- •Требования, предъявляемые к полупроводниковым материалам:
- •Состав – структура – свойства современных материалов для термоэлементов.
- •Области применения термоэлементов в современной технике.
- •Оксидные материалы как сенсоры для газового анализа.
- •2. Требования, предъявляемые к материалам:(рассмотреть на примере SnO2, требования к структуре поверхности, типу проводимости и повышения селективности, как датчика для анализа на содержание со).
- •Модифицирование
- •Чувствительность сенсорного устройства
- •Влияние температуры на чувствительность сенсора
- •Влияние размера кристаллитов на чувствительность сенсора
- •Быстродействие
- •Основные положения внешнего фотоэффекта.
- •Требования, предъявляемые к материалам для фотокатодов электронных ламп.
- •Основные материалы для фотокатодов.
- •Фотокатоды для видимой области спектра.
- •Фотокатоды для ультрафиолетовой области спектра.
- •Фотокатоды для инфракрасной области счетчика.
- •Люминофоры
- •Фотосопротивления
- •Получение p-n-переходов
- •Фотоэлектрические явления в p-n-переходов.
- •Вентильный фотоэлементы.
- •Фотодиоды
- •Светодиоды
- •Лазеры на основе рубина. Полупроводниковые лазеры
- •Болометры
- •Вторичная электронная эмиссия
- •Приборы для усиления малых токов. Фотоумножители. Устройство и работа сцинтилляционного счетчика.
- •Сегнетоэлектрики области применения
- •Термопары из благородных металлов и их характеристики.
- •Коэффициент чувствительности тензодатчика.
- •Материалы для тензодатчиков.
- •Область применения тензодатчика.
Фотоэлектрические явления в p-n-переходов.
Рассмотрим физические процессы, происходящие при освещении p-n-перехода.
При
освещении p-n-перехода, например, со
стороны n-области (рис. 7) светом, энергия
кванта которого
достаточна
для образования пары электрон-дырка,
вблизи границы p-n-перехода образуются
носители заряда – электроны и дырки.
Образовавшиеся в результате фотогенерации
свободные электроны и дырки участвуют
в тепловом движении и диффундируют в
различных направлениях, в том числе и
в область p-n-перехода. Внутреннее
контактное поле p-n-перехода разделяет
диффундирующие к нему неосновные
избыточные носители заряда: дырки,
подошедшие к p-n-переходу, подхватываются
полем контактной разности потенциалов
и выбрасываются в p-область, а электроны
остаются в n-области. Вследствие этого
электронная область заряжается
отрицательно, а дырочная – положительно.
При этом возникает некоторая равновесная
разность потенциалов между контактами
1 и 2 – напряжение холостого хода
или
фото-э.д.с.
(точка
Д на ВАХ, рис.8).
Закономерности внешнего фотоэффекта:
Количество испускаемых электронов пропорционально интенсивности излучения.
Для каждого вещества при определенном состоянии его поверхности и температуре существует порог (минимальная частота ν0 или максимальная длина волны λ0 излучения), за которыми фотоэффект не возникает. Пороговая частота или пороговая длина волны – красная граница фотоэффекта.
Максимальная кинетическая энергия фотоэлектронов линейно возрастает с частотой излучения и не зависит от его интенсивности. Количественной характеристикой фотоэффекта является квантовый выход Y.
Квантовый выход – по физическому смыслу это число вылетевших электронов, приходящихся на один фотон. Квантовый выход зависит от свойств тела, состояния поверхности и энергии фотонов. Фотоэффект из металлов возникает, если hν ≥ A (для чистых металлов) Рис. 4а. Работа выхода – та кинетическая энергия, которую нужно добавить к энергии Ферми, чтобы электрон вышел.
Внешним фотоэффектом называется испускание электронов веществом под действием электромагнитного излучения. Внешний фотоэффект наблюдается в твердых телах (металлах, полупроводниках, диэлектриках), а также в газах на отдельных атомах и молекулах (фотоионизация).
Внутренний фотоэффект – это вызванные электромагнитным излучением переходы электронов внутри полупроводника или диэлектрика из связанных состояний в свободные без вылета наружу. В результате концентрация носителей тока внутри тела увеличивается, что приводит к возникновению фотопроводимости (повышению электропроводности полупроводника или диэлектрика при его освещении) или к возникновению электродвижущей силы (ЭДС).
–ток
короткого замыкания фотоэлемента;
–
напряжение холостого хода, равное
фото-э.д.с.
Явление возникновения электродвижущей силы между двумя областями полупроводника с различным типом проводимости, разделенными p-n-переходом, под действием электромагнитного излучения называется фотогальваническим эффектом.
Возникшей фото-э.д.с. соответствует электрическое поле, направленное противоположно контактному полю, которое компенсирует частично потенциальный барьер p-n-перехода при данной освещенности. Концентрация образованных светом избыточных носителей заряда у p-n-перехода, а, следовательно, и величина фото-э.д.с. зависят от интенсивности падающего света. С возрастанием интенсивности фото-э.д.с. увеличивается, но она не может стать больше контактной разности потенциалов .
Если освещенный p-n-переход включить в замкнутую цепь с нагрузкой, то по ней потечет ток, приводящий к уменьшению избыточной концентрации электронов и дырок. Это рабочий режим фотоэлемента, который соответствует участку II на вольт-амперной характеристике.
Если p-n-переход замкнут накоротко, то избыточные разделенные переходом носители заряда создают максимально возможное значение тока – ток короткого замыкания (точка С на ВАХ). При этом никакого скопления образованных под действием света зарядов в p- и n-областях не возникает, а потенциальный барьер будет иметь ту же высоту, что и в темноте.
Фотоэлектрический полупроводниковый прибор, действие которого основано на использовании фотогальванического эффекта, называют полупроводниковым фотоэлементом.
Режим работы p-n-перехода при его освещении, когда к нему приложено внешнее напряжение в обратном направлении, называется фотодиодным (участок I на ВАХ на рис. 8). Соответствующий фотоэлектрический полупроводниковый прибор называется фотодиодом.
Различают два вида внутреннего фотоэффекта: фоторезистивный и вентильный.
