Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Скачиваний:
18
Добавлен:
14.06.2020
Размер:
8.14 Mб
Скачать
Si02

Глава З. Методы измерений

(а)

(б)

(в]

(г)

(д)

(е)

(ж)

Рис. 3.13. Обработка изображения частиц Ni на Si02 субстрате с просвечивающего электронного микроскопа. (а) - первена­ чальвое изображение, (б) - пространсг­ венное быстрое преобраэование Фурье снимка (а), (в) - изображение, полученное с апертурным фильтром, показанным на врезке, (г) - дальнейшая обработка изоб­ ражения с дрyrим апертурным фильтром, показанным на врезке, (д) - окончатель­ ное изображение, (е) - изображение субстрата, полученное вычитанием изоб­ ражения частицы, (ж) - модель наночасти­

цы, воссозданная на основе полученных

данных.

Кроме прошедших насквозь

ипродифрагировавших электронов

впучке присутствуют и электроны,

испытавшие в образце неупругие со­

ударения и потерявшие энергию, по­

траченную на создание возбуждений в образце. это может произойти при возбуждении колебаний атомов, нахо­

дившихся около траектории пролета

электрона, и, следовательно, возбуж­ дении фононов, распространяющихся по кристаллу Если образец металли­ ческий, электрон может испытать не­ упругое рассеяние из-за возбуждения

плазмона, то есть коллективного воз­

буждения в электронном газе в зоне проводимости. Третьим очень важным

источником неупругого рассеяния

служит генерация одноэлектронных

возбуждений атомов. Этот процесс

может затрагивать внутренние эяек­

тронные оболочки атомов, например, может произойти переброс электрона с К (n = 1) или L (n = 2) уровня на бо­ лее высокий квантовый уровень ато­ ма, в зону проводимости или вообще выбивание этого электрона из образца (ионизация). Меньшие потери энер­ ГИИ могут произойти при перебросе электрона из валентной зоны полу­ проводника в зону проводимости. Та­ кое возбуждение может релаксироватъ

посредством перехода электрона в ос­

новное состояние с испусканием све­

та. Характеристики этого вторичного

излучения часто могут дать полезную

информацию об образце. Этот тип пе­

реходов используется во многих раз­

делах электронной спектроскопии. Данную методику можно использо­

вать для исследования поверхности,

так как глубина проникновения элек­ тронов в образец мала.

З.3. Микроскопия ~,.:)

3.3.2. Нонно-nолевая.микроскопия

Другая техника, дающая разрешение, приближаюшеесяк межатомнымрасстоя­ ниям, это ионно-полеваямикроскопия. В ионно-полевоммикроскопе на метал­

лическую иглу с острым кончиком, находящуюся в камере с высоким вакуумом,

подаетсяположительныйпотенциал. И электрическоеполе, и его градиентвбли­ зи острия весьма велики, так что остаточные молекулы газа при приближении

к нему ионизируются, передавая электроны игле, а сами заряжаясь положитель­

но. Эти газообразныекатионы отгалкиваютсяиглой и летят от нее вдоль линий электростатическогополя на расположеннуювблизи фотопластинку,на которой при соударенияхсоздаютсязасвеченныеточки. Каждаяточка на пластинкесоот­ ветствует атому на кончике зонда, так что распределениеточек на фотопластин­ ке представляет собой сильно увеличенное изображение распределения атомов на вершине иглы. Нарис. 3.14 показан ионно-полевой микроснимок вольфрамо­ вой иглы, на рис. 3.15 - стереографическая проекция кубического кристалла с ориентацией, соответствующей микроснимку рис. 3.14. "Международные таб­ лицы кристаллографии" под редакцией Т. Хана (Хан 1996) содержат стереографи­

ческие проекции для разных точечных групп и классов кристаялов.

3.3.3. Сканирующая.микроскопия

Эффективнымспособом полученияизображенияповерхностиобразца является сканирование поверхности электронным пучком с образованием растра анало­ гичио тому, как электронная пушка сканирует экран в телевизоре. Информация

Рис. 3.14. Ионно-полевой микроснимок

Рис. 3.15. Стереографическая проекция

кончика вольфрамовой иглы (т.Дж. Год­

кубического кристалла в направлении

фри), расшифрованный с помощью сте­

[011], соответствующая снимку вольфрама

реографической проекции на рис. 3.15

в ионно-полевом микроскопе на рис. 3.14

Глава З. Методы измерений

о поверхности может быть получена и с помощью сканирующего твердотельного зонда, траектория которого проходит по отдельным областям поверхности, вызы­ вающим особый интерес. Сканирование может также выполняться зондом, изме­ ряющим ток, который создается электронами, туннелирующими между поверх­ ностью образца и кончиком зонда, или зондом, измеряющим силу взаимодейст­ вия между поверхностью И кончиком иглы. Далее будут по очереди описаны установки, предназначенные для каждого из этих трех методов: сканирующий просвечивающий электронный микроскоп, сканирующий туннельный микро­ скоп (STM) и атомно-силовой микроскоп (ЛFМ).

