

4 105

 

 

 

Здесь максимальное значение фотопроводимости, достигаемое на низкой час-

тоте модуляции, равно 1.05 10 1 Ом 1см 1, что видно по значению числителя выражения. Отличный от единицы знаменатель указывает на проявление инерционности полупроводника. Резкое снижение значения фотопроводимости на заданной частоте связано с высокой частотой модуляции излучения (см. знаменатель выражения) по сравнению с частотой среза.

Фотопроводимость образца будет определяться удельной фотопроводимостью и размерами образца согласно выражению (49)

G

S

3

10

7

 

1 1

6 10

8

Ом

1

.

L

 

5

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Таким образом, ответ на поставленный вопрос таков: фотопроводимость кремниевого образца размерами 1 1 5 см3 при освещении высокочастотным

модулированным излучением с широкой стороны образца равна 6 10 8 Ом 1.

Влияние толщины фоторезистора

Реальные фоторезисторы могут иметь толщину в направлении падающего излучения до сотен микрон. Поскольку слой поглощения излучения имеет толщину не более долей микрона (его сопротивлениеRl ), то необходимо уста-

новить роль оставшегося без неравновесных носителей слоя полупроводника на формирование фотопроводимости (его сопротивление RT ). Описывающие

эти слои сопротивления RT и Rl включены параллельно. Пусть освещение полупроводникового фоторезистора изменяет сопротивление освещенного слоя

Рисунок 2 - Освещенная и темновая области фоторезистора

34

на величину Rl . Найдем полное сопротивление фоторезистора с учетом обоих областей:

 

 

R R

 

 

RT R0

Rl

 

 

RT R0 1

 

Rl / R0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T l

 

 

 

 

 

l

 

RT

 

l

 

l

R0

 

 

 

 

R

RT Rl

RT R0

Rl

R0

1 Rl / RT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

l

 

 

 

l

 

 

 

 

l

 

 

 

 

 

 

 

R R0

 

 

 

R

 

R R0

R R0

 

 

R

 

R

 

 

 

 

T

l

 

 

 

 

 

T

l

 

 

T

l

 

 

 

 

 

RT

 

 

 

l

 

 

 

RT

 

 

l

 

l

 

R0

1 R0

1 Rl / RT

R0

R0

1

 

RT

R0

 

R0

.

 

 

 

 

l

 

 

 

l

 

 

 

 

 

l

 

 

l

 

 

 

l

 

l

 

 

 

 

 

 

 

 

 

R

R

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

T

 

l

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Обозначим: Rфр RT

R0 . Тогда

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

l

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

R

 

R0

 

 

R

 

 

 

 

 

 

 

R0 R R0

 

 

 

0

 

 

 

T

l

 

 

 

 

0

 

 

 

 

l

T

 

l

 

 

 

 

 

RT

 

 

 

l

 

 

 

 

RT

 

 

R R

 

R

R0

1 RT

R0

Rl / Rl

 

Rфр

1

 

R0

R0 Rl

.

 

 

 

 

 

 

 

l

 

 

 

 

l

 

 

 

 

 

 

l

 

 

l

 

 

Отсюда найдем переменную составляющую сопротивления фоторезистора:

 

 

 

 

 

 

 

RT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

RT

 

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Rl

 

 

R Rфр

 

R0

RT

R0

Rl

Rфр

 

R0

RT

R0

R0

 

Rl

 

 

 

 

 

 

l

 

l

 

 

 

 

 

 

 

l

 

 

 

 

 

 

l

 

l

 

.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Rфр

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

R

 

 

 

R2

 

 

 

 

 

R R

 

 

 

R

 

 

 

Rфр

 

 

 

 

 

 

 

2

 

 

 

2

 

 

 

 

 

0

 

 

 

l

 

 

 

 

фр

 

 

0

l

фр

 

0

фр

 

R

 

 

R

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Rl

 

 

 

 

 

 

Rl

 

 

 

 

 

 

 

l

 

 

l

 

 

 

Окончательно имеем:

R Rфр Rфр Rl .Rl0 Rl0

Исследуем эту зависимость на экстремум по отношению Rфр / Rl0 . Перепишем его в виде

 

 

 

 

 

 

R

 

 

RT R

0

 

2

 

 

R

 

 

 

1

 

 

2

R R

 

 

Rфр

 

 

 

 

 

 

 

R .

 

 

 

 

l

 

 

l

 

 

l

 

 

 

 

 

фр

 

 

 

R0

 

 

R0

R

 

 

 

 

R02

 

 

1

R0

/ R

 

l

 

 

 

R0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

l

 

l

 

 

l

 

T

 

 

 

l

 

 

 

l

T

 

 

 

 

 

 

 

1

 

2

 

 

 

 

1

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

R

 

 

 

R

 

 

 

R

 

F x R .

 

 

 

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

/ RT

 

 

l

1

x

 

 

l

 

 

 

l

 

 

 

 

 

 

1 Rl

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Исследование функции F(x) на экстремум приравниванием её производной к нулю показало, что она не имеет экстремума. Её наибольшее значение, равное

единице, достигается при x Rl0RT 0. Это означает, что RT Rl0 .

