
Основы наноелектроники / Основы наноэлектроники / ИДЗ / Книги и монографии / Нанотехнологии (Пул), 2005, c.325
.pdfГлава З. Методы измерений
(а) |
(б) |
(в] |
(г) |
(д) |
(е) |
(ж)
Рис. 3.13. Обработка изображения частиц Ni на Si02 субстрате с просвечивающего электронного микроскопа. (а) - первена чальвое изображение, (б) - пространсг венное быстрое преобраэование Фурье снимка (а), (в) - изображение, полученное с апертурным фильтром, показанным на врезке, (г) - дальнейшая обработка изоб ражения с дрyrим апертурным фильтром, показанным на врезке, (д) - окончатель ное изображение, (е) - изображение субстрата, полученное вычитанием изоб ражения частицы, (ж) - модель наночасти
цы, воссозданная на основе полученных
данных.
Кроме прошедших насквозь
ипродифрагировавших электронов
впучке присутствуют и электроны,
испытавшие в образце неупругие со
ударения и потерявшие энергию, по
траченную на создание возбуждений в образце. это может произойти при возбуждении колебаний атомов, нахо
дившихся около траектории пролета
электрона, и, следовательно, возбуж дении фононов, распространяющихся по кристаллу Если образец металли ческий, электрон может испытать не упругое рассеяние из-за возбуждения
плазмона, то есть коллективного воз
буждения в электронном газе в зоне проводимости. Третьим очень важным
источником неупругого рассеяния
служит генерация одноэлектронных
возбуждений атомов. Этот процесс
может затрагивать внутренние эяек
тронные оболочки атомов, например, может произойти переброс электрона с К (n = 1) или L (n = 2) уровня на бо лее высокий квантовый уровень ато ма, в зону проводимости или вообще выбивание этого электрона из образца (ионизация). Меньшие потери энер ГИИ могут произойти при перебросе электрона из валентной зоны полу проводника в зону проводимости. Та кое возбуждение может релаксироватъ
посредством перехода электрона в ос
новное состояние с испусканием све
та. Характеристики этого вторичного
излучения часто могут дать полезную
информацию об образце. Этот тип пе
реходов используется во многих раз
делах электронной спектроскопии. Данную методику можно использо
вать для исследования поверхности,
так как глубина проникновения элек тронов в образец мала.
З.3. Микроскопия ~,.:)
3.3.2. Нонно-nолевая.микроскопия
Другая техника, дающая разрешение, приближаюшеесяк межатомнымрасстоя ниям, это ионно-полеваямикроскопия. В ионно-полевоммикроскопе на метал
лическую иглу с острым кончиком, находящуюся в камере с высоким вакуумом,
подаетсяположительныйпотенциал. И электрическоеполе, и его градиентвбли зи острия весьма велики, так что остаточные молекулы газа при приближении
к нему ионизируются, передавая электроны игле, а сами заряжаясь положитель
но. Эти газообразныекатионы отгалкиваютсяиглой и летят от нее вдоль линий электростатическогополя на расположеннуювблизи фотопластинку,на которой при соударенияхсоздаютсязасвеченныеточки. Каждаяточка на пластинкесоот ветствует атому на кончике зонда, так что распределениеточек на фотопластин ке представляет собой сильно увеличенное изображение распределения атомов на вершине иглы. Нарис. 3.14 показан ионно-полевой микроснимок вольфрамо вой иглы, на рис. 3.15 - стереографическая проекция кубического кристалла с ориентацией, соответствующей микроснимку рис. 3.14. "Международные таб лицы кристаллографии" под редакцией Т. Хана (Хан 1996) содержат стереографи
ческие проекции для разных точечных групп и классов кристаялов.
