Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Физические основы оптоэлектроники.-2

.pdf
Скачиваний:
11
Добавлен:
05.02.2023
Размер:
2.35 Mб
Скачать

Решение. Плотность полного диффузионного тока представляет разность диффузионных токов электронов и дырок, поскольку при одинаковом направлении движения переносятся заряды противоположных знаков

j(диф) j(диф)

j(диф)

qD

n

qD

p

.

 

 

n

p

n

x

p

x

Для дальнейших расчетов необходимо найти градиенты концентраций электронов и дырок, что сейчас сделаем:

 

 

 

n

 

Nd

exp

n (x

a)2

/

Nd

2 n (x a)exp

n (x a)2

 

 

 

 

 

x

 

 

 

x

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2 n (x

a)

n x ;

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

n2

 

 

 

/

 

n2

 

 

p

 

 

 

 

b)2

 

 

 

p (x b)2

 

 

 

 

 

i

 

exp

p (x

 

 

i

2 p (x b)exp

x

 

Nd

x

Nd

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

2

 

p (x b) p x .

 

 

 

 

 

 

Следовательно, выражение для полной плотности тока будет:

j(диф) 2q p(x b) p(x) 2q n(x a) n(x) .

(5.29)

Данное выражение является ответом на поставленный в задаче вопрос.

5.3. ВАРИАНТЫ ЗАДАНИЙ ПО ВЫЧИСЛЕНИЮ ЗОННОГО СПЕКТРА ПОЛУПРОВОДНИКА И ТОКОПЕРЕНОСУ

К КОНТРОЛЬНОЙ РАБОТЕ № 1

При решении задач раздела необходимо пользоваться справочными данными по численным значениям параметров полупроводников различного физико-химического состава. Эти данные собраны в конце учебно-методического пособия.

1.Определите положение уровня Ферми относительно потолка валентной зоны в кремниевом полупроводнике p - типа и концентра-

цию неосновных носителей, если известно, что концентрация акцепторной примеси в нем равна Na 1016 см-3.

2.Определите положение уровня Ферми относительно потолка валентной зоны в кремниевом полупроводнике n - типа и концентра-

31

цию неосновных носителей, если известно, что концентрация донорной примеси в нем равна Nd 1016 см-3.

3.Определите положение уровня Ферми относительно середины запрещенной зоны в германиевом полупроводнике p - типа и концен-

трацию неосновных носителей, если известно, что концентрация акцепторной примеси в нем равна Na 1017 см-3.

4.Определите положение уровня Ферми относительно потолка валентной зоны в полупроводниковом образце GaAs p - типа и концентрацию неосновных носителей, если известно, что концентра-

ция акцепторной примеси в нем равна Na 1015 см-3.

5.Определить положение акцепторного уровня Ea (в электроновольтах) относительно потолка валентной зоны EV в кремниевом полупроводниковом образце p типа, если известно, что концен-

трация свободных дырок в нем равна p0 6.6 1014 см 3 , а концентрация акцепторной примеси Na 9.0 1014 см 3 ?

6.Определить положение донорного уровня Ed (в электроновольтах) относительно потолка валентной зоны EV в германиевом полупроводниковом образце n типа, если известно, что концен-

трация свободных электронов в нем равна n0 5.6 1014 см 3 , а концентрация донорной примеси Nd 8.8 1014 см 3 ?

7. Определить положение донорного уровня Ed (в электроно-вольтах) относительно потолка валентной зоны EV в арсенид-галлиевом полупроводниковом образце n типа, если известно, что концентрация свободных электронов в нем равна n0 1.6 1012 см 3 , а концентрация донорной примеси Nd 3.2 1012 см 3 ?

8. Определить положение акцепторного уровня Ea (в электроновольтах) относительно потолка валентной зоны EV в арсенидгаллиевом полупроводниковом образце p типа, если известно, что концентрация свободных дырок в нем равна p0 3.6 1012 см 3 , а концентрация акцепторной примеси Na 9.6 1012 см 3 ?

9. Определить положение донорного уровня Ed (в электроно-вольтах) относительно потолка валентной зоны EV в германиевом полупро-

32

водниковом образце n типа, если известно, что концентрация свободных дырок в нем равна p0 2.6 1013 см 3 , а концентрация донорной примеси Nd 7.7 1013 см 3 ?

10. Какой должна быть концентрация компенсирующей акцепторной примеси, вводимой в образец арсенида галлия n типа с концен-

трацией электронов n0

2.4 1016 см 3 для получения p типа с

концентрацией дырок p0

2.8 1017 см 3 , если энергетический уро-

вень вводимой акцепторной примеси Ea удален от потолка валентной зоны на расстояние Ea EV 0,12 эВ?

