
- •“ТВЕРДОТІЛЬНА ЕЛЕКТРОНІКА“
- •ЛІТЕРАТУРА
- •ОЦІНЮВАННЯ
- •ШКАЛА ОЦІНЮВАННЯ ЗНАНЬ СТУДЕНТІВ
- •ЛАВИННО-ПРОЛІТНІ ДІОДИ
- •БУДОВА І ЗОННА ДІАГРАМА
- •ПРИНЦИПИ ГЕНЕРАЦІЇ
- •ТИПОВА КОНСТРУКЦІЯ ЛПД
- •ВИКОРИСТАННЯ ЛПД ДЛЯ ГЕНЕРАЦІЇ НВЧ-КОЛИВАНЬ
- •ПАРАМЕТРИ ЛПД
- •ДІОДИ ГАННА
- •ЗОННА СТРУКТУРА МАТЕРІАЛУ
- •МЕХАНІЗМ ГЕНЕРАЦІЇ
- •МЕХАНІЗМ ГЕНЕРАЦІЇ
- •УТВОРЕННЯ ДОМЕНІВ
- •РЕЖИМ ПРОЛЬОТУ
- •УМОВА РЕАЛІЗАЦІЇ ГЕНЕРАЦІЇ
- •ГЕНЕРАЦІЯ НВЧ-КОЛИВАНЬ В ДІОДАХ
- •НЕДОЛІКИ ТА ПЕРЕВАГИ ГЕНЕРАТОРІВ ГАННА
- •ОПТОЕЛЕКТРОНІКА
- •ПЕРЕВАГИ ОЕ
- •НЕДОЛІКИ ОЕ
- •ОСНОВНІ ПРИЛАДИ ОЕ
- •ОСНОВНІ ПРИЛАДИ ОЕ
- •ОСНОВНІ ПОНЯТТЯ ОПТИКИ
- •ЕЛЕКТРОМАГНІТНІ ХВИЛІ
- •ЗОННА ДІАГРАМА МАТЕРІАЛІВ
- •МЕХАНІЗМИ ПОГЛИНАННЯ СВІТЛА
- •ЗАКОНИ ПОГЛИНАННЯ СВІТЛА
- •ЗАЛОМЛЕННЯ ТА ВІДБИТТЯ CВІТЛА
- •ФОРМУЛА ДРУДЕ-ФОЙГТА
- •СПЕКТРИ ПРОПУСКАННЯ ТА ВІДБИТТЯ
- •ПРЯМОЗОННІ ТА НЕПРЯМОЗОННІ МАТЕРІАЛИ
- •ПОГЛИНАННЯ СВІТЛА
- •ВИЗНАЧЕННЯ Еg
- •ЕКСИТОННЕ ПОГЛИНАННЯ
- •ЛЮМІНЕСЦЕНЦІЯ
- •ІНЖЕКЦІЙНА ТА УДАРНА ЛЮМІНЕСЦЕНЦІЯ
- •ФОТОРЕЗИСТИВНИЙ ЕФЕКТ
- •ОПТОЕЛЕКТРОНІКА
- •НАПІВПРОВІДНИКИ ДЛЯ ВИГОТОВЛЕННЯ ДЖЕРЕЛ СВІТЛА
- •СВІТЛОДІОДИ
- •СВІТЛОДІОДИ
- •ПАРАМЕТРИ СВІТЛОДІОДІВ
- •НАПІВПРОВІДНИКОВІ ЛАЗЕРИ
- •НАПІВПРОВІДНИКОВІ ЛАЗЕРИ
- •НАПІВПРОВІДНИКОВІ ЛАЗЕРИ
- •НАПІВПРОВІДНИКОВІ
- •НАПІВПРОВІДНИКОВІ
- •ФОТОДІОДИ
- •ФОТОДІОДИ
- •ФОТОПРИЙМАЧІ З ВНУТРІШНІМ ПІДСИЛЕННЯМ
- •ФОТОПРИЙМАЧІ З ВНУТРІШНІМ ПІДСИЛЕННЯМ
- •ОСНОВНІ ПАРАМЕТРИ ФОТОПРИЙМАЧІВ
- •ФІЗИЧНІ ПРИНЦИПИ РОБОТИ СЕ
- •КОНСТРУКЦІЯ СЕ
- •p-n ПЕРЕХІД В СТАНІ РІВНОВАГИ
- •ПОЯВА СТРУМУ ПРИ ОСВІТЛЕНІ
- •ПРОЦЕСИ У ФОТОПЕРЕТВОРЮВАЧАХ
- •ВАХ р-n-ПЕРЕХОДУ
- •ТОЧКА МАКСИМАЛЬНОЇ ПОТУЖНОСТІ