3.3.3. Сканирующая.микроскопия
Эффективнымспособом полученияизображенияповерхностиобразца является сканирование поверхности электронным пучком с образованием растра анало гичио тому, как электронная пушка сканирует экран в телевизоре. Информация
Рис. 3.14. Ионно-полевой микроснимок |
Рис. 3.15. Стереографическая проекция |
кончика вольфрамовой иглы (т.Дж. Год |
кубического кристалла в направлении |
фри), расшифрованный с помощью сте |
[011], соответствующая снимку вольфрама |
реографической проекции на рис. 3.15 |
в ионно-полевом микроскопе на рис. 3.14 |
Глава З. Методы измерений
о поверхности может быть получена и с помощью сканирующего твердотельного зонда, траектория которого проходит по отдельным областям поверхности, вызы вающим особый интерес. Сканирование может также выполняться зондом, изме ряющим ток, который создается электронами, туннелирующими между поверх ностью образца и кончиком зонда, или зондом, измеряющим силу взаимодейст вия между поверхностью И кончиком иглы. Далее будут по очереди описаны установки, предназначенные для каждого из этих трех методов: сканирующий просвечивающий электронный микроскоп, сканирующий туннельный микро скоп (STM) и атомно-силовой микроскоп (ЛFМ).
Как уже упоминалось ранее, электронная оптика сканирующего электронно го микроскопа аналогична покаэанной на рис. 3.10 для обычного просвечивею
щего электронного микроскопа за исключением того, что при просвечивании
электроны летят слева направо, а при сканировании - справа налево на показан
ной схеме установки. О работе электронного микроскопа уже было рассказано довольно подробно, так что опишем только отклоняющую систему сканирующе го электронного микроскопа, показанную на рис. 3.16. Отклонение осуществля
ется магнитным полем, создаваемым электрическим током в катушках, по тому
же принципу, что и В большинстве обычных телевизионных приемников. Маг нитное поле, создаваемое катушкой, пропорционально приложенному к ней на пряжению V. На верхней врезке в левой части рис. 3.16 показано пилообразное напряжение, подаваемое на пары катушек 1], 1] и 12' 12' Магнитное поле катушек
создает силу, отклоняющую электронный пучок слева направо по направлению, указанному линией на образце. Персменные магнитные поля катушек f!, f] и f2, f2 вызывают меньшие отклонения (от ТОчКИ 1 к l' и далее к 1"), показанные на врез ке А. Таким образом, электронный пучок все время персмещается по образцу сле ва направо и обратно постепенно смещаясь вниз и образуя растр, со временем по крывающий всю площадь кадра r Х г. На рис. 3.17 показаны золотые частицы раз мером 3 нм на углеродной подложке, сфотографированные с помощью
сканирующего электронного микроскопа.
Сканирующий туннельный микроскоп в качестве зонда использует иглу с ис ключительно тонким кончиком. Этот кончик подключают к положительному по люсу источника напряжения и приближают к изучаемой поверхности на рассто яние порядка 1 нм. Электроны, принадлежащие конкретным атомам на поверх ности образца, притягиваются положительно заряженным кончиком и перепрыгиваюг (туннелируют) на него, образуя тем самым слабый электричес кий ток. Зонд перемешается по поверхности образцадля получения растра так же, как и электронный луч в предыдущем случае. Обычно используется либо переме щение на постоянной высоте, либо так, чтобы постоянным был туннельный ток, как показано на рис. 3.18. В режиме постоянного тока цепь обратной связи под
держивает постоянное расстояние между зондом и поверхностью, а изучаемым
сигналом является вертикальное смещение зонда. Такой режим работы поддер живает туннельный барьер при движении вдоль поверхности одним и тем же. В режиме постоянной высоты расстояние от зонда до поверхности все время ме-

3.3. Afuкроекоnuя
Реальный расхсдяшийся электронный пучок
. /
ПЛоскость верхних сканирующих обмоroк
Напряжениена генераторе |
|
||
развертки |
Плоскость нижних |
||
|
|
|
|
|
|
|
сканирующих обмоток |
|
|
|
|
|
Строчнаяраз |
|
|
_ |
|
Фокальная плоскость |
|
|
|
|
|
|
|
|
-объеКТИва |
Врезка А
Образец
Рис. 3.16. Двойная отклоняющая система сканирующего электронного микроско па. Верхние катушки I1 -11 отклоняют луч на угол О, нижние катушки 12 -12 отклоняют его назад на угол 2iJ, так что электроны последовательно попадают на образец вдоль показенной линии. На врезке слева вверху приведено пилообразное напряжение, задающее ток в сканирующих ка тушках ~. На нижней левой врезке показана последовательность точек образца, соответствующая различным траекториям 1, 2, З, 4, 5 электрон ного пучка, идущего вниз по оси микроскопа. Сканирующие катушки fl - f1 И f2 - f2 обеспечивают смещение луча по последовательности точек 1 - l' - 1". показвнных на нижней врезке.
