Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Технология материалов электронной техники..pdf
Скачиваний:
62
Добавлен:
05.02.2023
Размер:
1.77 Mб
Скачать

106

рукции установки. Кроме того, имеется возможность визуального наблюдения за процессом роста вытягиваемого кристалла. Это позволяет сопоставлять ре-

зультаты исследования получаемых кристаллов с условиями их выращивания и производить оптимизацию технологического процесса.

3.4.3 Выращивание кристаллов методом зонной плавки

Наряду с широким применением метода зонной плавки для глубокой очи-

стки материалов этот метод является важным и для выращивания монокристал-

лов полупроводников и диэлектриков. На рис. 3.7 схематически показаны про-

стейшие варианты выращивания кристаллов методом зонной плавки. В методе

2

 

 

 

 

 

3

4

 

 

 

 

 

 

 

 

4

Рис. 3.7 — Схема выращивания кристал-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ла методом зонной плавки: а — горизон-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

5

тальная зонная плавка; б — вертикальная

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

6

бестигельная зонная плавка (1 — затрав-

 

 

 

 

 

 

 

3

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ка; 2 — кристалл;

3 — расплавлен-

 

 

 

 

 

6

5

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

8

 

 

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ная зона; 4 — исходный материал; 5 —

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

7

 

 

 

 

 

а

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

стенки герметичной камеры; 6 — индук-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

тор; 7 — кристаллодержатель; 8 — тигль

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

б

горизонтальной зонной плавки кристаллизуемый материал размещается в тиг-

ле. К материалу тигля в данном случае предъявляют те же требования, что и в методе нормальной направленной кристаллизации.

Выращивание кристаллов методами зонной плавки, как правило, осущест-

вляют с использованием монокристаллической затравки, которая размещается в одном из концов тигля. В начальный момент процесса расплавленная зона созда-

ется на границе затравка — исходный материал. При этом производится частич-

ное расплавление монокристаллической затравки. Перемещение расплавленной зоны через исходный материал от затравки к другому концу тигля обеспечивает