35

Из приведенного рассмотрения следует вывод: для изготовления высо-

кочувствительных фоторезисторов необходимы образцы толщиной, равной диффузионной длине неравновесных носителей заряда.

Задача 2. Определить полосу пропускания частот германиевого p-n перехода при напряжении на нем V0 0.1 В, имеющего площадь S 10 2 см2 и плотность обратного тока j0 10 6 А/ см2 . Считать уровни легирования p- и n- областей одинаковыми и равными 2.4 1015 см 3 .

Решение. Полоса пропускания – это диапазон частот, в пределах которого коэффициент передачи диода остается постоянным. Нижняя частота диапа-

зона может быть принята равной нулю, а верхняя - частоте среза fср

1 ,

 

p n

где p n C Rd - время перезарядки перехода, определяемое емкостью C и дифференциальным сопротивлением Rd . Значит, задача по определению поло-

сы пропускания сводится к задаче нахождения емкости и дифференциального сопротивления перехода диода.

Емкость перехода C определяется его площадью S и толщиной слоя собственной проводимости W и может быть найдена по выражению по выражению (45)

C

0

S

S

q Ge 0

 

Nd Na

,

(50)

 

W

 

 

 

2 б V

 

Nd Na

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

б

kT ln

Nd Na

,

 

 

 

 

 

 

q

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ni

 

 

 

 

 

где Ge - относительная диэлектрическая проницаемость германия. Подстановка численных значений в выражения (4.24) приводит к следующему результату:

 

 

 

1.38 10 23

300

 

2.4 1015

2.4

1015

 

 

б

 

19

ln

13

 

13

 

 

 

1.6 10

 

2.4

 

 

 

 

 

 

 

 

2.4 10

10

 

 

1.38 4 3 10 21 ln 10 10 1

2.3 0.2 B

1.6 10 19

 

36

C S

q Ge 0

 

Nd Na

 

 

 

 

 

 

 

2 б V

 

Nd Na

 

 

 

 

 

10

2

1.6 10 19

16 8.85 10 14

2.4 1015

 

 

2 0.2 0.1

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

10

2

1.6 1.6 8.85 1.2

10

17

 

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

10 2

1.4 10 16

1.2 10 10

Ф.

 

 

Дифференциальное сопротивление перехода в области положительных смещений определяется выражением

R

V

 

kT

 

 

qV

 

 

exp

0

,

d

0

qIоб

 

 

kT

 

 

 

 

 

где все величины табличные или легко вычисляются. Поэтому можно найти величину Rd V0 :

 

V

 

 

1.38 10

23

300

 

 

 

 

1.6 10

19

0.1

 

 

R

 

 

 

 

2

exp

 

23

 

 

d 0

 

1.6

10

19

10

6

10

 

 

1.38 10

300

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

4.2

10 21

 

 

 

 

1.6 10 20

 

2.6 106 exp 3.8 1.7 105 Ом.

 

 

 

27

exp

 

 

 

 

 

21

 

 

1.6 10

 

 

 

 

4.2 10

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Теперь можно найти время перезарядки перехода, а из него определим его верхнюю (граничную) частоту:

 

 

1

 

 

1

 

 

1

 

fср

p n

Rd C

 

1.7 105 1.2 10 10

 

 

105

 

105

5000

Гц.

 

1.7 1.2

2.0

 

 

 

 

 

 

 

 

Таким образом, ответ на поставленный в задаче вопрос таков: полоса пропускания p-n перехода, имеющего указанные параметры, равна 5000 Гц.

Задача 3. Определить величину барьерной фотоэдс кремниевого p-n перехода площадью S 4 10 2 см2 при его освещении излучением с длиной волны 0.64 мкм и мощностью Pпад 10 10 Вт, если квантовая эффективность поглощения равна 0.5 , а значения концентраций акцепторной Na и

донорной Nd примеси в областях одинаковы и равны 2 1015 см 3. Считать,

что обратный ток перехода создается диффузионным механизмом поставки неравновесных носителей заряда.

37

Решение. Исходным выражением для определения барьерной фотоэдс служит выражение (7.22)

U

 

 

kT

 

 

iфт

 

kT

i

,

p n

 

ln 1

 

 

 

 

q

 

 

 

 

q Iоб

фт

 

 

 

 

 

 

Iоб

 

 

 

в котором неизвестными величинами являются обратный ток Iоб и фототок iфт. Найдем их. Величина фототока может быть найдена из выражения

iфт q 1 R Pпад ,

а обратный ток I0 может быть вычислен по выражению

I

 

 

kT

S

b 2

 

1

 

1

 

,

об

 

i

 

 

 

 

 

 

q

 

2

 

nLp

 

 

 

 

 

 

 

 

1 b

 

 

p Ln

 

в котором все величины могут быть определены, исходя из табличных данных. Сначала определим электронную и дырочную проводимости полупроводникового образца:

n q nnn 1.6 10 19 1450 2 1015 3.2 1.4 10 1 0.45 Ом 1см 1.

p q p pp 1.6 10 19 480 2 1015 3.2 4.8 10 2 0.15 Ом 1см 1.