няегся, что отражается в изменениях измеряемого туннельного тока в процессе
сканирования. Цепь обратной связи используется для установки первоначальной высоты над поверхностью, а затем отключается. Сканирующий зонд показывает
картину распределения атомов на поверхности.

Глава з. Методы измерений
в SТМ-микроскопе часто исполь зует пьезоэлектрический трехточечный сканнер. Его первоначальная конст рукция, со~ная Биннигом и Роре ром, показана на рис. 3.19. Пьезоэлек
трик - это материал, в котором прило
|
|
|
|
|
|
|
|
женное |
электрическое |
напряжение |
|
|
|
|
|
|
|
|
вызывает механическую деформацию, |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
и наоборот. Напряжение, прикдадыва |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
емое к пьезоактуатору, вызывает пере |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
мещение сканирующего зонда (или об |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
разца) с нанометровыми приращения |
||
|
|
|
|
|
|
|
|
ми вдоль направлений |
х, у или е, |
|
Рис. 3.17. Микроснимок частиц золота ди |
покаэанных на стойках (3) сканнера. |
|||||||||
аметром 3 нм (30 А) на углеродной подлож |
||||||||||
ке, |
полученный на сканирующем |
элек |
Первоначальная юстировка осуществ |
|||||||
|
|
|
||||||||
тронном микроскопе. |
|
|
ляется после установки образца с по- |
|||||||
|
|
|
|
|
||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
мощью шагового двигателя и микроме |
||
|
|
|
Режим постоянной высоты |
трических винтов. Туннельный ток, из |
||||||
.., |
_ |
(без обратной связи) |
|
|
меняюшийся от ширины зазора между |
|||||
гуннельвыи ток |
|
|
||||||||
|
|
|
|
|
|
|
|
зондом и образцом экспоненциально, |
||
|
|
|
|
Нап авление скани |
ван |
зависит |
от состояния |
поверхности |
||
Траектория |
|
Кончик зонда |
|
|
||||||
|
|
|
и кончика зонда. |
|
||||||
зоМа- - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - -- |
|
|||||||||
|
|
|
~методом для изучения поверхности наноструктур является агомно-силоТретьим широко используемым
|
|
Режим неизменного тока |
вая микроскопия. На рис. 3.20 показа |
||
Туннельный ток:обратная связьвлючена) |
|||||
|
|||||
|
|
|
|
на конструкция типичного атомно-си |
|
|
|
|
|
лового микроскопа (АРМ). Фундамен |
|
|
|
Наn авление скани ввния |
|||
|
|
тальное различие между STM и ЛFМ |
|||
Траектория зон- |
Кончикзонда |
||||
|
|||||
да /\ ,--- |
" -- /' -" ,- ,--,-- , |
|
состоит в том, что первый измеряет |
||
|
|
||||
|
|
|
|
туннельный ток между зондом и по- |
|
|
|
|
|
верхностью, а второй - силу взаимо |
|
Рис. 3.18. Режимы постоянной высоты |
действия между ними. AFM так же, |
||||
как и STM, имеет два режима работы. |
|||||
(вверху) и неизменного тока (внизу) ска |
|||||
нирующего туннельного микроскопа. |
АРМ может работать в контактном ре- |
жиме с поверхностью, при котором ос
новную роль играют силы отталкивания электронных оболочек атомов зонда и поверхности, и в "бесконтактном" режиме, когда зонд находится на большем расстоянии и доминируют силы Ван дер Ваальса. Как и в случае STM, использу ется пьезоэлектрический сканнер. Вертикальное перемещение зонда в процессе сканирования может контролироваться по изменению интерференционной кар тины, создаваемой пучком света, направляемым по оптоволокну, как показано