11. Какой должна быть концентрация компенсирующей донорной

примеси, вводимой в образец арсенида галлия p

типа с концен-

трацией дырок p0

2.4 1012 см 3 для получения n

типа с концен-

трацией электронов

n0 2.8 1013 см 3 , если энергетический уро-

вень вводимой донорной примеси Ed удален от потолка валентной зоны на расстояние Ed EV 1,35 эВ ?

12. Какой должна быть концентрация компенсирующей донорной

примеси, вводимой в образец кремния p

типа с концентрацией

дырок p0

1.4 1017 см 3 для получения n

типа с концентрацией

электронов

n0 2.8 1017 см 3 , если энергетический уровень вво-

димой донорной примеси Ed удален от потолка валентной зоны на расстояние Ed EV 1,0 эВ ?

13. Какой должна быть концентрация компенсирующей донорной

примеси, вводимой в образец германия p

типа с концентрацией

дырок p0

2.7 1014 см 3 для получения n

типа с концентрацией

электронов

n0 4.8 1014 см 3 , если энергетический уровень вво-

димой донорной примеси Ed удален от потолка валентной зоны на расстояние Ed EV 0,60 эВ ?

14. Образец арсенида галлия содержит донорную примесь с концентрацией Nd 2 1014 см-3. Определить удельную электропроводность и тип проводимости полупроводника. Какой должна быть концентрация доноров, чтобы удельная электропроводности равнялась

6,2 10 2 Ом-1 м-1?

33

15. Образец германия содержит акцепторную примесь с концентрацией Na 2 1015 см-3. Определить удельную электропроводность и тип проводимости полупроводника. Какой должна быть концентрация доноров, чтобы удельная электропроводности равнялась собственному значению?

16. Дрейфовый ток плотностью 10 3 А/см2 течет через образец германия n-типа проводимости с удельным сопротивлением 5 Ом см. За какое время электроны и дырки пройдут расстояние 5 10 3 cм?

17. Дрейфовый ток плотностью 0,1 А/см2 течет через образец кремния p-типа проводимости с удельным сопротивлением 0,55 Ом см. За какое время электроны и дырки пройдут расстояние 5 10 2 cм?

18. Рассчитать величину плотности полного диффузионного тока (электронов и дырок) в кремниевом образце при комнатной температуре, если известно, зависимости концентраций электронов и дырок от координаты описываются выражениями:

 

1

 

n2

 

1

 

n0(x) Nd exp

 

 

(x 5) / x, p0(x)

i

exp

 

(x 2) / x .

2

 

Nd

5

 

 

 

 

 

19. Рассчитать величину плотности полного диффузионного тока (электронов и дырок) в кремниевом образце при комнатной температуре, если известно, зависимости концентраций электронов и дырок от координаты описываются выражениями:

 

1

 

2

ni2

n0(x) Nd exp

 

 

(x

5) , p0(x)

 

..

 

 

 

 

2

 

 

 

Nd

20. Рассчитать величину плотности полного диффузионного тока (электронов и дырок) в кремниевом образце при комнатной температуре, если известно, зависимости концентраций электронов и дырок от координаты описываются выражениями:

 

 

 

ni2

 

1

 

2

n0

(x) Nd ; p0

(x)

 

exp

 

(x

2) ..

Nd

5

 

 

 

 

 

 

34

6.«ВЗАИМОДЕЙСТВИЕ ОПТИЧЕСКОГО ИЗЛУЧЕНИЯ

СТВЕРДЫМИ ТЕЛАМИ»

6.1.КРАТКОЕ ИЗЛОЖЕНИЕ ТЕОРИИ

При распространении электромагнитного излучения в твердом теле интенсивность излучения монотонно уменьшается. Если параметры твердого тела постоянны по координате х, вдоль которой распространяется излучения, то уменьшение интенсивности по мере удаления от освещаемой поверхности подчиняется закону БугераЛамберта:

I(x) I0 1 R exp

x .

(6.1)

Здесь R - безразмерная величина, именуемая коэффициентом отра-

жения излучения от поверхности твердого тела,

- коэффициент по-

глощения излучения. Он имеет размерность обратной длины, и потому вводят еще один параметр, характеризующий взаимодействие из-

лучения с твердым телом – длину свободного пробега фотона:

ф 1 .