- •ЕКВІВАЛЕНТНА СХЕМА СЕ
- •СОНЯЧНИЙ СПЕКТР В КОСМОСІ ТА НА ЗЕМЛІ
- •ПОГЛИНАННЯ ФОТОНІВ У Si
- •ОБМЕЖЕННЯ ЕФЕКТИВНОСТІ СЕ
- •ОПТИМУМ ШОКЛІ-КВАЙСЕРА
- •МАКСИМАЛЬНИЙ ККД СЕ
- •ВТРАТИ ЕНЕРГІЇ У СЕ
- •ВПЛИВ ПОСЛІДОВНОГО І ШУНТУЮЧОГО ОПОРІВ
- •СЕ РІЗНИХ ПОКОЛІНЬ
- •РОЗПОДІЛ СЕ ЗА МАТЕРІАЛОМ
- •ВИГОТОВЛЕННЯ ФЕП НА ОСНОВІ Si
- •ПОВЕРХНЕВА РЕКОМБІНАЦІЯ
- •ГЕТЕРОПЕРЕХОДИ
- •ТИПОВА КОНСТРУКЦІЯ СЕ НА ОСНОВІ ГП
- •ХАРАКТЕРИСТИКИ ТОНКОПЛІВКОВИХ ФЕП
- •СТАН ГЕТЕРОГРАНИЦІ
- •ВПЛИВ ГРАНИЦЬ ЗЕРЕН
- •ТИПИ ПОТЕНЦІАЛЬНИХ БАР’ЄРІВ НА МЕЖІ ЗЕРНА
- •ВПЛИВ ЧАСУ ЖИТТЯ НОСІЇВ ЗАРЯДУ НА ХАРАКТЕРИСТИКИ СЕ
- •НОВІ МАТЕРІАЛИ ПОГЛИНАЮЧИХ ШАРІВ СЕ
- •БАГАТОПЕРЕХІДНІ (КАСКАДНІ) СОНЯЧНІ ПЕРЕТВОРЮВАЧІ
- •ОПТРОНИ ТА ЇХ ЗАСТОСУВАННЯ
- •ЗРОСТАННЯ ККД СЕ
- •ОПТРОНИ ТА ЇХ ЗАСТОСУВАННЯ
- •ОПТРОНИ ТА ЇХ ЗАСТОСУВАННЯ
- •ОПТРОНИ ТА ЇХ ЗАСТОСУВАННЯ
- •ОСНОВИ МІКРОЕЛЕКТРОНІКИ
- •ОСНОВИ
- •ОСНОВИ
- •ОСНОВИ
- •ЕЛЕМЕНТИ КОНСТРУКЦІЇ ІС
- •КЛАСИФІКАЦІЯ IC
- •СИСТЕМА УМОВНИХ ПОЗНАЧЕНЬ ІС
- •ГІБРИДНІ IC
- •ГІБРИДНА ТЕХНОЛОГІЯ
- •ПЛІВКОВІ КОНДЕНСАТОРИ
- •ТЕХНОЛОГІЯ СТВОРЕННЯ IC
- •ТЕХНОЛОГІЯ СТВОРЕННЯ IC
- •ТЕХНОЛОГІЯ ВИГОТОВЛЕННЯ ІНТЕГРАЛЬНИХ МДН- СТРУКТУР
- •ІЗОЛЯЦІЯ
- •БІПОЛЯРНІ ТРАНЗИСТОРИ
- •БАГАТОЕМІТЕРНІ ТРАНЗИСТОРИ
- •БТ З БАР'ЄРОМ ШОТТКІ
- •МОН (МДН)- ТРАНЗИСТОРИ
- •РЕЗИСТОРИ
- •КОНДЕНСАТОРИ
- •ІС З ІНЖЕКЦІЙНИМ ЖИВЛЕННЯМ
- •ІС З ІНЖЕКЦІЙНИМ ЖИВЛЕННЯМ
- •Дякую за увагу
“ТВЕРДОТІЛЬНА ЕЛЕКТРОНІКА“
Лектор проф. Опанасюк Анатолій Сергійович
Метою вивчення дисципліни є формування у студентів знань у області напівпровідникових приладів та особливостей їхнього застосування в електронних схемах.
