- •Программа технологического проектирования suprem II Введение
- •Технологический маршрут изготовления быстродействующих кмоп бис
- •Технологических операций изготовления ис
- •1. Физические Модели технологиЧеских процессов в программе suprem II
- •1.1. Модель ионной имплантации
- •1.2. Диффузия примесей при термообработке
- •1.2.1. Диффузионный поток
- •Глубина, мкм
- •1.2.2. Диффузия при неравновесных условиях, усиленная окислением
- •1.2.3. Потоки на поверхности раздела
- •1.2.4. Механизмы генерации и потерь
- •1.3. Термическое окисление
- •1.4. Эпитаксия кремния
- •Движущаяся граница
- •2. Численная реализация физических моделей технологических операций в программе suprem II
- •2.1. Стационарные границы
- •2.2. Движущиеся границы в системах SiO2/Si и Si/epiSi
- •2.3. Ошибки обрезания и генерация временного шага
- •3. Расчет электрических характеристик в программе suprem II
- •3.1. Слоевое сопротивление
- •3.2. Пороговое напряжение моп структуры
- •4. Многомерное моделирование технологии формирования ис
- •4.1. Моделирование профиля имплантированных примесей
- •4.2. Моделирование перераспределения примеси в процессе окисления
- •Система уравнений предиктора
- •4.3. Программная реализация
- •4.4. Иллюстрация типичных результатов трехмерных расчетов
- •5. Входной формат задания на моделирование в программе suprem II
- •B. Input/output cards (входные / выходные строки задания на моделирование)
- •В программе suprem II
- •Литература
1.2.4. Механизмы генерации и потерь
Большая часть примеси существовует в кремнии в более чем одном состоянии, особенно при высоких уровнях концентрации. Одним из типичных состояний является состояние замещения с большой подвижностью, в то время как другие состояния, если они имеются, могут образовывать прецепитат или кластер, которые менее подвижны. Обмен между этими двумя состояниями описывается членами генерации и потерь в уравнения непрерывности (1.8) для подвижных примесей. В SUPREM II включена модель, описывающая кластеризацию мышьяка [41, 42]. Из-за отсутствия необходимых моделей влиянием кластеризации и преципитации на диффузию других примесей можно пренебречь. Химическая реакция для мышьяка имеет вид
,
(1.30)
где m - число атомов в кластере, а kc и kd - коэффициенты кластеризации и декластеризации. Концентрация атомов в кластерах Cc определяется следующим образом
,
(1.31)
где CT - полная концентрация, а С - концентрация мышьяка в состоянии замещения. Уравнение сохранения для CC может быть записано в следующем виде
,
(1.32)
где l и g относятся к членам, описывающим генерацию и потери в уравнении (1.8).
Таким образом, определяя равновесный коэффициент кластеризации ke как
,
(1.33)
можно переписать уравнение (1.32) в следующей форме
.
(1.34)
Уравнение (1.34) вместе с уравнением (1.8) используются для описания термической миграции атомов мышьяка в кремнии. Размер кластера m, который лучше всего удовлетворяет экспериментальным данным, равен 4. Однако кластеры могут существовать и в более крупных размерах. Скорость декластеризации kd рассмотрена в работе [41]. В равновесном состоянии (при dCC/dt = 0) уравнение (1.34) имеет вид
.
(1.35)
Это условие иллюстрируется рис.1.8. Видно, что кластеризация налагает ограничение на максимум концентрации атомов замещения и, следовательно, на количество электрически активных атомов мышьяка.
Хотя модель кластеризации предсказывает формирование и растворение кластеров в процессе загонки и последующей разгонки мышьяка, следует учесть и концентрацию кластеров после имплантации мышьяка. В этом случае произвольно полагается, что начальный профиль атомов мышьяка в кластерах представляет собой просто профиль, определяемый термическим равновесием при температуре отжига и задаваемым имплантационным профилем.
1.3. Термическое окисление
Скорость роста SiO2 на кремнии в программе SUPREM II описывается хорошо известной формулой [43]
,
(1.36)
где Zox - толщина окисной пленки; t - длительность процесса окисления, a A и B - параметры, которые связываются с коэффициентами линейного и параболического роста KP и KL и с парциальным давлением PO2 кислорода посредством соотношений
,
.
Параметр определяется через начальную толщину окисла выражением
.
(1.37)
При относительно низкой концентрации примесей KP и KL зависят только от ориентации кристалла кремния и окислительной cреды и являются функцией температуры.
Хорошо известно, что при высоких уровнях поверхностной концентрации примесей (в областях истока и стока МОП - транзистора и в области эмиттера биполярного транзистора) скорость окисления кремния повышается. Более детальное описание этого явления дается в работе [44]. Было обнаружено, что линейный коэффициент скорости роста окисла существенно увеличивается, что отражается на повышении скорости реакции, тогда как коэффициент скорости роста, который зависит от диффузии кислорода в оксиде кремния, повышается незначительно. Такое усиление скорости роста уменьшается с повышением температуры. В SUPREM II используется модель, предложенная в работе [45], которая количественно связывает коэффициенты ускорения для KP и KL с поверхностной концентрацией примеси. Основная идея заключается в том, что скорость окисления кремния зависит от концентрации вакансий в кристаллической решетке, которая, в свою очередь, зависит от присутствия примесных атомов.
Линейный коэффициент скорости роста окисла может быть записан следующим образом
,
(1.38)
где KLi – собственный коэффициент (то есть при низкой концентрации примеси), - эмпирический параметр, получаемый из выражения
.
(1.39)
СT - нормализованная полная концентрация вакансий:
(1.40)
при
, Ed+
= 0.35 eV;
,
E--=
Eg
- 0.57 eV;
, E=
= Eg
- 0.11 eV.
Эти выражения cледует рассматривать как нормализованные собственные концентрации вакансий в трех зарядовых состояниях с соответствующими энергетическими состояниями в кремниевой подложке. Ширина запрещенной зоны кремния Eg и собственный уровень Ei получаются как функции температуры из выражений
,
eV,
(1.41)
.
1020 1021 см-3
Рис.1.8. Зависимость нормализированной полной концентрации атомов
мышьяка от концентрации атомов мышьяка в состоянии замещения
при термическом равновесии. Результаты расчетов получены по модели кластерообразования. Параметр - температура процесса в град. Цельсия
Для n-типа примесей увеличение параболического коэффициента скорости окисления также было получено в работе [45]. При этом
,
(1.42)
где
,
(1.43)
KPi - собственный коэффициент параболической скорости, а СT - полная концентрация атомов примеси n-типа.
Поскольку при окислении поверхностная концентрация примеси изменяется благодаря диффузионному и сегрегационному перераспределениям, рассчитанные коэффициенты KL и KP могут, вообще говоря, зависеть от времени. В программе SUPREM II, в отличие классического уравнения скорости роста (1.36), где используется то же уравнение в форме приращения
.
(1.44)
Таким образом, при моделировании процесса окисления с перераспределением примесей (при достаточно малом временном шаге t) коэффициенты А и В рассчитываются из поверхностных концентраций примеси на каждом временном шаге и затем вычисляются соответствующие приращения окисной пленки Zox.
