- •Материалы и компоненты наноэлектроники Лабораторный практикум
- •Реценты:
- •Лабораторная работа №1 Получение пористого кремния методом электрохимического травления Цель работы:
- •1. Физико-химические основы анодного травления кремния
- •1.1. Основные особенности анодного растворения кремния
- •1.2. Механизмы анодного растворения кремния
- •1.2.1 Механизм анодного растворения кремния по Тарнеру
- •1.2.2. Механизм анодного растворения кремния по Меммингу и Швандту
- •1.2.3. Гидридный механизм анодного растворения кремния
- •1.2.4. Механизм анодного растворения кремния в разбавленных растворах hf
- •2. Методика получения пористого кремния методом электрохимического травления
- •2. 1. Подготовка образцов к электрохимическому травлению
- •2.1. 1. Формирование подложки.
- •2.1.2. Химическая обработка.
- •2.1.3. Формирование омического контакта.
- •2.1.4. Определение площади активного травления.
- •2.2. Расчет режимов электрохимического травления и состава электролита.
- •2.3. Описание электрохимической ячейки и процесса анодирования
- •3. Порядок проведения работы и указания по технике безопасности
- •4. Методика обработки и представления результатов измерений
- •5. Требования к отчёту
- •6. Контрольные вопросы и задания.
- •Лабораторная работа №2 Определение степени пористости кремниевых структур весовым методом (6ч). Цель работы
- •1. Методы определения степени пористости
- •2. Методика подготовки образцов к электрохимическому травлению и описание электрохимической ячейки
- •3. Порядок выполнения работы и указания по технике безопасности
- •4. Методика обработки и представления результатов
- •5. Требования к отчету
- •6. Примерные контрольные вопросы и задания для допуска и сдачи работы
- •2. Схема измерения вах
- •3. Методика подготовки образцов к электрохимическому травлению и описание электрохимической ячейки
- •4. Порядок выполнения работы и указания по технике безопасности
- •5. Методика обработки и представления результатов
- •6. Требования к отчету
- •7. Литература
- •Лабораторная работа №4 Обработка и количественный анализ сзм изображений (4ч). Цель работы
- •1. Теоретические основы обработки и количественного анализа сзм изображений
- •Количественный анализ сзм изображений
- •2. Задание на выполнение работы
- •3. Методические указания к выполнению работы
- •2. Варианты заданий
- •3. Порядок выполнения работы
- •4. Контрольные вопросы
- •5. Литература
- •Лабораторная работа №6 Метод получения нано-размерных островковых структур инконгруэнтным испарением Цель работы
- •1. Физико-химические основы метода
- •2. Вывод базовых соотношений определения брутто-характеристик процесса формирования островковых пленок инконгруэнтным испарением
- •3. Основные положения феноменологической модели роста островков
- •4. Определение максимальной высоты островка в процессе роста
- •Лабораторная работа № 7 Получение газопоглощающих покрытий методом магнетронного распыления Цель работы:
- •1. Теоретические основы метода
- •1.2. Конструкции магнетронных распылительных систем
- •2. Оборудование и материалы
- •3. Порядок выполнения работы и указания по технике безопасности
- •3.2. Проведение измерений
- •3.3. Проведение экспериментальных и теоретических расчетов параметров процесса магнетронного распыления
- •4. Оформление результатов работы
- •5. Контрольные вопросы
- •7. Литература
- •Лабораторно-практическая работа № 8 Моделирование вах одноэлектронного транзистора Цель работы:
- •8.1. Базовая теория кулоновской блокады
- •8.3. Задание на выполнение работы
- •8.4. Вопросы на защиту
- •Литература
- •5. Часть 2. Одноэлектронный транзистор
- •8.3. Задание на выполнение второй части работы
- •Дополнительная литература
2. Оборудование и материалы
Экспериментальная установка магнетронного распыления изготовлена на базе серийно выпускаемой модели. Схема вакуумной системы установки распыления представлена на рис. 7.9.