У результаті вивчення дисципліни студенти повинні:
розширити свій науково-технічний кругозір в області елементів електронної техніки; придбати знання, необхідні інженеру, що займається експлуатацією пристроїв і систем промислової
електроніки.
Після засвоєння матеріалу навчальної дисципліни студент повинен: ЗНАТИ:
–фізичні принципи роботи приладів твердотільної електроніки що є основою їх функціонування;
–параметри і характеристики різних напівпровідникових приладів і елементів інтегральних мікросхем, необхідні для забезпечення їх штатних режимів роботи;
-експлуатаційні особливості та можливі застосування;
-типові аналогові та цифрові схемотехнічні рішення.
Опанасюк 1 А.С.
ЛІТЕРАТУРА
•Гуртов В.А. Твердотельная электроника: учеб. пос. / В.А. Гуртов. - 2-е изд., испр. и доп. - Москва: Изд-во ПетрГУ, 2005. - 492 с.
•Зи С. Физика полупроводниковіх приборов, Т.2 / С. Зи - Москва: Мир, 1984. - 456 с.
•Грудман М. Основы физики полупроводников. Нанофизика и технические приложения / Москва: Физматлит, 2012. – 772 с.
•Хорунжий В.А. Функціональна мікроелектроніка. Опто- і акустоелектроніка / В.А. Хорунжий – Харків: Основа, 1995. – 131 с.
•Суємацу Я., Катаока С., Кисино К., Кокубун Я. и др. Основы оптоэлектроники: Пер. с яп. – Москва: Мир, 1988. – 288 с.
•Берченко Н.Н. Справочные таблицы / Н.Н. Берченко, В.Е. Кревс, В.Г. Середин. – Москва: Воениздат, 1982. – 208 c.
•Курс лекцій з дисципліни «Твердотільна електроніка» / Укладачі: А.І. Новгородцев, О.А. Борисенко, О.М. Кобяков. - Суми: Вид-во СумДУ, 2008. – 205 с.
•Методичні вказівки до лабораторних занять з дисципліни «Напівпровідникові прилади» Укл. Любивий О.А. СумДУ, 2012 р.
Опанасюк А.С. 2
ОЦІНЮВАННЯ
Курс викладається 2 семестри: модульних циклів - 6 Структура навчальної дисципліни: 378 год./10,5 кредитів (4/6,5) Лк. – 40 год./20, практ. – 20 год./20 лаб. роб. – 20 год./20 ПМК - 1 семестр, ДСК - 2 семестр
Шкала оцінювання: R=100 балів
Нарахування балів:
присутність на лекції 10 1=10 балів практичні заняття 10 пр. 1,5 бали/пр.=15 балів
(з них 0,5 балів за присутність на практичному занятті та 1 бал за виконання завдань)
лабораторні заняття: 5 лаб. зан. 3 бали/лаб. = 15 балів
(1 бал за присутність на лабораторній роботі та 2 бали за захист лабораторної роботи)
модульні контролі: 3 5=15 балів. РГР 5 балів.
ДСК 40 балів.
3
Опанасюк А.С.

ШКАЛА ОЦІНЮВАННЯ ЗНАНЬ СТУДЕНТІВ
Сумма балів |
Оцінка ESTS |
Оцінка за національною шкалою |
|
|
ДСК або ПСК |
залік |
90-100 |
A |
відмінно |
зараховано |
82-89 |
B |
добре |
|
74-81 |
C |
|
|
64-73 |
D |
задовільно |
|
60-63 |
E |
|
|
35-59 |
FX |
незадовільно |
не зараховано |
1-34 |
F |
|
|
Практичні заняття: 1. ЛПД та діоди Ганна; 2. Основи оптики та оптоелектроніки; 3. Світлодіоди і випромінюючі лазери; 4. Фотодетектори; 5. Фотоелектричні перетворювачі
Опанасюк А.С. 4
ЛАВИННО-ПРОЛІТНІ ДІОДИ
•Нагальна необхідність мініатюризації апаратури НВЧ, підвищення її економічності і надійності викликала швидке зростання робочих частот напівпровідникових приладів. Поряд з великими успіхами в технології транзисторів цьому сприяло відкриття нових фізичних явищ в напівпровідниках.
