- •Лавинно-пролітний діод
- •Будова і зонна діаграма
- •Принципи генерації
- •Типова конструкція лдп
- •Використання лпд для генерації нвч-коливань
- •Параметри лпд
- •Діод Ганна
- •Зона структура матеріалу
- •Механізм генерації
- •Утворення доменів
- •Режим прольоту
- •Умова реалізації генерації
- •Генерація нвч-коливань в діодах
- •Недоліки та переваги генераторів ганна
- •Оптоелектроніка
- •Переваги ое
- •Недоліки ое
- •Основні прилади ое
- •Основні поняття оптики
- •Електромагнітні хвилі
- •Механізми поглинання світла
- •Заломлення та відбиття cвітла
- •Формула друде-фойгта
- •Спектри пропускання та відбиття
- •Прямозонні та непрямозонні матеріали
- •Визначення Еg
- •Екситонне поглинання
- •Люмінесценція
- •Фоторезистивний ефект
- •Оптоелектроніка
- •Напівпровідники для виготовлення джерел світла світлодіоди
- •Параметри світлодіодів
- •Напівпровідникові лазери
- •Напівпровідникові фотоприймачі
- •Напівпровідникові фотоприймачі
- •Фотодіоди
- •Фотодіоди
- •Фотоприймачі з внутрішнім підсиленням
- •Основні параметри фотоприймачів
- •Фізичні принципи роботи се
- •Конструкція се
- •Поява струму при освітлені
- •Процеси у фотоперетворювачах
- •Точка максимальної потужності
- •Еквівалентна схема се
- •Сонячний спектр в космосі та на землі
- •Обмеження ефективності се
- •3) Напруга холостого ходу (Voc).
- •Для даного сонячного спектру, існує оптимальна ширина забороненої зони матеріалу
- •Гетеропереходи
- •Характеристики тонкоплівкових феп
- •Стан гетерограниці
- •Вплив границь зерен
- •Типи потенціальних бар’єрів на межі зерна
- •Вплив часу життя носіїв заряду на характеристики се
- •Нові матеріали поглинаючих шарів се
- •Багатоперехідні (каскадні) сонячні перетворювачі
- •Оптрони та їх застосування
- •Зростання ккд се
- •Оптрони та їх застосування
- •Оптрони та їх застосування
- •Оптрони та їх застосування
- •Основи мікроелектроніки
- •Елементи конструкції іс
- •Класифікація ic
- •Система умовних позначень іс
- •Гібридні ic
- •2 Необхідно мати універсальні іс.
- •Гібридна технологія
- •Плівкові конденсатори
- •Технологія створення ic
- •Технологія виготовлення інтегральних мдн- структур
- •Ізоляція
- •Біполярні транзистори
- •Багатоемітерні транзистори
- •Бт з бар'єром шотткі
- •Мон (мдн)- транзистори
- •Резистори
- •Конденсатори
- •Іс з інжекційним живленням
- •Іс з інжекційним живленням
Елементи конструкції іс
-
Корпус ІС – призначений для захисту ІС від зовнішніх впливів і для з'єднання із зовнішніми електричними колами за допомогою виводів. Разом із корпусними випускаються і безкорпусні ІС.
-
Підкладка ІС – заготовка, призначена для виготовлення на ній елементів гібридних ІС, міжз’єднань і контактних площадок.
-
Напівпровідникова пластина заготовка з напівпровідникового матеріалу, яка застосовується для виготовлення напівпровідникових інтегральних схем (рис. поз. 1).
-
Кристал ІС, чіп – частина напівпровідникової пластини (прямокутник 5х5 мм), у об'ємі і на поверхні якої сформовані елементи ІС, міжз’єднання і контактні майданчики (рис. поз. 2).
-
Контактні майданчики – металізовані ділянки на підкладці або кристалі, призначені для приєднання до виводів корпуса ІС, а також для контролю її електричних параметрів і режимів (рис. поз. 3).
-
Мікроскладання – мікроелектронний виріб, який виконує певну функцію і складається з елементів, компонентів і інтегральних схем (корпусних і безкорпусних) з метою мікромініатюризації електронної техніки.
-
Мікроблок – мікроелектронний виріб, який, окрім мікроскладань, містить ще інтегральні схеми і компоненти.
-
Серія ІС – це сукупність ІС, які можуть виконувати різноманітні функції, але мають єдине конструктивно-технологічне використання і призначені для спільного застосування (напр., серія 133, серія 155, серія 140)
Напівпровідникова
пластина, чіп, контактний майданчик
Класифікація ic
-
1. За технологією виготовлення ІС поділяють на:
напівпровідникові;
плівкові;
гібридні.
-
2. За функціональними призначеннями:
аналогові (АІС);
цифрові (ЦІС).
-
3. За ступенем інтеграції, який оцінюється показником k = lgNe,
де Ne – число елементів і компонентів у складі ІС:
малої інтеграції:
Ne ≤ 10, k = 1,
10 < Ne ≤ 100, k = 2;
середньої інтеграції:
100 < Ne ≤ 1000, k = 3;
великі інтегральні схеми (ВІС):
1000 < Ne ≤ 10000, k = 4;
надвеликі інтегральні схеми (НВІС):
10000 < Ne ≤ 100000, k = 5.
-
4. За функціональними можливостями:
універсальні;
спеціалізовані.
-
5. За типом основного активного елемента:
ІС на біполярних транзисторах;
ІС на уніполярних транзисторах (МДН, КМДН).
-
6. За конструктивним виконанням:
корпусні;
без корпусні.
Система умовних позначень іс
-
Упроваджена на підставі ГОСТ 17021-75
-
1-й елемент: 1, 5, 6, 7 – напівпровідникові ІС;
-
2, 4, 8 - гібридні ІС;
-
3 - інші (плівкові, вакуумні).
-
2-й елемент
Означає порядковий номер розробки (точніше, даної серії). Може містити 2-3 цифри.
-
3-й елемент: ЛА – логічний елемент І – НЕ; ЕН – стабілізатор напруги; ТВ – JК тригер; ТМ – D-тригер; ТМ D-тригер; ТР – RS-тригер; ІP – регістр; ІE – лічильник; СА – компаратор; ПВ – АЦП; ПА – ЦАП; УВ – підсилювач ВЧ; УР – підсилювач проміжної частоти; УН – підсилювач НЧ; УВ – відеопідсилювач; УЕ – емітерний повторювач; ФВ – фільтр ВЧ; ФН – фільтр НЧ; ГС – генератор синусоїдних сигналів.