(6.2)

Она равна среднему расстоянию, которое проходит фотон в твердом теле до момента своего поглощения. Численные значения длины свободного пробега фотона составляют единицы и доли микрона, что указывает на доминирующую роль приповерхностного слоя в процессе поглощения излучения.

Рассмотрение поглощения на основе квантовой теории света приводит к следующему выражению для коэффициента поглощения:

N ,

(6.3)

где - вероятность поглощения фотона одиночным центром, имеющая размерность площади; N - концентрация центров поглощения.

Из всех возможных механизмов поглощения излучения твердым телом наиболее важные для практического применения следует выделить собственное поглощение, примесное поглощение и поглощение на свободных носителях заряда.

1. Собственное поглощение наблюдается при падении на полупроводник излучения с энергией кванта больше ширины запрещенной зоны:

 

Eg .

(6.4)

35

Этот тип поглощения доминирует в области коротких длин волн, меньших кр :

кр

hc

.

(6.5)

 

 

Eg

 

2. Примесное поглощение возникает, когда энергия падающего на полупроводник фотона достаточна для перевода электрона из валентной зоны на уровень примеси – случай акцепторной примеси ( Ea ) или наоборот: с примеси в зону проводимости – случай донорной примеси ( Ed ). Эти условия можно записать так:

 

hc

.

(6.6)

пр

 

Ed,a

 

 

 

Необходимым условием наблюдения примесного поглощения является частичная ионизация примесного уровня, что достигается при пониженных температурах полупроводника. Поскольку примесное поглощение также возможно в области коротких длин волн, где доминирует собственное поглощение, то вторым условием наблюдения примесного поглощения является отсутствие собственного поглощения. Наиболее просто это можно достичь, если использовать излуче-

ние с длиной волны из диапазона пр

кр . Учитывая то об-

стоятельство, что концентрация примесей в полупроводнике на порядки ниже концентрации собственных атомов, согласно выражению (6.3) коэффициент примесного поглощения в реальных полупроводниках оказывается на несколько порядков ниже коэффициента собственного поглощения. Следовательно, поглощение излучения примесными атомами и ионами происходит в слое полупроводника толщиной до сотен микрон.

6.2. ПРИМЕРЫ РЕШЕНИЯ ЗАДАЧ ПО ОПРЕДЕЛЕНИЮ ПАРАМЕТРОВ ВЗАИМОДЕЙСТВИЯ ИЗЛУЧЕНИЯ С

ПОЛУПРОВОДНИКАМИ

При решении задач раздела необходимо пользоваться справочными данными по численным значениям параметров полупроводников различного физико-химического состава. Эти данные собраны в конце учебно-методического пособия.

36

Задача 1. Какая доля от падающей световой интенсивности поглощается в слое полупроводника между координатами x1 10 6 см до x2 2 10 6 см, отсчитанными от освещаемой поверхности, если известно, что длина свободного пробега фотона составляет 10 8 м?

Решение. За основу решения задачи возьмем закон Бугера – Ламберта, согласно которому интенсивность оптического излучения на расстоянии x от освещаемой поверхности I x уменьшается с ростом глубины по экспоненциальному закону:

I x 1 R I0 exp x ,

(6.7)

где R - коэффициент отражения излучения от поверхности, а

- ко-

эффициент поглощения, который по величине обратно пропорционален длине свободного пробега фотона ф :

1 .

ф

Значит, в точке x 10 6

см интенсивность света будет равна

1

 

 

 

I x1 I0 exp

x1 .

Эта доля интенсивности от падающего на полупроводник излучения,

пройдя слой вещества до точки x2

2 10 6 см, уменьшится до

 

 

I x2 I0 exp

x2 .

 

Следовательно, в слое толщиной

x2

x1

поглотится интенсивность

I x2 x1

I x1 I x2

I0 exp

x1

I0 exp x2

или в относительных единицах

 

 

 

 

 

I x2

x1

exp

 

x1

exp

x2 .

 

I0

 

 

 

 

 

 

 

Подставляя численные значения в сантиметрах, получим:

I x2

x1

exp

 

106 106

exp

106 2 10 6

 

I0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

exp

1

exp

2

1

 

1

1

1

 

0,23 .

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

exp 1

exp 2

2.7

7.3

 

 

 

 

 

 

 

 

Ответ на поставленный в задаче вопрос таков: в указанном слое поглотится примерно 23% от падающей интенсивности.

37

Задача 2. Определить вероятность поглощения фотонов видимого оптического излучения в полупроводниковом кремнии, если известно, что 99% падающей световой мощности поглощается в слое

толщиной 10 5 см.