•Одним з перших явищ такого роду було виявлене НВЧ випромінювання при ударній іонізації в р-п - переходах, яке послужило основою для створення нових приладів – лавинно-пролітних діодів (ЛПД).
•Лавинно-пролітний діод - напівпровідниковий діод, що має негативний диференціальний опір в НВЧ- діапазоні внаслідок розвитку так званої лавинно-пролітної нестійкості. Остання обумовлена ударною іонізацією та дрейфом носіїв заряду в р-n - переході в режимі зворотного зміщення.
•Теоретичні розробки з описом ідеї створення ЛПД вперше були викладені У. Рідом в 1958 році, тому базовий варіант лавинно-пролітного діода на основі асиметричного p-n-переходу зазвичай називають діодом Ріда.
•Генерація НВЧ коливань в такого сорту германієвих структур вперше спостерігалася в 1959 році Тагером А.С., а потім в 1965 році на кремнієвих діодах Р. Л. Джонсоном.
•Виникнення негативного опору в ЛПД обумовлено двома фізичними процесами, що мають кінцеві часи протікання в області просторового заряду (ОПЗ) p-n-переходу в режимі лавинного множення. Перший процес
пов'язаний з часом наростання лавинного струму, а другий процес пов'язаний з проходженням носіїв через пролітну область. Їх суперпозиція призводить до появи фазового зсуву між струмом і напругою на відводах діода. Одним з основних критеріїв, необхідним для роботи ЛПД, є приблизна рівність між періодом
коливань НВЧ поля і характерним часом прольоту носіїв через ОПЗ.
•В наш час ЛПД є одним з найбільш потужних джерел НВЧ-випромінювання.
•Основними представниками сімейства ЛПД є діод Ріда, асиметричний різкий p-n-перехід, симетричний p-n- перехід (діод з двома дрейфовими областями), діод з двошаровою базою, діод з тришаровою базою (модифікований діод Ріда) і p-i-n-діод.
•Для виготовлення ЛПД використовують кремній та арсенід галію.
Опанасюк А.С. 5

БУДОВА І ЗОННА ДІАГРАМА
•Розглянемо будову і параметри ЛПД на основі класичного діода Ріда зі структурою p+-n-i-n+ (рис.). Діод складається з сильно легованого р+-еміттера і неоднорідно легованої n-бази (рис. 1, а). Вузький шар n- бази легований сильно (n-шар), інша частина бази легована слабо (i-шар). Розподіл поля в такій структурі для зворотної напруги U0, більшої, ніж напруга пробою Ui, показано на рис. 1 (б). При цьому напруженість поля в області р-n-переходу перевищує поле ударної іонізації Ei і поблизу р-n-переходу генеруються електронно-діркові пари (область множення). Дірки швидко пролітають до електрода крізь вузький сильно легований емітер, не надаючи істотного впливу на роботу приладу. Електрони, покинувши область множення, пролітають потім протяжну слабо леговану n- область (область дрейфу).
В області множення і в області дрейфу електрони рухаються з однією і тією ж дрейфовою швидкістю, що не залежить від напруженості поля - швидкістю насичення υs. Значення поля Es, при якому дрейфова
швидкість електронів насичується, становить для електронів в Si і GaAs величину 104 В/см, що значно менше значення поля в області множення (3-5) 105 В/см. Характерне значення υs ~107 см/с.
Схема, зонна діаграма, розподіл концентрації легуючої домішки N, електричного поля E та коефіцієнта ударної іонізації в діоді Ріда при напрузі, близькій до напруги лавинного пробою
Опанасюк А.С. 6

ПРИНЦИПИ ГЕНЕРАЦІЇ
•Нехай крім постійної напруги U0 до діода прикладена змінна напруга U частотою f (рис. а). З ростом напруги U відбувається різке збільшення концентрації носіїв в області множення внаслідок експоненціального характеру залежності коефіцієнта ударної іонізації від поля. Однак оскільки швидкість росту концентрації електронів dn/dt пропорційна вже наявній в області множення концентрації n, момент, коли n досягає максимуму, запізнюється по відношенню до моменту, коли максимуму досягає напруга на діод (рис. б). В умовах, коли υs не залежить від поля, струм провідності в області множення Iс пропорцій концентрації n: Ic = enυsS (е - заряд електрона, S - площа діода). Тому крива на рис. б являє собою також і
залежність струму Ic в області множення від часу.
