- •1. Технологическая схема репродукционного процесса, стадии и их суть.
- •2. Допечатные процессы, их цель и задачи.
- •5. Классификация оригинала по информационным признакам.
- •6. Информационное содержание оригинала.
- •8. Формы представления изобразительной информации.
- •9. Информационные признаки изображения.
- •10. Необходимые и естественные преобразования.
- •11. Классификация штриховых деталей и основные требования.
- •12. Расчёт воспроизведения штриховых деталей при исп-нии сверхконтрастного фотомат-а.
- •13. Воспроизведение штриховых деталей при использовании фотоматериала с ограниченным коэффициентом контрастности.
- •18. Задачи при воспроизведении тонового изображения. Воспроизведение тонового изображения в различных базовых видах печати.
- •20. Понятие о частоте растр структуры, примен частоты, классиф.
- •21. Воспроизведение градации. Формула Шеберстова-Мюррея-Девисса.
- •22. Классификация типов автотипных растровых структур по структурным признакам
- •25. Принцип формирования автотипного растра.
- •26. Контактное растрирование. Принцип, схема, методы управл
- •27. Проекционный растр.
- •29. Электронное растрирование. Общие принципы.
- •30. Управление параметрами растрирования при электронном растрировании.
- •31. Система rgb, ее применение в полиграфии.
- •32. Система cmy, ее использование в полиграфии.
- •33. Реальные краски и система cmyk.
- •34. Автотипный синтез.
- •35. Градационный процесс при воспроизведении цвета и автотипн синтез цвета.
- •36. Цветоделение: основные принципы, связь со светофильтрами, выделение краски.
- •37. Недостаток цветоделения реальных красок.
- •38. Понятие об искажениях по недостатку и по избытку краски.
- •39. Методы устранения недостатков цветоделения.
- •40. Фотографическое маскирование.
- •41. Метод электронного маскирования
- •42. Назначение черной краски и способ получения фотоформы для нее.
- •43. Методы ucr и gcr при формировании чёрной краски.
- •44. Понятие о муарообразовании.
- •45. Основные параметры муара.
- •46. Выбор углов поворота для красок синтеза.
- •47. Способы минимизации муара.
- •48. Требования к фотоформам многокрасочной продукции.
- •49. Методы контроля комплекта цветоделенных фотоформ.
- •50. Схема обработки сфои и спои.
- •51. Состав системы форматной обработки изображения (Состав сфои).
- •52. Контактное копирование – преимущества, недостатки.
- •53. Проекционный способ записи.
- •54. Дополнительные звенья.
- •55. Классификация источников излучения
- •56. Технологические свойства источников излучения.
- •57. Состав и физические св-ва оптич звена.
- •58, Регистрирующие среды и их фотограф св-ва.
- •59. Технологические св-ва регестрирующих сред.
- •60. Требования к фототехническим материалам и химико-фотографической обработке.
- •61. Развитие фотоматериалов.
- •62. Номенклатура и спецификация полиграфических материалов.
- •63. Принцип действия маскир звена.
- •64. Применение маскирующего звена.
- •65. Рассеивающее звено.
- •66. Дифракционное звено.
- •67. Технологическая схема форматной обработки – прямой процесс.
- •68. Оптическое звено – естественные и технологические преобразования.
- •69. Преобразования регистрирующих сред.
- •70. Дополнительное звено. Технологические признаки.
56. Технологические свойства источников излучения.
+монохроматические источники (излуч. с одной длиной волны)
+ могут быть с линейчатым, дискретным спектром
+Источники излучения со сплошным спектром- лампы накаливания.
+Люминесцентные лампы – широкий спектр они могут служить источниками для просмотровых устройств; общего освещения, мощность их мала.
+газоразрядные лампы – характеризуются достаточно большой мощностью излучения, для фотографирования, копировальные процессы. Лазеры – спектральное распределение линейчатое.
+Источники излучение со смешанным спектром- имеют сплошной спектр, на фоне этого выделяются определенные линии.
По временным параметрам:
+ С непрерывным излучением. Будут давать постоян. во времени излучение вплоть до их выключения.
+Импульсно-периодическое излучение- из последовательных импульсов.
+Импульсное излучение- источник излучения после выключения дает одни импульсы, после этого требует нового цикла включения.
57. Состав и физические св-ва оптич звена.
Оптич звено присутств в СПОИ и СФОИ. Это объектив, зеркала, призмы (для изменения хода лучей). Св-ва: 1. апертура – сочетание величин диаметра объектива и фокусного расстояния. 2. оберация обьектива. К ним относится хроматическая оберация (для разных длин волн). Сферические оберации (изменение фокусировки в зависимости лучей до оси). Остегматизм – формируется в следствие того, что лучи могут иметь различную фокусировку в двух взаимноперпенд плоскостях. Кривизна поля зрения – это св-во обьектива создавать правильную фокус на сфере. Дисторсия – искривление линий изо. 3. Падение освещенности от центра к краю поля изо. 4. Фринелевское отражение на поверхности объектива.
58, Регистрирующие среды и их фотограф св-ва.
Рег среды: фотограф среды, формн мат-лы, электрограф среды. Фотограф св-ва: коэфф контрастности и область спектральной сенсибилизации, фотограф широта, Dmax Dmin и разреш способность. В зависимости от величины коэф контраста разделяют: γ≤2 малоконтр, 2≤γ≤4 среднеконтр, 4≤γ≤6 контраст, 6≤γ≤10 высококонтр, 10≤γ сверхконтр. В зависимости от области спектр чувств: чувств к излуч синей зоны (несенсебилизир), ортахромат(син зел), пан(изо)хроматич (вся зона видимого излучения).
Структурные свойства регистрирующих сред.
S – светочувствительность зависит от структуры слоя и от условий проявления (состав по галогениду Ag, концентрация микрокристаллов). S↑ с С↑ размер↑ сенсибилизация↑. Проявление может повлиять на S (зависимость S от t проявления). Также S зависит от температуры проявителя. Структурные свойства – резкость (разрешающая способность). Среднеквадратичное отклонение определяется размерами микрокристалла, толщиной слоя, наносом серебра прокраской слоя, λ света. Резкость ↑ - меньше размер микрокристаллов, ↓толщина слоя, ↑нанос,↑прокраска (больше поглощаются рассеянные излучения),↑λ (больше рассеяние хуже резкость. Шумы ↑ - чем ↑S, тем ↑ размер.
59. Технологические св-ва регестрирующих сред.
1. усадка – изменение размеров фотоматериала в результате химикофиз фотограф обработки или во время хранения. Величина усадки зависит от материала основы. Лавсан основа обеспечивает необходимую усадку. 2. температура плавления слоев. Она должна обеспечивать прохождение пленки через проявочное оборудование. 3. скручиваемость. В следствии неравномерной усадки эмульсионного слоя и контр слоя. 4. противоореольность. 5. поверхностная структура эмульсионного слоя и контр слоя. 6. антистатич св-ва. 7. чистота эмульсионного слоя. 8. возможность механич и химич ретуши.