Как уже упоминалось ранее, электронная оптика сканирующего электронно­ го микроскопа аналогична покаэанной на рис. 3.10 для обычного просвечивею­

щего электронного микроскопа за исключением того, что при просвечивании

электроны летят слева направо, а при сканировании - справа налево на показан­

ной схеме установки. О работе электронного микроскопа уже было рассказано довольно подробно, так что опишем только отклоняющую систему сканирующе­ го электронного микроскопа, показанную на рис. 3.16. Отклонение осуществля­

ется магнитным полем, создаваемым электрическим током в катушках, по тому

же принципу, что и В большинстве обычных телевизионных приемников. Маг­ нитное поле, создаваемое катушкой, пропорционально приложенному к ней на­ пряжению V. На верхней врезке в левой части рис. 3.16 показано пилообразное напряжение, подаваемое на пары катушек 1], 1] и 12' 12' Магнитное поле катушек

создает силу, отклоняющую электронный пучок слева направо по направлению, указанному линией на образце. Персменные магнитные поля катушек f!, f] и f2, f2 вызывают меньшие отклонения (от ТОчКИ 1 к l' и далее к 1"), показанные на врез­ ке А. Таким образом, электронный пучок все время персмещается по образцу сле­ ва направо и обратно постепенно смещаясь вниз и образуя растр, со временем по­ крывающий всю площадь кадра r Х г. На рис. 3.17 показаны золотые частицы раз­ мером 3 нм на углеродной подложке, сфотографированные с помощью

сканирующего электронного микроскопа.

Сканирующий туннельный микроскоп в качестве зонда использует иглу с ис­ ключительно тонким кончиком. Этот кончик подключают к положительному по­ люсу источника напряжения и приближают к изучаемой поверхности на рассто­ яние порядка 1 нм. Электроны, принадлежащие конкретным атомам на поверх­ ности образца, притягиваются положительно заряженным кончиком и перепрыгиваюг (туннелируют) на него, образуя тем самым слабый электричес­ кий ток. Зонд перемешается по поверхности образцадля получения растра так же, как и электронный луч в предыдущем случае. Обычно используется либо переме­ щение на постоянной высоте, либо так, чтобы постоянным был туннельный ток, как показано на рис. 3.18. В режиме постоянного тока цепь обратной связи под­

держивает постоянное расстояние между зондом и поверхностью, а изучаемым

сигналом является вертикальное смещение зонда. Такой режим работы поддер­ живает туннельный барьер при движении вдоль поверхности одним и тем же. В режиме постоянной высоты расстояние от зонда до поверхности все время ме-

3.3. Afuкроекоnuя

Реальный расхсдяшийся электронный пучок

. /

ПЛоскость верхних сканирующих обмоroк

Напряжениена генераторе

 

развертки

Плоскость нижних

 

 

 

 

 

 

сканирующих обмоток

 

 

 

 

 

Строчнаяраз­

 

_

 

Фокальная плоскость

 

 

 

 

 

 

-объеКТИва

Врезка А

Образец

Рис. 3.16. Двойная отклоняющая система сканирующего электронного микроско­ па. Верхние катушки I1 -11 отклоняют луч на угол О, нижние катушки 12 -12 отклоняют его назад на угол 2iJ, так что электроны последовательно попадают на образец вдоль показенной линии. На врезке слева вверху приведено пилообразное напряжение, задающее ток в сканирующих ка­ тушках ~. На нижней левой врезке показана последовательность точек образца, соответствующая различным траекториям 1, 2, З, 4, 5 электрон­ ного пучка, идущего вниз по оси микроскопа. Сканирующие катушки fl - f1 И f2 - f2 обеспечивают смещение луча по последовательности точек 1 - l' - 1". показвнных на нижней врезке.

няегся, что отражается в изменениях измеряемого туннельного тока в процессе

сканирования. Цепь обратной связи используется для установки первоначальной высоты над поверхностью, а затем отключается. Сканирующий зонд показывает

картину распределения атомов на поверхности.

Глава з. Методы измерений

в SТМ-микроскопе часто исполь­ зует пьезоэлектрический трехточечный сканнер. Его первоначальная конст­ рукция, со~ная Биннигом и Роре­ ром, показана на рис. 3.19. Пьезоэлек­

трик - это материал, в котором прило­

 

 

 

 

 

 

 

 

женное

электрическое

напряжение

 

 

 

 

 

 

 

 

вызывает механическую деформацию,

 

 

 

 

 

 

 

 

и наоборот. Напряжение, прикдадыва­

 

 

 

 

 

 

 

 

емое к пьезоактуатору, вызывает пере­

 

 

 

 

 

 

 

 

мещение сканирующего зонда (или об­

 

 

 

 

 

 

 

 

разца) с нанометровыми приращения­

 

 

 

 

 

 

 

 

ми вдоль направлений

х, у или е,

Рис. 3.17. Микроснимок частиц золота ди­

покаэанных на стойках (3) сканнера.

аметром 3 нм (30 А) на углеродной подлож­

ке,

полученный на сканирующем

элек­

Первоначальная юстировка осуществ­

 

 

 

тронном микроскопе.