Коли напруга на діоді спадає і концентрація носіїв в області множення різко зменшується, струм на електродах приладу I (повний струм) залишається постійним (рис. в). Згусток електронів що сформувався в області множення рухається через область дрейфу з постійною швидкістю υs. Поки згусток електронів не увійде у контакт, струм через
діод залишається постійним (теорема Рамо - Шоклі). З порівняння рис. а і в видно, що напруга, яка подається на ЛПД, коливається практично в
протифазі зі струмом, таким чином має місце від'ємний диференціальне опір. Цей опір є частотно-залежним. Час прольоту носіїв через область дрейфу, t =L/υs, де L-довжина області дрейфу, практично
дорівнює повній довжині діода. Зміщення фаз між струмом і напругою може бути реалізоване тільки на частоті f =1/t (і на гармоніках). Більш точний розрахунок встановлює співвідношення між f і L:
f = v/L.
Залежність напруги (а), концентрації носіїв (б) та струму (в) на ЛПД від часу
Опанасюк А.С. 7

ТИПОВА КОНСТРУКЦІЯ ЛПД
•Механізм виникнення від'ємного диференціального опору є малосигнальним: коливання спонтанно
наростають в резонаторі, налаштованому на відповідну частоту, при подачі на діод досить великого постійного зміщення.
•На рис.1 і 2 показана типова структура та конструкція ЛПД із структурою р+-n-n+, змонтованого на тепловідводній пластині.
Структура лавинно-пролітного діода 1 - контактний шар;
3 2 – область утворення лавини (р-n-перехід); 3 – область дрейфу електронів; 4 - область дрейфу дірок
Конструкція лавинно-пролітного діода з мезаструктурою, змонтованої на тепловідводі:
1 - омічний контакт;
2 - сильно легований шар з електронною провідністю (n+- шар);
3 - слабко легований шар з електронною провідністю (n- шар); 4 - сильно легований шар з дірковою провідністю (р+ - шар);
5 - тепловідводна металізована пластина Опанасюк А.С. 8

ВИКОРИСТАННЯ ЛПД ДЛЯ ГЕНЕРАЦІЇ НВЧ-КОЛИВАНЬ
•Напівпровідникова ЛПД структура зазвичай монтується в типовий НВЧ корпус. Як правило, діод кріпиться дифузійною областю або металевим електродом на мідний або алмазний тепловідвід для забезпечення ефективного охолодження p-n-переходу під час роботи. Для роботи на частотах, що відповідають резонансної частоті власного контуру діода, достатньо помістити його в розріз коаксіального контуру. При роботі на частотах, відмінних від частоти власного контуру діода, останній розміщують у зовнішньому резонаторі. На рис.1 показана типова схема НВЧ резонатора для вимірювання спектра НВЧ коливань, що генеруються ЛПД, а на рис.2 - спектр НВЧ коливань, що генеруються ЛПД в режимі лавинного множення з негативним опором.
НВЧ-резонатор для ЛПД міліметрового |
Спектр коливань, що генеруються p-i-n- |
діапазону довжин хвиль |
діодом (U = 54 В) |
Опанасюк А.С. 9

ПАРАМЕТРИ ЛПД
•ЛПД широко застосовується для генерування і посилення коливань в діапазоні частот f = (1-400) ГГц. Найбільша вихідна потужність діапазону Рвих = (1-3) ГГЦ отримана в приладах із захопленим об'ємним зарядом лавин, становить сотні Ват в імпульсі. Для безперервного режиму області сантиметрового діапазону найбільше значення вихідної потужності і ККД досягнуте на ЛПД з модифікованою структурою Ріда на основі GaAs і становить Рвих = 15 Вт на частоті 6 ГГц.
•На рис. наведено характерні параметри різних типів ЛПД (вихідна потужність, частота і коефіцієнт корисного дії), як для імпульсного, так і для безперервного режиму НВЧ генерації.
Характеристики ЛПД. Поруч у експериментальними точками вказані значення ККД в процентах. SD - одна область дрейфу; DD - дві області дрейфу
Опанасюк А.С. 10