- •Лавинно-пролітний діод
- •Будова і зонна діаграма
- •Принципи генерації
- •Типова конструкція лдп
- •Використання лпд для генерації нвч-коливань
- •Параметри лпд
- •Діод Ганна
- •Зона структура матеріалу
- •Механізм генерації
- •Утворення доменів
- •Режим прольоту
- •Умова реалізації генерації
- •Генерація нвч-коливань в діодах
- •Недоліки та переваги генераторів ганна
- •Оптоелектроніка
- •Переваги ое
- •Недоліки ое
- •Основні прилади ое
- •Основні поняття оптики
- •Електромагнітні хвилі
- •Механізми поглинання світла
- •Заломлення та відбиття cвітла
- •Формула друде-фойгта
- •Спектри пропускання та відбиття
- •Прямозонні та непрямозонні матеріали
- •Визначення Еg
- •Екситонне поглинання
- •Люмінесценція
- •Фоторезистивний ефект
- •Оптоелектроніка
- •Напівпровідники для виготовлення джерел світла світлодіоди
- •Параметри світлодіодів
- •Напівпровідникові лазери
- •Напівпровідникові фотоприймачі
- •Напівпровідникові фотоприймачі
- •Фотодіоди
- •Фотодіоди
- •Фотоприймачі з внутрішнім підсиленням
- •Основні параметри фотоприймачів
- •Фізичні принципи роботи се
- •Конструкція се
- •Поява струму при освітлені
- •Процеси у фотоперетворювачах
- •Точка максимальної потужності
- •Еквівалентна схема се
- •Сонячний спектр в космосі та на землі
- •Обмеження ефективності се
- •3) Напруга холостого ходу (Voc).
- •Для даного сонячного спектру, існує оптимальна ширина забороненої зони матеріалу
- •Гетеропереходи
- •Характеристики тонкоплівкових феп
- •Стан гетерограниці
- •Вплив границь зерен
- •Типи потенціальних бар’єрів на межі зерна
- •Вплив часу життя носіїв заряду на характеристики се
- •Нові матеріали поглинаючих шарів се
- •Багатоперехідні (каскадні) сонячні перетворювачі
- •Оптрони та їх застосування
- •Зростання ккд се
- •Оптрони та їх застосування
- •Оптрони та їх застосування
- •Оптрони та їх застосування
- •Основи мікроелектроніки
- •Елементи конструкції іс
- •Класифікація ic
- •Система умовних позначень іс
- •Гібридні ic
- •2 Необхідно мати універсальні іс.
- •Гібридна технологія
- •Плівкові конденсатори
- •Технологія створення ic
- •Технологія виготовлення інтегральних мдн- структур
- •Ізоляція
- •Біполярні транзистори
- •Багатоемітерні транзистори
- •Бт з бар'єром шотткі
- •Мон (мдн)- транзистори
- •Резистори
- •Конденсатори
- •Іс з інжекційним живленням
- •Іс з інжекційним живленням
Тема: «Лавинно-пролітниі діоди».
Лавинно-пролітний діод
-
Нагальна необхідність мініатюризації апаратури НВЧ, підвищення її економічності і надійності викликала швидке зростання робочих частот напівпровідникових приладів. Поряд з великими успіхами в технології транзисторів цьому сприяло відкриття нових фізичних явищ в напівпровідниках.
-
Одним з перших явищ такого роду було виявлене НВЧ випромінювання при ударній іонізації в р-п - переходах, яке послужило основою для створення нових приладів – лавинно-пролітних діодів (ЛПД).
-
Лавинно-пролітний діод - напівпровідниковий діод, що має негативний диференціальний опір в НВЧ- діапазоні внаслідок розвитку так званої лавинно-пролітної нестійкості. Остання обумовлена ударною іонізацією та дрейфом носіїв заряду в р-n - переході в режимі зворотного зміщення.
-
Теоретичні розробки з описом ідеї створення ЛПД вперше були викладені У. Рідом в 1958 році, тому базовий варіант лавинно-пролітного діода на основі асиметричного p-n-переходу зазвичай називають діодом Ріда.
-
Генерація НВЧ коливань в такого сорту германієвих структур вперше спостерігалася в 1959 році Тагером А.С., а потім в 1965 році на кремнієвих діодах Р. Л. Джонсоном.
-
Виникнення негативного опору в ЛПД обумовлено двома фізичними процесами, що мають кінцеві часи протікання в області просторового заряду (ОПЗ) p-n-переходу в режимі лавинного множення. Перший процес пов'язаний з часом наростання лавинного струму, а другий процес пов'язаний з проходженням носіїв через пролітну область. Їх суперпозиція призводить до появи фазового зсуву між струмом і напругою на відводах діода. Одним з основних критеріїв, необхідним для роботи ЛПД, є приблизна рівність між періодом коливань НВЧ поля і характерним часом прольоту носіїв через ОПЗ.
-
В наш час ЛПД є одним з найбільш потужних джерел НВЧ-випромінювання.
-
Основними представниками сімейства ЛПД є діод Ріда, асиметричний різкий p-n-перехід, симетричний p-n-перехід (діод з двома дрейфовими областями), діод з двошаровою базою, діод з тришаровою базою (модифікований діод Ріда) і p-i-n-діод.
-
Для виготовлення ЛПД використовують кремній та арсенід галію.
Будова і зонна діаграма
-
Розглянемо будову і параметри ЛПД на основі класичного діода Ріда зі структурою p+-n-i-n+ (рис.). Діод складається з сильно легованого р+-еміттера і неоднорідно легованої n-бази (рис. 1, а). Вузький шар n-бази легований сильно (n-шар), інша частина бази легована слабо (i-шар). Розподіл поля в такій структурі для зворотної напруги U0, більшої, ніж напруга пробою Ui, показано на рис. 1 (б). При цьому напруженість поля в області р-n-переходу перевищує поле ударної іонізації Ei і поблизу р-n-переходу генеруються електронно-діркові пари (область множення). Дірки швидко пролітають до електрода крізь вузький сильно легований емітер, не надаючи істотного впливу на роботу приладу. Електрони, покинувши область множення, пролітають потім протяжну слабо леговану n- область (область дрейфу).
|
|
В області множення і в області дрейфу електрони рухаються з однією і тією ж дрейфовою швидкістю, що не залежить від напруженості поля - швидкістю насичення υs. Значення поля Es, при якому дрейфова швидкість електронів насичується, становить для електронів в Si і GaAs величину 104 В/см, що значно менше значення поля в області множення (3-5) 105 В/см. Характерне значення υs ~107 см/с.
|
|
Схема, зонна діаграма, розподіл концентрації легуючої домішки N, електричного поля E та коефіцієнта ударної іонізації a в діоді Ріда при напрузі, близькій до напруги лавинного пробою |