Рис. 7.9. Схема вакуумной системы
Предварительная откачка воздуха из системы и рабочей камеры 8 осуществляется механическим вакуумным насосом 4 через электромагнитные клапаны 5, форвакуумный баллон 3 и электромагнитный клапан 6. Высокий вакуум создается диффузионным насосом 2 через затвор 1. Напуск рабочего газа Ar в рабочую камеру из газового баллона 11 осуществляется через рабочую камеру 8. Для напуска воздуха в рабочую камеру перед подъемом колпака после выключения механического насоса используется электромагнитный клапан 7. Для измерения давления в различных участках системы предусмотрены манометрические преобразователи 9 и 10.
Основные технические характеристики МРС экспериментальной установки:
Предельное остаточное давление 10-4 Па
Потребляемая мощность 5 кВт
Напряжение на мишени 0.3-1 кВ
Разрядный ток 1.5 А
Плотность ионного тока < 100 мА/см2
Расстояние между подложкой и мишенью 5 см
Скорость осаждения < 30 нм/с
Вид движения подложек планетарное вращение
Температура разогрева подложек < 100 С
3. Порядок выполнения работы и указания по технике безопасности
3.1. Последовательность выполнения операций по осаждению пленок
Перед работой на установке магнетронного распыления необходимо непосредственно на рабочем месте ознакомиться с инструкцией безопасности работы в лаборатории, рабочей инструкцией и расположением узлов и устройств управления установки и получить допуск к работе. Перед началом работы следует визуально проверить целостность изоляции токопроводящих частей установки, крепление баллонов со сжатым газом и ограждение движущихся частей и механизмов форвакуумного насоса. После этого необходимо:
– подать на установку электропитание, для чего нажать кнопку «Сеть» на передней панели;
– открыть кран подачи холодной воды для охлаждения необходимых узлов установки;
– включить компрессор, для чего нажать кнопку «Вкл.» на панели компрессора;
– включить форвакуумный механический насос, для чего нажать кнопку «Вкл. ф. н.»;
– открыть электромагнитный клапан и откачать диффузионный насос до давления 1 Па, для чего нажать кнопку «Откачка д. н.»;
– включить диффузионный насос и выдержать 45 минут, для чего нажать кнопку «Вкл. д. н.»;
– поднять колпак рабочей камеры и произвести загрузку деталей;
– опустить колпак;
– отпустить кнопку «Откачка д. н.», нажать кнопку «Отк. кам.» и откачать воздух из рабочей камеры до давления 1 Па;
– отключить кнопку «Отк. кам.» и нажать кнопку «Отк. д. н.». Нажатием кнопки «Затвор» открыть затвор. Через 2 минуты включить прибор ВИТ-2 для контроля высокого вакуума;
– при достижении вакуума 5 10-5 мм рт. ст. (6,6 10–3 Па) начать процесс напыления. Для этого необходимо открыть кран подачи воды для охлаждения магнетрона, открыть редуктор на баллоне с Ar и через электромагнитный клапан 12 напустить Ar в камеру до давления 7 10–4 мм рт. ст. (9 10–2 Па); включить привод вращения планетарного подложкодержателя; таймером установить необходимое время напыления; включить высоковольтный блок питания магнетрона; провести процесс напыления;
– по истечении выбранного времени отключить высоковольтный блок питания магнетрона, закрыть редуктор на баллоне с Ar и натекатель, выключить вакуумметр ВИТ-2, отключить привод вращения подложкодержателя и закрыть затвор (кнопка «Затвор»); закрыть электромагнитный клапан 6 (кнопка «Отк. клап.») и через электромагнитный клапан 7 напустить воздух в камеру; поднять колпак рабочей камеры, выгрузить подложки с напыленным слоем; опустить колпак.
Процесс напыления следует провести трижды, с разной длительностью – 5, 10 и 15 минут.
