- •4.Стадии и механизмы роста покрытий при их осаждении из газового потока
- •5. Адсорбция и образование зародышей конденсированной фазы
- •7 Рост покрытий. Коэффициент конденсации.
- •8 Классификация методов осаждения вакуумных покрытий
- •13. Особенности электронного-лучевого испарения диэлектриков,
- •15,Генерация летучих продуктов методом ионного распыления. Достоинство и недостатки метода.
- •16,Катодное распыление. Диодная схема. Достоинство и недостатки.
- •17,Магнетронное распыление. Основные параметры.
- •18. Высокочастотное распыление
- •23. Вакуумная металлизация полимерных материалов
- •24. Технология Вакуумной металлизации полимерных материалов
- •25. Реактивные методы нанесения вакуумных покрытий
- •26. Методы нанесения углеродных слоёв
- •27. Радиационно-стимулированные методы обработки материалов
- •28. Элементарные процессы в плазме. Возбуждение атомов.
- •29. Элементарные процессы в плазме. Ионизация и рекомбинация.
- •31. Формирование плазмохимических неорганических покрытий
- •36. Физико-химические основы и технология нанесения гальванических покрытий.
- •37) Основы нанесения покрытий методом химических транспортных реакций
- •38) Технологические особенности нанесения методом химических транспортных реакций. Нанесение покрытий из вольфрама
- •39) Структурное состояние тонких покрытий
- •40) Размерный структурный эффект в тонких покрытиях
- •41) Псевдоморфизм в тонких покрытиях. Образование сверхструктур. Свойства сверхструктур.
- •43) Механические свойства металлических покрытий. Адгезия. Теории адгезии.
- •44) Внутренние напряжения в покрытиях. Триботехнические свойства покрытий.
- •45) Электрические свойства металлических покрытий. Механизмы переноса заряда в островковых покрытиях.
- •46) Электронная эмиссия и электромагнитное излучение возникающие при прохождении электрического тока в диспергированных покрытиях.
25. Реактивные методы нанесения вакуумных покрытий
реактивные методы получения покрытий сложного состава, заключающиеся в испарении исходного металла в среде реакционно-способного газа и создании условий, при которых на поверхности протекают химические реакции, приводящие к образованию химических соединений. Продукты этих реакций и образуют покрытие, т. к. процесс химического взаимодействия протекает, как правило, на поверхности.
Реактивными методами получают покрытия, например, SiO2, Al2O3 (корунд), TiN, TiC и другие.
26. Методы нанесения углеродных слоёв
Углеродные алмазоподобные покрытия обладают рядом уникальных свойств, в числе которых высокие твердость, теплопроводность и износостойкость, низкий коэффициент трения.
Все существующие вакуумные методы получения алмазоподобных покрытий (АПП) можно условно разбить на две группы: термические и плазмохимические. К термическим относят методы, при реализации которых основным фактором является тепловое воздействие. В основе плазмохимических методов лежат процессы генерации газовой фазы, ее активации и ионизации в электрических разрядах различной природы. Они наиболее распространены и позволяют получать покрытия с более высокими физико-механическими свойствами.
|
||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
27. Радиационно-стимулированные методы обработки материалов
При быстрой закалке в результате MИП-обработки сталей в твердом состоянии, кроме эффекта пересыщения твердого раствора углеродом и легирующими элементами, происходит существенное измельчение зерна и частиц карбидных фаз, что повышает твердость и прочность стали. В частности, при обработке инструментальной стали смешанным пучком ионов H+ и C+ (энергия ионов 0,5-1,0 МэВ, энерговыделение 10 Дж/см2, длительность импульса 40 нс) происходит растворение карбидов, переход углерода в твердый раствор α-Fe и измельчение зерна до 20 нм. Микротвердость инструментальной стали в результате обработки увеличивается с 330 до 900 МПа, а работоспособность инструмента возрастает в 1,7-3,5 раза. Воздействие импульса МИП при больших плотностях тока ионов (100 А/см2) сопровождается интенсивным удалением атомов с поверхности мишени, в основе которого лежит комбинированный механизм распыления, испарения и ионизации атомов. Этот процесс эрозии можно считать радиационно-стимулированным испарением.