в верхней части рисунка, либо по отражению лазерного луча, как покаэано на

3.3. Микроскопия
Опroволокно
2
Рис. 3.19. Сканирующий механизм тун нельного микроскопа. Показаны пьезоэле
ктрическое основание |
(1), три НОЖКИ ос |
Трубчатый |
|
пьеэоактуатор |
|||
нования(2) и пьезоэлектрический сканнер |
|
||
на треноге (3), удерживающий ЗОНД, на |
|
||
правленный к образцу. |
|
|
|
|
|
|
ФоТОДИОДНЫЙ датчик |
|
|
|
перемешений луча |
увеличенном виде |
кончика |
зонда |
Лазерный луч |
|
|||
в нижней части рисунка. AFM |
ЧУВСТ |
х |
|
|
|||
вителен к вертикальной компоненте |
|
||
поверхностных сил. Близкая к ОПИ~ |
|
||
санным, но более гибкая мода АРМ |
|
||
называется латерально-силовойМИК |
|
||
роскопией(FFM) и реагируетна боко- |
|
||
вые силы трения между ЗОНДОМ и ска |
|
||
нируемойповерхностью.При ЭТОМод |
|
||
новременно может |
быть измерена |
|
и нормальная,и касательнаясоставля
ющая силы воздействия поверхности
на зонд.
Все три описанных сканирующих микроскопа предоставляютинформа цию о топографиии дефектахструкту ры поверхностис разрешением,близ ким к атомному. На рис. 3.21 показано трехмерное представление АFМ-изоб ражения наноструктуры, образован ной атомами хрома на поверхности Si02• Образец был изготовлен методом
Рис. 3.20. Схема атомно-силового микро скопа. Показан кантилевер, снабженный зондирующим кончиком, который переме щается вдоль поверхности образца с помо
щью пьезоэлектрического сканиера.
На верхнем рисунке показан интерферен ционный датчик смещений. На увеличен ном виде кантилевера с зондом внизу - датчик, основанный на отклонении лазер ного луча. эти датчики измеряют верти
кальное или горизонтальное смещение
зонда в процессе сканирования.
лазерного напыления атомов хрома в присутствии гауссовой стоячей волны на поверхности, что привело к наблюдаемой упорядоченной последовательности пиков и долин на поверхности. Когда осаждение хрома сфокусированным лазер
ным лучом производилось при наличии двух перпендикулярных друг другу пло
ских волн на поверхности, получалась двумерная структура, AFМ-изображение которой показано на рис. 3.22. Следует отметить, что расстояние между пиками,
Глава З. Методы измерений
Рис. 3.21. Трехмерная визуализация АРМ |
Рис. 3.22. АFМ-изображение нанострух |
изображения наноструктуры, сформиро |
туры, сформированной лазерным осажде |
ванной лазерным осаждением атомов хро |
нием атомов хрома в присутствии двух |
ма на Si02 подложку в присутствии гаус |
взаимно перпендикулярных гауссовых |
совой стоячей волны. |
стоячих волн. |
равное 212,78 им, одинаково в обоих случаях. Высота ликов в двумерном случае (13 нм) больше, чем в одномерном (8 нм).
3.4. Спектроскопия
3.4.1. Инфракрасная "романовская спектроскопия
Колебательная спектроскопия имеет дело с фотонами, связанными с переходами
между колебательными уровнями энергии молекул и твердых тел, обычно лежа
ЩИМИ в инфракрасном (ИК)диапазоне частот от2 до 12·1013 Гц. В параграфе 2.1.5 обсуждались нормальные моды колебаний молекул и твердых тел. Энергетичес
кая щель многих полупроводников лежит в этом же диапазоне частот и может ис
следоваться инфракрасными методами.
