
Исследование плазмы газового разряда методом двойного зонда
..pdf
11
ln Ii1 + Ii11 −1 =f(U)
Ie
Рисунок 3.3 - Полулагорифмическая зависимость токов зондов от напряжения на зонды
По тангенсу наклона находим электронную температуру.
3.4 Методические указания по выполнению работы
1.Тангенс угла определяется не из рисунка, а численным отношением противолежащего катета к прилежащему, что позволяет учесть масштабирование осей координат и определить соотношение:
e/kTe= tgα→находится Те
2. Вычисление концентрации заряженных частиц производится из тока насыщения с использованием формулы Бома.
J = 0,4n 2kTe
Mi
Ji = 0,4Si n 2kTe M i
Si- площадь поверхности ионного слоя вокруг зонда.
3. Толщина ионного слоя зависит от параметров плазмы. Для упрощения расчетов для цилиндрического зонда вводится функция отношения радиуса ионного слоя ri к радиусу зонда rз:
β2=f(ri/rз). В условиях лабораторной работы β =1
Для ориентировочных измерений в разреженной плазме при большой концентрации ионного тока функция β мала и можно допустить, что:
а) разница потенциалов между зондами невелика (несколько вольт); б) радиус ионного слоя равен радиусу зонда (~ 1 мм)
3.5 Содержание отчета
1 Схема вакуумной системы
2 Схема высоковольтной части установки
3 Принципиальная схема питания зонда
4 Расчеты параметров плазмы
12
5 Алгоритм включения и выключения установки
6 Схема силового питания вакуумных насосов
7 Конструкции вакуумных соединений (в ручном исполнении)
Рекомендуемая литература
1. Александров С. Е., Греков Ф. Ф. Технология полупроводниковых материалов: Учебное пособие. 2 е изд., испр. — СПб.: Издательство «Лань», 2012. — 240 с.: ил. — http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_cid=25&pl1_id=3554
2.Блюменштейн В. Ю., Клепцов А. А. Проектирование технологической оснастки: Учебное пособие. 2 е изд., испр. и доп. — СПб.: Издательство «Лань», 2010. — 224 с.: ил. — (Учебники для вузов. Специальная литература). ISBN 978 5 8114 1099 6 Режим доступа: http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_cid=25&pl1_id=628
3.Основы физики плазмы: Учебное пособие. 2-е изд., испр. и доп. / Голант В.Е., Жилинский А.П., Сахаров И.Е. - СПб.: Издательство "Лань", 2001. - 448 с. ISBN 978-5-8114-1198-6. Режим доступа: http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_cid =25&pl1_id=1550
4.Рожанский В. А. Теория плазмы: Учебное пособие. — СПб.: Издательство «Лань». — 2012. — 320 с.: ил. — (Учебники для вузов.
Специальная литература). Режим доступа http://e.lanbook.com/books/element.php?pl1_cid=25&pl1_id=2769
5. Процессы микро- и нанотехнологии : учебное пособие для вузов / Т. И. Данилина [и др.] ; Федеральное агентство по образованию, Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники. -
Томск : ТУСУР, 2005. - 316 с. ISBN 5-86889-244-5
13
Учебное пособие
Орликов Л.Н.
Исследование плазмы газового разряда методом двойного зонда
Методические указания к лабораторной работе
Усл. печ. л. ______Препринт Томский государственный университет систем управления и радиоэлектроники 634050, г.Томск, пр.Ленина, 40