19.Высокочастотный синтез.

При таком способе напыления пе­ревод материала покрытия (проволо­ки) в жидкую фазу осуществляется нагревом токами высокой частоты. Распыление расплава выполняется струей сжатого воздуха.Питание индуктора аппарата осуществляется от лампо­вой высокочастотной установки отно­сительно небольшой мощности.

Параметры процесса:

-диаметр проволоки 2,5-5мм

-частота высокочастотных колебаний 200-500кГц

-средняя производительность 5-10кг/час

-коэффициент используемого материала 70%

Физико-механические свойства по­крытий, нанесенные высокочастот­ным напылением, значительно выше аналогичных свойств покрытий, полу­ченных электродуговым напылени­ем. Это объясняется более благопри­ятными условиями плавления мате­риала покрытия (проволоки). Меньшая окисляемость частиц по­крытия улучшает условия смачи­вания частицами восстанавливае­мой поверхности детали. К основным недостаткам следует отнести сравнительно невысокую производительность процесса, слож­ность и высокую стоимость высокоча­стотных ламповых установок, кото­рые необходимо использовать для пи­тания индуктора металлизатора.

20.Плазменный синтез.

Это метод при реализации которого нагрев и плавление вещества осуществляется в результате действия на него плазменной струи.

Плазменный разряд создается между катодом и анодом в области между вольфрамовым катодом и медным анодом.Плазменная струя формируется газом в качестве которого используется азот,аргон.При использовании азота ,температура плазмы 12000С,аргона 30000С,следовательно наблюдается эрозия разрушения катода и анода.

1.ввод плазмообразующего газа

2.водяное охлаждение

3.катод плазмотрона

4.электро-изоляционный блок

5.анод

6.ввод напыляемого порошка

7.плазменная струя с нагретым порошком

8.покрытие

9.напыляемое изделие

21.Вычокочастотное плазменное нанесение нанокомпозиционных покрытий.

Кварцевая трубка размещена внутри высокочастотного индуктора на который подают высокочастотное напряжение.

Аргон с порошком подается в эту трубку и в ней с помощью электро-искрового генератора возникает высокочастотный плазменный разряд.

Частица разряда под действием магнитного поля локализируется в виде тонкой струи.

22.Детонационный синтез наноматериалов.

При данном способе напыления на­грев и транспортирование частиц по­рошкообразного материала на по­верхность детали осуществляются в результате энергии детонации газо­вой смеси.

Параметры процесса:

-температура газа в сопле 5100-5200С

-давление 6-8МПа

-скорость и сечение струи 1250м/с

-скорость частиц в струе до 750м/с

-частота взрывов до 15Гц в секунду

Основная проблема заключается в том, чтобы не допустить распространения волны по трубопроводу ,поэтому метан и кислород подается циклически и продувка ствола осуществляется с помощью инертного газа. Пористость 1-2%.Покрытие имеет высокую твердость и прочность. За 1 цикл напыления наносится слой 7-9 мкм ,быстрым охлаждением преобладает структура стекла. К существенным недостаткам де­тонационного напыления следует от­нести в первую очередь высокий уро­вень шума . Кроме того, используемое оборудование относи­тельно сложно и имеет высокую сто­имость.