ВИК-спектроскопии поглощение фотона hv вызывает переход между двумя
колебательными уровнями Еn и Еn" |
где |
|
г, = |
(n + ~)hVO |
(3.8) |
Колебательное квантовое число n = О, 1,2, ... - положительное целое, а УО - ха рактеристическая частота конкретной моды. В соответствии с правилом отбора д'n = ± 1, инфракрасные переходы наблюдаются только между соседними колеба тельными уровнями и, следовательно, имеют частоту УО. В рамановской спектро скопии колебательные уровни возбуждаются при поглощеиии фотона с частотой Уinе И переизлучении другого фотона с частотой hvemit:
Еn = Ihvinc - hVem;~ |
(3.9) |
Из уравнений3.8 и 3.9 следует; что разность частот Iv/nc - |
Yem/~ = In'- n"l уо = УО, так |
как выполняется то же самое правило отбора Аn = ±1. Наблюдаются два случая:
3.4. Спектроскопия |
~ |
1) vinc >vemi1соответствует сгоксовским линиям, И 2) vinc <Veлri/ - антистоксовским. Активные в ИК-диапазоне колебательные моды возникают вследствие измене
ния электрического дипольного моментам молекулы, в то время как рамановски
активные колебательные моды связаны с изменением поляризуемости Р = 1';",/Е, когда вектор напряженности электрического поля падающего света Е вызывает изменение дипольного момента I';nd в образце. Некоторые колебательные моды ик-активны, то есть видны в обычных ИК-спектрах, некоторые - рамановск:и
активны.
Оптическая и ИК-спектроскопия часто производится в отраженном свете, и при измерении на наноструктурах получают отражательную способность Я, ха рактеризующую долю отраженного света. Дпя нормального падения имеем:
(3.10)
где е - диэлектрическая проницаемоотъ вещества. Диэлектрическая проницае мость e(v) - комплексная величина, действительная часть которой е'(е) влияет на частоты ИК-полос, а мнимая -e"(v) ответственназа логлощениеэнергии (поте ри). для полученияявных частотныхзависимостейe'(v) и e"(v) из измеренных их-спектров отражения используется методика, называемая анализом Крамер са-Кронига.
Классическим способом регистрации ИК-спектра является сканирование ча
стоты падающего света, что позволяет детектору измерять изменения интенсив
ности отражения для тех частот, на которых образец поглощает энергию. Основ ным недостатком такого подхода является то, что детектор дает полезную инфор
мацию только при попадании частоты на линию поглощения, в то время как
большинство времени частота сканирования лежит вдали от таких линий, а де тектор прастаивает. Дпя избавления от этого недостатка современные ИК-спек грометры облучают образец широким диапазоном частот одновременно. Полу ченные результаты затем обрабатываются с помощью преобразования Фурье для приведения к классическому виду спектра. Полученный таким образом сигнал называется Фурье-преобразованным ИК-спектром. Преобразование Фурье так
же широко используется в методах ядерного магнитного резонанса, описанных
далее, и других областях спектроскопии.
На рис. 3.23 покаэвн такой спектр нанопорошка нитрида кремния (SiзN4)
с заметными линиями поглощения, соответствующими наличию гидроксиль
ных Si - ОН, амино- Si - NH 2 и амидо- Si - NH - Si групп на поверхности. На рис. 3.24 показан аналогичный спектр нанопорошка карбонитрида кремния (SiCN), демонстрирующийприсугствие несколькиххимическихсоединений на поверхностипосле активациипри 873 К и их удаление часовым нагреванием при 773 К в атмосфере сухого кислорода.
