- •Основні показники мікроелектроніки
- •Основні показники інтегральних мікросхем
- •Загальна схема технологічного процесу виробництва імс
- •Фізичні особливості тонких плівок.
- •Методи виготовлення тонких плівок
- •Катодне розпилення.
- •Реактивне розпилення
- •Літографія
- •Фотолітографія
- •Ренгенолітографія
- •Електронолітографія
- •Проектування гібридних інтегральних схем гіс.
- •Розрахунок і конструювання елементів гіс.
- •Розрахунок товсто плівкових резисторів.
- •Тонкоплівкові конденсатори
- •Топологічне проектування
- •Епітаксія.
- •Нова схемотехніка біполярних віс
- •Самостійно: порівняння схем, Підручник, 549-552.
- •Квантові технології електронної техніки
- •1. Генерація носіїв заряду и рекомбінація носіїв заряду
- •Інверсне заселення рівнів
- •Параметри окг.
- •Принцип дії, властивості та області застосування окг.
- •Твердотільні лазери
- •Напівпровідникові окг
- •Лазери з електронним накачуванням енергії
- •Принципи створення лазерів нового покоління.
- •1. Іонізація – це процес створення окремих електричних зарядів. Таким випромінюванням є:
Основи мікроелектроніки:
Основи технології та проектування ІМС(ГІС, н/п)
Великі інтегральні схеми ВІС
Квантові технології мікроелектроніки
(корпускулярні технології мікроелектроніки)
Теорія попередніх курсів: Напівпровідники та діелектрики, принципи дії активних напівпровідникових приладів(діоди, транзистори)
Лекція №1.
Ретроспективний аналіз розвитку активної елементної бази електроніки.
Ретроспективний аналіз.
Етап: Встановлення елементної бази електроніки
1939р. – радіоелектронна промисловість займала 49 місце, сьогодні – 5-те місце.
Таким чином елементна база була представлена електронними лампами
Критерії порівняння:
Функціональність
Надійність
Економічность
Недоліки ламп: велика потужність розсіювання і температура, втрата надійності через вакуум, емісійна здатність катодів обмежена. Наробіток на відмову обмежений.
«Тіранія кількостей»
1945р. – створена обчислювальна машина ЕНІАК, 19тис. електронних ламп.
етап: 1946р. – транзистор, Бардін і Братейн – 1-ша НТР.
Надійності для РЕА у транзистора не вистачало.
Вартість кремнія і арсеніда галія велика.
Створювали РЕА 2-го і 3-го покоління
етап. 1960 – етап інтегрованої бази РЕА, розвивався за 2-ма напрямками:
напрямок гібридних ІС
твердо тільних, ч напівпровідникових..
Гібридними звуться мікросхеми, всё пасивні елементи яких створені з тонких чи товстих плівок металів і діелектриків на поверхні діелектричної підкладки, яка грає роль механічного носія (інколи тепловідводу). Активні елементи - напівпровідникові діоди і транзистори, які окремо монтуються на поверхні підкладки, тобто ми маємо гібрид 2-х технологій, а саме: плівкової і напівпровідникової.
Напівпровідникові – це вироби, всі елементи яких створені у єдиному об’ємі напівпровідникової підкладки, яка грає активну роль в створенні всіх властивостей і параметрів всіх елементів ІС.
26.01.12
Основні показники мікроелектроніки
Основні показники: щільність упаковки елементів (ел/см-3), ступень інтеграції К=logN.
На 1-му етапі розвитку радіоелектроніки щільність була 0,5 ел/см-3
2. VT-1-1,5 ел/см-3
3. ГИС – до 102 ел/см-3
н/п – до 104 ; К=106;
Епітаксія - нарощування, прецезійна дифузія – можемо управляти тисячами елементів на кубічному сантиметрі, молекулярні методи,;
Термінологія мікроелектроніки:
Підручник: Тарабрин – Справочник по микроєлектронике.
Елемент і компонент.
Елемент – це невід’ємна частина інтегрального ланцюга.
Компонент - це додаткова частина, яка монтується у інтегральний ланцюг.
Вартість в мікроелектроніці оцінюється на один елемент(компонент).
Вартість одного грама – ще один спосіб оцінки.
Приклад: авіація – 1 грам мікроапаратури має 0.6 грн. , ракетна галуць – 45 грн/грам, побутова – від 0,012 до 1,3 грн/грам.
Мінімальні розміри елементів:
Пасивні – біля 3 мікрометрів
Активні – 10 (мкм)3\
Теоретична межа щільності 109ел/см3
Обмеження на щільність упаковки:
тунельний ефект
наявність кінцевої області просторового заряду п-н переходів.
міграція атомів(молекул, домішок) в процесі експлуатації активних елементів
Надійність в мікроелектроніці.
Мікросхеми найбільш надійний виріб серед виробів будь-якої галузі. Розглянемо причини, які збільшують надійність мікросхем:
менша кількість контактів в гібридних інтегральних схемах це контакти під компоненти, в напівпровідникових – внутрішні контакти відсутні. Ця причина головна, яка підвищує надійність.
невеликі розміри елементів, тому, що це спрощує захист мікросхеми від впливу зовнішніх факторів
мала вартість – це дає можливість використовувати метод резервування ланцюгів без суттєвих витрат
Якщо мікросхема містить 104 ел., 100грн, то 1 елемент – 1 копійка
Причини зменшення надійності:
малі розміри кристалів(погіршується тепловіддача, великі паразитні зв’язки)
труднощі тестування чи контролю параметрів і як наслідок – велика ймовірність прихованих дефектів.
Наробіток до відмови напівпровідникової схеми 106год.
Показник джерела живлення. Проблема пов’язана з проблемою швидкодії ІМС. Швидкодія біля 1 наносекунди може бути забезпечена потужністю живлення біля 1 мілівата. Щоб збільшити швидкодію треба збільшити споживчу потужність на декілька порядків але при цьому буде збільшуватись вартість джерела живлення , габарити РЕА мікроелектронної РЕА.
Основні показники інтегральних мікросхем
Показники |
Знач |
Розділення, мкм |
|
Швидкодія, нс |
0,1-0,2 |
Споживча потужність,мВт |
~0,1 |
* Фактор якості, пДж |
5,10 пДж |
Фактор якості, ел/мм2 |
1000 |
Площа 1 ел(комп.), мм2 |
0,01-0,001 |
Розділення – мінімальна відстань між елементами
Швидкодія – швидкість передачі, рівень затримки тау.
* Фактор якості W=tauз*Рспож, показує можливість виконання 1 логічної операції, W – мінімальна енергія.
W=kTln(tauz*lam)-1
Рівень складності ІМС оцінюється числом еквівалентних логічних вентилів; л.в. – ланцюг, здібний виконати елементарну логічну функцію, може мати до 8 елементів. Якщо використовується цей показник, то умовно всі мікросхеми можна поділити на такі групи:
МІС – 1 – 10елв.
СІС -10-100ел.
ВІС – 100-1000 елв
НВІС – більше 1000 елв
Основи технології ІМС.