Далее вычислим длины диффузии носителей заряда:

L

 

kT

n

 

n

 

1.38 10 23 3001450 10 3

 

n

 

q

 

 

 

1.6 10 19

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2.6

10 2 1.45

1.9 10 1 см.

 

 

Lp

kT p p

 

 

1.38 10 23 300

480 10 3

 

 

 

q

 

 

 

 

 

1.6 10 19

 

 

 

2.6

10 2 0.48

1.2 10 1 см.

 

 

Столь высокие значения длин диффузии носителей заряда в кремнии являются следствием высоких значений времен жизни неравновесных носителей заряда. Используя данные, приведенные в Приложении к данному пособию, найдем:

38

 

 

 

kT

 

 

b 2

 

1

 

1

 

 

 

 

 

 

 

Iоб

 

 

 

 

S

 

 

i

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

q

 

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1 b

nLp

 

p Ln

 

 

 

 

 

 

kT S

 

 

n / p

 

q n

 

 

 

1

 

 

 

 

 

2

p ni 2

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

q 1 n p

 

 

 

 

nLp

 

p Ln

 

 

 

1.38 10 23 300

 

10 2

 

3

1.6

10 19

 

 

2

 

 

 

1.6

10

19

4

 

2

(1450 480) 1.4 1010

 

 

 

 

 

 

 

 

1 3

 

 

 

 

 

 

 

 

 

10

 

 

 

10

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0.45 1.9

 

 

0.15 1.2

1.6 1.93 1.4 10 6 2

 

 

 

 

 

2.6 10 2

 

4 10 2

3

 

11.7 55.6

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

16

2 67.3 2.4 10 11

 

 

 

 

 

1.95 10 2 4.3 10 6

 

А.

 

 

 

Теперь можно вычислить барьерную фотоэдс:

U p n kT

q 1

R Pпад kT

 

1 R Pпад .

q

h

c

hc

 

Iоб

 

 

Iоб

 

 

 

 

 

 

 

Фигурирующий здесь коэффициент отражения света от поверхности полупроводника равен:

n 1

2

 

Si

1

2

 

11.7

1

2

 

2.4

2

R

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

0.25.

n 1

 

 

Si

1

 

 

11.7

1

 

 

4.4

 

 

 

 

 

 

Тогда подставляя численные значения в системе СИ, найдем:

U p n

 

1.38 10 23 300

 

0.25 0.64 10 6 0.5 10 10

 

6.62 10 34 3 108

2.4 10 11

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2 10 21

0.18 10 16

 

0.1 105 3.6 10 7

0.7 10 2

7 мВ.

 

19.9

10 26

2.4 10 11

 

 

 

 

Таким образом, ответ на поставленный вопрос будет таким: при указанных условиях освещения кремниевого p-n перехода на нем появится фотоэдс величиной около 7 мВ.

4.3 Варианты заданий по определению параметров фотоэлектрических эффектов в полупроводниках

1. Определить величину удельной фотопроводимости кремниевого образца при его освещении оптическим излучением мощностью Pпад 10 8 Вт

из собственной полосы поглощения в предположении, что квантовая эффективность поглощения излучения полупроводника равна 0.9, ко-

39

эффициент поглощения излучения составляет 106 см 1, а частота модуляции светового потока гармоническим сигналом составляет

f102 Гц.

2.Определить величину удельной фотопроводимости германиевого образца при его освещении оптическим излучением мощностью Pпад 10 10 Вт из собственной полосы поглощения в предположении, что квантовая эффективность поглощения излучения полупроводника равна 0.9, коэффициент поглощения излучения составляет 106 см 1, а частота

модуляции светового потока гармоническим сигналом составляет

f102 Гц.

3.Определить величину удельной фотопроводимости арсенид-галлиевого

образца при его освещении оптическим излучением мощностью Pпад 10 10 Вт из собственной полосы поглощения в предположении,

что квантовая эффективность поглощения излучения полупроводника равна 0.9, коэффициент поглощения излучения составляет

106 см 1, а частота модуляции светового потока гармоническим сигналом составляет f 106 Гц.

4. Определить величину фотопроводимости кремниевого образца размерами 1 1 10 см3 при его освещении оптическим излучением интенсивно-

стью I0 1012 квант/(см2 с) из собственной полосы поглощения в

предположении, что квантовая эффективность поглощения излучения полупроводника равна 1.0 , коэффициент поглощения излучения состав-

ляет 4 106 см 1, а частота модуляции светового потока гармоническим сигналом составляет f 103 Гц.

Считать, что освещение проводится с узкой стороны образца, а регистрирующие контакты припаяны к широким торцам.

5.Определить величину фотопроводимости германиевого образца размерами 1 1 5 см3 при его освещении оптическим излучением интенсивно-

стью I0 1012 квант/(см2 с) из собственной полосы поглощения в предположении, что квантовая эффективность поглощения излучения полупроводника равна 1.0 , коэффициент поглощения излучения составляет 2 106 см 1, а частота модуляции светового потока гармониче-

ским сигналом составляет f 106 Гц.

Считать, что освещение проводится с узкой стороны образца, а регистрирующие контакты припаяны к широким торцам.

40