- •План лекции
- •2.1. Эффект поля в идеальной мдп структуре
- •2.2. Связь поверхностного потенциала с напряжением на затворе
- •2.3. Полный заряд в полупроводнике при заданном поверхностном потенциале
- •2.4. Плотность электронов в канале как функция поверхностного потенциала
- •2.5 Эффективное электрическое поле и тепловая толщина инверсного слоя
- •2.6. Управление величиной порогового напряжения
- •2.7. Емкость поверхностных состояний и емкость инверсионного слоя
- •2.8. Полная емкость моп структуры
- •2.9. Учет влияния падения напряжения в затворе и инверсионном слое
- •Литература:
- •Задание для срс
2.3. Полный заряд в полупроводнике при заданном поверхностном потенциале
Ограничимся рассмотрением приближения невырожденного электронного газа. Это приближение хорошо выполняется в режиме обеднения и слабой инверсии и вполне удовлетворительно описывает ситуацию сильной инверсии, соответствующую вырожденным носителям.
Одномерное уравнение Пуассона для объема полупроводника p-типа имеет вид:
. (2.3.1)
Нас
интересует случай обеднения и инверсии,
когда
.
С
учетом (2.1.1), (2.1.2) и
пренебрегая концентрацией дырок, имеем
следующее приближение для плотности
заряда в правой части уравнения Пуассона:
,
где мы пренебрегли концентрацией дырок.
Уравнение Пуассона принимает вид
. (2.3.2)
Умножим
обе стороны уравнения (2.3.2) на
.
Используя тождество
и переменную
,
имеющую
смысл электрического поля, проинтегрируем
обе стороны уравнения от границы раздела
кремния с изолятором, где электрическое
поле равно искомому полю
,
а
потенциал равен поверхностному потенциалу
,
до
границы обедненного слоя, где электрическое
поле и потенциал равны нулю:
.
Получаем
зависимость
электрического поля
от
потенциала:
. (2.3.3)
Отсюда
в
точке
находим
связь
электрического поля на границе раздела
и поверхностного потенциала
:
, (2.3.4)
где введено обозначение для безразмерной функции
(2.3.5)
и для характерной длины задачи, которой является дебаева длина экранирования
. (2.3.6)
Тогда электрическое поле в кремнии на границе раздела
,
(2.3.7)
а
полная
поверхностная
(Кл/см2)
плотность заряда
в
полупроводнике
для заданного потенциала
. (2.3.8)
В
общем случае уравнение (2.3.3)
нужно решать численно, чтобы найти
.
В частных
случаях можно сделать некоторые
приближения, позволяющие решить интеграл
аналитически. Например, в
приближении полного обеднения,
когда, в квадратных скобках уравнений
(2.3.3)
и (2.3.8)
требуется
сохранить только член,
ответственный
за заряд неподвижных акцепторов
.
В
приближении сильной инверсии,
наоборот, требуется сохранить только
экспоненциальный член
,
ответственный
за заряд
в инверсионном слое (канале). Таким
образом, в предельных случаях сильной
инверсии и глубокого обеднения:
(2.3.9)
В общем случае после наступления сильной инверсии член , представляющий инверсионный заряд в (2.3.3), должен быть сохранен вместе с членом, представляющим заряд обеднения:
Это
уравнение может быть решено только
численно с граничным условием:
.
После нахождения
можно найти распределение
в инверсионном слое по формуле (2.1.2а).
Пример численного
расчета
представлен на рис.2.4 для двух значений
при
.
Распределение
электронов чрезвычайно близко к
поверхности с толщиной инверсионного
слоя меньше 50Å. Более
высокий поверхностный потенциал приводит
к ещё более тонкому слою инверсионного
заряда вблизи поверхности. Вообще
электроны в инверсионном слое должны
рассматриваться квантовомеханически
как двумерный газ. Как будет показано
на семинаре, посвященном квантовым
эффектам, электроны инверсионного слоя
занимают дискретные энергетические
уровни и имеют пиковое значение плотности
на расстоянии 10-20Å от поверхности.
Рис.2.4.
Распределение электронов инверсного
слоя для двух значений поверхностного
потенциала [4]
