
- •Физико-химические основы технологии электронных средств
- •Раздел 2. Нанесение материала
- •3. Химическая металлизация.
- •3.1. Подготовка поверхности детали перед химической металлизацией.
- •3.2. Химия процесса активирования.
- •3.2.1. Прямое активирование.
- •3.2.2. Механическое активирование.
- •3.3. Химическое меднение.
- •3.3.1. Особенности химического меднения печатных плат.
- •3.4. Дефекты химической металлизации печатных плат.
- •3.5. Химическое никелирование и кобальтирование.
- •3.6. Кобальтирование
- •4. Гальваническое осаждение покрытий
- •4.1. Рассеивающая способность электролитов
- •4.2. Общие требования к электролитам для гальваностегии и свойства основных электролитов
- •4.2.1. Сульфатные электролиты
- •4.2.2. Хлоридные электролиты
- •4.2.3. Борфтористоводородные, кремнийфтористоводородные и пирофосфатные электролиты.
- •4.2.4. Цианистые электролиты
- •4.2.5. Железосинеродистые электролиты
- •4.2.6. Аммиакатные электролиты
- •4.3. Электро-химическое осаждение сплавов железо-никель
- •4.4. Особенности гальванических операций в производстве печатных плат
- •4.5. Гальваническое золочение
- •4.6. Покрытие сплавом олово-свинец
- •5. Нанесение диэлектрических покрытий.
- •5.1. Электроосаждение диэлектрических покрытий
- •5.2. Лакокрасочные покрытия
- •5.3. Порошковое окрашивание в электростатическом поле
3.2. Химия процесса активирования.
Так как в соляно-кислых растворах хлористый палладий находится в виде соединений H2PdO4, то реакция активации может быть представлена в виде уравнений:
Sn(OH)Cl+H2PdCl4+HClPd+H2SnCl6+H2O
Sn(OH)2+H2PdCl4+ 2HCl_Pd+H2SnCl6+ 2H2O
Активирование обычно проводят при комнатной температуре, только иногда использую небольшой подогрев раствора примерно до 30C. Для улучшения смачиваемости платы поверхность платы во время обработки подвергается ультразвуковой вибрации (частота вибрации:30кГц, время воздействия: 2 мин).
Эффективность активации пропорциональна количеству палладия, образовавшегося на поверхности. Минимальное количество палладия, которое должно быть на поверхности диэлектрика — 10-3г/мм2, такое количество палладия можно проконтролировать с помощью изотопного анализа. При обработке стандартным раствором, содержащим хлористый палладий (PdCl2) и соляную кислоту (HCl) возле стенок отверстий печатной платы могут протекать следующий параллельные реакции:
SnCl2 +PdCl2Pd+SnCl
Cu+PdCl2Pd+CuCl2
Рассмотрим реакцию, протекающую на поверхности диэлектрика при активации. Ион палладия под действием двухвалентного олова переходит из ионного состояния в металлическое, придавая диэлектрику способность к металлизации. На поверхности диэлектрика образуется тонкая сетка из частиц металлического палладия. Связь частиц палладия с подложкой определяется их внедрением в поры диэлектрика, а также образованием ковалентных связей между металлом и химическими структурами, возникающими в процессе предварительной обработки диэлектрика.
Одновременно на диэлектрике происходит восстановление ионов палладия:
Sn2++Pd2+Pd0+Sn4+
Образование четырёхвалентного олова также положительно сказывается на процессе образования покрытия. Эта реакция идёт не до конца, поэтому целесообразно после проведения активации провести процесс полного восстановления благородного металла и только после этого переходить к процессу химического меднения. Иначе восстановление палладия завершается в ванне химического меднения, что визуально выглядит как чёрный мелкодисперсный осадок из частиц палладия.
3.2.1. Прямое активирование.
Прямое активирование имеет много достоинств и вытесняет метод сенсактивирования. Этот метод более технологичен. При прямом активировании пластмасса (либо поверхность любого диэлектрика) действует как ионообменник, связывая ионы металла активатора, которые затем восстанавливаются до металла в растворе химической металлизации. Прямое активирование может проводиться в кислых растворах солей палладия (pH = 4,1 – 4,7), затем в растворах комплексов (комплексных солей), например: K2PdCl4 (его pH = 1,5 - 4,5); щелочных растворах гидрокомплексов: [Pd(OH)6]2- , [Pt(OH)6]2- , [HAuO3]2-. Эти соли могут существовать в ряде растворителей, так как ацетон, бензол и некоторых других. Восстановление металла катализатором осуществляется промывкой в таких химических реактивах, как формальдегид и гипосульфит.
3.2.2. Механическое активирование.
Механическое активирование применяют для избирательной или селективной металлизации. Осуществляется такое активирование путём нанесения на поверхности каталитически активного лака, краски, чернил. После этого нанесённый состав впрессовывают в поверхность, добавляя порошки железа, меди, алюминиевой пудры. Для получения селективного процесса металлизации можно применять следующие методы:
1) окисление адсорбированного двухвалентного олова
2) селективное прямое активирование
3) покрытие отдельных участков поверхности защитными лаками, которые удаляются после активирования незащищённой поверхности