- •Лавинно-пролітний діод
- •Будова і зонна діаграма
- •Принципи генерації
- •Типова конструкція лдп
- •Використання лпд для генерації нвч-коливань
- •Параметри лпд
- •Діод Ганна
- •Зона структура матеріалу
- •Механізм генерації
- •Утворення доменів
- •Режим прольоту
- •Умова реалізації генерації
- •Генерація нвч-коливань в діодах
- •Недоліки та переваги генераторів ганна
- •Оптоелектроніка
- •Переваги ое
- •Недоліки ое
- •Основні прилади ое
- •Основні поняття оптики
- •Електромагнітні хвилі
- •Механізми поглинання світла
- •Заломлення та відбиття cвітла
- •Формула друде-фойгта
- •Спектри пропускання та відбиття
- •Прямозонні та непрямозонні матеріали
- •Визначення Еg
- •Екситонне поглинання
- •Люмінесценція
- •Фоторезистивний ефект
- •Оптоелектроніка
- •Напівпровідники для виготовлення джерел світла світлодіоди
- •Параметри світлодіодів
- •Напівпровідникові лазери
- •Напівпровідникові фотоприймачі
- •Напівпровідникові фотоприймачі
- •Фотодіоди
- •Фотодіоди
- •Фотоприймачі з внутрішнім підсиленням
- •Основні параметри фотоприймачів
- •Фізичні принципи роботи се
- •Конструкція се
- •Поява струму при освітлені
- •Процеси у фотоперетворювачах
- •Точка максимальної потужності
- •Еквівалентна схема се
- •Сонячний спектр в космосі та на землі
- •Обмеження ефективності се
- •3) Напруга холостого ходу (Voc).
- •Для даного сонячного спектру, існує оптимальна ширина забороненої зони матеріалу
- •Гетеропереходи
- •Характеристики тонкоплівкових феп
- •Стан гетерограниці
- •Вплив границь зерен
- •Типи потенціальних бар’єрів на межі зерна
- •Вплив часу життя носіїв заряду на характеристики се
- •Нові матеріали поглинаючих шарів се
- •Багатоперехідні (каскадні) сонячні перетворювачі
- •Оптрони та їх застосування
- •Зростання ккд се
- •Оптрони та їх застосування
- •Оптрони та їх застосування
- •Оптрони та їх застосування
- •Основи мікроелектроніки
- •Елементи конструкції іс
- •Класифікація ic
- •Система умовних позначень іс
- •Гібридні ic
- •2 Необхідно мати універсальні іс.
- •Гібридна технологія
- •Плівкові конденсатори
- •Технологія створення ic
- •Технологія виготовлення інтегральних мдн- структур
- •Ізоляція
- •Біполярні транзистори
- •Багатоемітерні транзистори
- •Бт з бар'єром шотткі
- •Мон (мдн)- транзистори
- •Резистори
- •Конденсатори
- •Іс з інжекційним живленням
- •Іс з інжекційним живленням
Оптрони та їх застосування
-
До основних параметрів оптрона належать:
коефіцієнт передачі - K=Uвих/Uвх;
швидкодія - V;
опір розв’язки - Rp >1012 Ом;
ємність розв’язки - Cp~1014 Ф.
-
Переваги оптронів:
1. Можливість керувати високою напругою за допомогою низької напруги завдяки високій електричній ізоляції (Rp > 1012 Ом).
2. Широка смуга пропускання (від постійної складової до гігагерців).
3. Фізична і конструктивна різноманітність, широта функціональних можливостей.
-
Оптронам властиві і деякі недоліки. До них належать висока споживана потужність, сильна температурна залежність характеристик, складність виготовлення, високий рівень власних шумів.
-
Залежно від виду фотоприймача розрізняють (рис.) діодні, резисторні, транзисторні, тиристорні оптрони.
Схемні позначення
різновидів оптронів:
а) діодний; б)
резисторний; в) транзисторний; г)
тиристорний
Оптрони та їх застосування
Швидкий розвиток
оптоелектроніки зробив можливим у
багатьох випадках замінити елементи
електронних схем оптронами. Деякі
приклади такої заміни наведені у табл.
|
Електрорадіокомпонент |
Оптронний аналог |
|
І |
|
|
П |
|
|
З |
|
|
П |
|
|
|
|
Основи мікроелектроніки
-
Мікроелектроніка – це галузь електроніки, пов'язана з розробленням, виготовленням і експлуатацією мікроелектронних виробів.
-
Розвиток електронної техніки у другій половині ХХ століття відбувається за такими етапами.
-
1. 50-ті роки ХХ ст. – етап вакуумної електроніки. Елементна база останньої – елекронно-вакуумні прилади. Відбувається мініатюризація електронних ламп і пасивних елементів, оптимізація їх характеристик і параметрів, застосовується об'ємний монтаж. Це дозволило підвищити щільність упакування до 200 елементів на 1 дм³ (0,2 елемента на 1 см³).