На рис. 3.25 показано уширение линий рамвновекого спектра наночастиц германия, введенных в тонкопленочную подложку из Si02, при уменьшении их

Глава З. Методы измерений
NH
б
4000 |
3500 |
3000 |
2500 |
2000 |
1500 |
Волновое число. см-]
Рис. 3.23. Фуръе-преобразованный ИК-спектр нанопорошка нитрида кремния при комнатной температуре в условиях вакуума (кривая а) и после акти вации при 773 К (кривая б).
Si-OH
Si-OH
\
NH
СН,
трехвалентные
группы
б
4000 |
3500 |
3000 |
2500 |
2000 |
1500 |
Волновоечисло. см"
Рис. 3.24. Фурье-преобразованный ИК спектр нанопорошка карбонитрида кремния после активации при 873 К (кривая а) и последующего нагревания в атмо сфере сухorо кислорода при 773 К в течение 1 часа (кривая б).
размера ниже - 20 нм. На рис. 3.26 приведен рамановокий спектр, полученный
для нанокристаллов германия с распределением размеров частиц, имеющим среднее значение около 6,5 нм, и гистограмма распределения размеров, получен ная путем просвечивеющей электронной микроскопии. Эти нанокристаллы при
готавливались с помощью химического восстановления и осаждения с последую-

З.4. Спектроскопия ~:)
|
~c-Ge |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
в Si02 |
|
Средний |
|
|
|
|
размер |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
частиц (ИМ) |
|
g |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
=в |
|
|
bulkGe |
|
|
|
|
||
"о |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
," |
|
|
|
|
,• |
|
|
|
|
, |
|
15.0 |
|
|
о |
|
|
|
|
" |
|
|
|
|
~ |
|
10.7 |
|
|
|
|
|
||
|
8.0 |
7.7 |
|
|
|
|
|
|
|
|
9.8 |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
260 280 эоо 320 Э4О
Рамяновский СД8Иг, см-1
Рис. 3.25. Зависимость рамановского спек тра микрокрисгаллов германия внедренныхв тонкую пленку Si02, ОТ раз меров кристаллов. На кривых приведсны средний размер частиц и ширина пика на полувысоте (ШПВ) для каждого образца.
g , в
~т.а
" о.в
,8 ,• м
,о
~ 0.0
~
270 |
280 |
290 |
300 |
31О |
320 |
Рамяновский СДВИГ, см-1
2 |
3 |
4 |
5 |
6 |
7 |
8 |
9 |
10 |
11 |
радиус R, им
Рис. 3.26. Гистограмма распределения раз меров ваночастиц германия (внизу) со средним значением около 6.5 им, исполь
зованная для вычисления рамановокого спектра (сплошная кривая вверху), и экс
периментально измеренный рамановокий спектр (прерывистая линия вверху). Рас
пределение по размерам получено на про
свечивающем электронном микроскопе.
шим отжигом фазы SixGeyOz. Дальнейшие исследования методом рамановской
спектроскопии показывают увеличение размеров получающихся наночастиц при
увеличении времени и температуры отжига.
Выше обсуждалось то, что традиционно называется рамановским рассеянием света, комбинационным рассеянием, рассеянием Рамана, или рамановской спе ктроскопией. Это - спектроскопия, при которой фононные колебания решетки (формула 3.8) соответствуют разнице энергий (формула 3.9) оптических фоно нов, описанных D предыдущем парагрвфе, а именно фонснов с частотами коло
баний, лежащими в ИК области спектра, что соответствует примерно 400 см' или частотам около 1.2·1013 Гц. Когда в рассеяние, описываемое формулой 3.9,
вовлекаются низкочастотные акустические фононы, процесс называется рассея нием Бриллюэна. Акустические фононы могут иметь частоты колебаний или
энергии в 1000 раз меньше, чем оптические фонсны. Типичные значения состав ляют 1,501010 Гц или 0,5 см", Бриллюэновская спектроскопия, использующая,
как и рамановская, и стоксговские, и антистоксовские линии, обсуждается в Главе 8.