Решение. За основу решения задачи возьмем закон Бугера – Ламберта, согласно которому интенсивность оптического излучения на расстоянии x от освещаемой поверхности I xуменьшается с ростом глубины по экспоненциальному закону и равна:

I x1 RI0 exp x .

Здесь по условию задачи коэффициент отражения R 0 . Известно, что коэффициент поглощения определяется вероятностью поглощения фотона отдельным центром и концентрацией поглощающих центров N :

N .

(6.8)

Следовательно, по условию задачи процент остаточной интенсивности на глубине x0 10 5 см равен 1%. Поэтому из закона Бугера - Ламберта имеем

I x0

exp

N x0 0.01.

I0

 

 

Отсюда находим неизвестную величину:

1

ln 0.01

1

ln 10

2

2

 

ln 10 .

(6.9)

 

 

 

 

N x0

N x0

 

N x

0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Так как поглощение излучения осуществляется в собственной полосе длин волн (случай собственного поглощения), то концентрация поглощающих центров равна концентрации атомов кремния. Согласно

табличным данным N 5 1022 см 3 , поэтому из выражения (6.9) находим:

2

 

 

ln 10

2

10 17

2.3 9.2 10 18 см 2 .

5 1022

10

5

5

 

 

 

Итак, ответ на поставленную задачу таков: вероятность поглощения фотона атомами кремния равна 9.2 10 18 см 2 .

38

Задача 3. Определить мощность оптического излучения на глубине x0 10 4 см от освещаемой поверхности полупроводника, если известно, что при падении на поверхность 1 Вт света на расстоянии x1 2,110 4 см поглотилось 85% от прошедшей в полупроводник мощности.

Решение. Как и в предыдущей задаче воспользуемся законом Бугера – Ламберта для мощности для двух глубин поглощения. Требуемая мощность может быть найдена по формуле:

P x0 1 RP0 exp x0 ,

где R

0, P0 1 Вт. Для определения

мощности на глубине

x 10 4

см необходимо вычислить коэффициент поглощения, что

0

 

 

 

 

 

 

также можно сделать, используя закон Бугера – Ламберта:

 

P x1

P0 exp

x1

Отсюда получим:

 

 

 

 

 

 

1

ln

P x1

.

 

 

 

 

 

 

 

 

x1

 

P0

 

Тогда искомая величина будет равна

P x

0

P exp

x0

ln

 

P x0

 

.

 

 

 

(6.10)

 

 

 

 

 

 

 

0

x1

 

 

 

P0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Подстановка численных значений в выражение (6.10) дает

 

P x0 1 exp 2,1 ln 0.15

exp 2,1

1.9

1

 

1

1,8 10

2 Вт.

 

 

 

 

 

 

 

exp 4

54

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Ответ на поставленный вопрос таков: на глубине 10 4 см мощ-

ность оптического излучения равна 1,8

10 2 Вт.

 

 

 

 

 

Задача 4. Найти концентрацию примесных центров, на которых происходит поглощение инфракрасного излучения с длиной волны

10.6 мкм в кристалле GaAs длиной 10 4 см, если известно, что на его длине поглотилось 50% падающей мощности, а при концентрации в

полупроводнике поглощающих центров той же природы 1,8 10 2 см-3

39

длина свободного пробега фотона указанной длины волны составляет

100 см.

Решение. Неизвестную концентрацию центров поглощения фотонов найдем из закона Бугера – Ламберта:

I L I0 exp x I0 exp N L .

Отсюда находим:

 

1

 

I L

1

 

I0

N

 

ln

 

 

 

ln

 

.

L

I0

L

I L

В данном выражении для отыскания концентрации примесей неизвестной величиной является сечение захвата ими фотонов. Займемся теперь его определением. Из условия задачи известно, что при

N N0 1012 см-3 длина свободного пробега фотона равна ф 100

см. По определению она равна обратному значению коэффициента поглощения:

1

1

.

ф

 

 

 

 

 

N0

 

 

 

 

Следовательно, сечение захвата отсюда будет равно

1 .

ф N0

Окончательно выражение для отыскания концентрации примесных центров примет вид:

 

ф

 

I0

 

N N0

 

ln

 

.

(6.11)

L

I L

Подстановка численных значений в выражение (6.11) дает следующее значение отыскиваемой величины:

N 1012 102 0.7 7 1014 см-3 .

Таким образом, окончательный ответ на поставленный в задаче вопрос таков: концентрация примесных центров в полупроводнике, поглощающих излучение с длиной волны 10.6 мкм, составляет

7 1014 см-3 .

40