-
2. 60-ті роки ХХ ст. – етап дискретної напівпровідникової електроніки. Здобутки цього етапу відображені, зокрема, в попередніх розділах цього навчального посібника. Поява і широке впровадження транзисторів, які разом з мініатюрними пасивними елементами утворюють якісний стрибок у мініатюризації пристроїв електроніки, сприяють підвищенню надійності, економічності, зниженню габаритів і маси. Актуалізуються функціонально-вузловий метод конструювання електронної техніки: не з окремих радіодеталей, а з уніфікованих функціональних вузлів – підсилювачів, генераторів, перетворювачів, тригерів тощо. Застосовуються модулі (мікромодулі) із щільністю упакування 2 елементи на 1 см³.
-
3. 70-ті роки ХХ ст. – етап мікроелектроніки. Перехід до застосування інтегральних схем (ІС). «Схема» в цьому терміні набуває нового значення: це пристрій, вузол. «Інтегральна» вказує на об'єднання великої кількості електрично з'єднаних елементів у одному виробі (корпусі). В ІС зникає необхідність застосування численних паяних з'єднань, які знижують надійність; зменшуються габарити і маса, а відтак вартість електронних виробів, оскільки зменшується кількість складальних і монтажних операцій. ІС на цьому етапі містять у собі 10-40 еквівалентних елементів (біполярних транзисторів, резисторів, конденсаторів, МДН-структур тощо). Кожна інтегральна схема виконує порівняно просту закінчену функцію (підсилювач, формувач, логічний елемент, тригер, лічильник тощо) і оформляється в автономному корпусі. Подальший розвиток мікромініатюризації до 1000 елементів на кристалі.
-
4. 80-ті роки ХХ ст. – етап комплексної мікромініатюризації електронної техніки, етап великих інтегральних схем (ВІС) і надвеликих інтегральних схем (НВІС). ВІС порівняно з ІС малого рівня інтеграції більш надійні, дешевші, менші за габаритами. Поява мікропроцесорів дозволила замінити апаратурне (схемне) проектування електронної техніки програмуванням універсальних структур згідно з виконуваною ними функцією.
-
5. 90-ті роки ХХ ст. – оголошений етап так званої функціональної мікроелектроніки. Втім, на пострадянському просторі внаслідок великих політико-економічних зрушень цей етап був значною мірою провалений, хоча світова електроніка продовжувала неухильно розвиватися. Елементна база цього етапу – ІС, які функціонують на базі нових фізичних явищ і принципів (оптоелектроніка, акустоелектроніка, хемоелектроніка, магнітоелектроніка, поляроніка тощо). Особливістю елементів функціональної мікроелектроніки є застосування середовищ з розподіленими параметрами, в яких не вдається виділити окремі області, що виконують функції звичайних радіоелементів. Тому зрештою це електронні схеми, які не містять елементів і міжз’єднань у звичайному розумінні. Такі схеми можна характеризувати лише в цілому з огляду на функцію, що ними виконуються, причому вони можуть мати такі характеристики, яких не мають звичайні радіосхеми.
-
Мікроелектронний виріб – електронний пристрій з високим ступенем інтеграції (об'єднання) електрорадіоелементів.
-
Інтегральна схема (ІС) – мікроелектронний виріб, який виконує певну функцію перетворення та обробки сигналів і має високу щільність упакування електрично з'єднаних елементів (більше ніж 5 елементів на 1 см³). З точки зору виготовлення і експлуатації ІС розглядається як єдине ціле і складається з елементів та компонентів.
-
Елемент ІС – частина ІС, що реалізує функцію будь-якого радіоелемента (транзистор, діод, резистор, конденсатор). Він не може бути відділеним від ІС як самостійний виріб і виконаний у кристалі ІС. Наприклад, елементами ІС є біполярні транзистори і діоди у напівпровідникових мікросхемах, плівкові резистори в гібридних мікросхемах.
-
Компонент ІС – частина ІС, яка реалізує функцію будь-якого електрорадіоелемента. Однак компонент є самостійним виробом, що виготовляється окремо від ІС і може бути відділений від ІС. Наприклад, біполярні транзистори і діоди в гібридних ІС.
-
Напівпровідникова ІС – це ІС, у якої всі елементи і міжз’єднання виконані в об'ємі і на поверхні напівпровідникової пластини (рис. ).

м
Структура
напівпровідникової ІС
-
Плівкова ІС - це ІС, у якої всі елементи і міжз’єднання виконані у вигляді різних плівок, нанесених на поверхню діелектричної підкладки.
-
Гібридна ІС являє собою комбінацію плівкових пасивних елементів і активних компонентів, розміщених на спільній діелектричній підкладці (рис. ).
-
Суміщена ІС це мікросхема, в якій активні елементи розміщені в об'ємі напівпровідникового кристала, а пасивні, виготовлені за плівковою технологією, наносяться на попередньо ізольовану діелектриком поверхню напівпровідникового кристала (рис. ).
Структура
ГІС

мпульсний
трансформатор

