Добавил:
lipton15
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз:
Предмет:
Файл:тмиэт / Экзамен Тмеет / с 28 по 80
.pdf
Xo-толщина оксидного слоя тау –время образование зародышевого слоя .
В кинитическом контроле мы считаем что
71Технология литографии. Фоторезисты и Радиационночувствительные резисты. Негативгые и позитивные резисты
Стр 11 4 док рад резистры
Соседние файлы в папке Экзамен Тмеет