 

 

ляется после установки образца с по-

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

мощью шагового двигателя и микроме­

 

 

 

Режим постоянной высоты

трических винтов. Туннельный ток, из­

..,

_

(без обратной связи)

 

 

меняюшийся от ширины зазора между

гуннельвыи ток

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

зондом и образцом экспоненциально,

 

 

 

 

Нап авление скани

ван

зависит

от состояния

поверхности

Траектория

 

Кончик зонда

 

 

 

 

 

и кончика зонда.

 

зоМа- - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - - --

 

 

 

 

~методом для изучения поверхности наноструктур является агомно-сило­Третьим широко используемым

 

 

Режим неизменного тока

вая микроскопия. На рис. 3.20 показа­

Туннельный ток:обратная связьвлючена)

 

 

 

 

 

на конструкция типичного атомно-си­

 

 

 

 

лового микроскопа (АРМ). Фундамен­

 

 

Наn авление скани ввния

 

 

тальное различие между STM и ЛFМ

Траектория зон-

Кончикзонда

 

да /\ ,---

" -- /' -" ,- ,--,-- ,

 

состоит в том, что первый измеряет

 

 

 

 

 

 

туннельный ток между зондом и по-

 

 

 

 

верхностью, а второй - силу взаимо­

Рис. 3.18. Режимы постоянной высоты

действия между ними. AFM так же,

как и STM, имеет два режима работы.

(вверху) и неизменного тока (внизу) ска­

нирующего туннельного микроскопа.

АРМ может работать в контактном ре-

жиме с поверхностью, при котором ос­

новную роль играют силы отталкивания электронных оболочек атомов зонда и поверхности, и в "бесконтактном" режиме, когда зонд находится на большем расстоянии и доминируют силы Ван дер Ваальса. Как и в случае STM, использу­ ется пьезоэлектрический сканнер. Вертикальное перемещение зонда в процессе сканирования может контролироваться по изменению интерференционной кар­ тины, создаваемой пучком света, направляемым по оптоволокну, как показано

в верхней части рисунка, либо по отражению лазерного луча, как покаэано на

3.3. Микроскопия

Опroволокно

2

Рис. 3.19. Сканирующий механизм тун­ нельного микроскопа. Показаны пьезоэле­

ктрическое основание

(1), три НОЖКИ ос­

Трубчатый

пьеэоактуатор

нования(2) и пьезоэлектрический сканнер

 

на треноге (3), удерживающий ЗОНД, на­

 

правленный к образцу.

 

 

 

 

 

 

ФоТОДИОДНЫЙ датчик

 

 

 

перемешений луча

увеличенном виде

кончика

зонда

Лазерный луч

 

в нижней части рисунка. AFM

ЧУВСТ­

х

 

вителен к вертикальной компоненте

 

поверхностных сил. Близкая к ОПИ~

 

санным, но более гибкая мода АРМ

 

называется латерально-силовойМИК­

 

роскопией(FFM) и реагируетна боко-

 

вые силы трения между ЗОНДОМ и ска­

 

нируемойповерхностью.При ЭТОМод­

 

новременно может

быть измерена

 

и нормальная,и касательнаясоставля­

ющая силы воздействия поверхности

на зонд.

Все три описанных сканирующих микроскопа предоставляютинформа­ цию о топографиии дефектахструкту­ ры поверхностис разрешением,близ­ ким к атомному. На рис. 3.21 показано трехмерное представление АFМ-изоб­ ражения наноструктуры, образован­ ной атомами хрома на поверхности Si02Образец был изготовлен методом

Рис. 3.20. Схема атомно-силового микро­ скопа. Показан кантилевер, снабженный зондирующим кончиком, который переме­ щается вдоль поверхности образца с помо­

щью пьезоэлектрического сканиера.

На верхнем рисунке показан интерферен­ ционный датчик смещений. На увеличен­ ном виде кантилевера с зондом внизу - датчик, основанный на отклонении лазер­ ного луча. эти датчики измеряют верти­

кальное или горизонтальное смещение

зонда в процессе сканирования.

лазерного напыления атомов хрома в присутствии гауссовой стоячей волны на поверхности, что привело к наблюдаемой упорядоченной последовательности пиков и долин на поверхности. Когда осаждение хрома сфокусированным лазер­

ным лучом производилось при наличии двух перпендикулярных друг другу пло­

ских волн на поверхности, получалась двумерная структура, AFМ-изображение которой показано на рис. 3.22. Следует отметить, что расстояние между пиками,

Глава З. Методы измерений

Рис. 3.21. Трехмерная визуализация АРМ

Рис. 3.22. АFМ-изображение нанострух­

изображения наноструктуры, сформиро­

туры, сформированной лазерным осажде­

ванной лазерным осаждением атомов хро­

нием атомов хрома в присутствии двух

ма на Si02 подложку в присутствии гаус­

взаимно перпендикулярных гауссовых

совой стоячей волны.

стоячих волн.

равное 212,78 им, одинаково в обоих случаях. Высота ликов в двумерном случае (13 нм) больше, чем в одномерном (8 нм).

3.4. Спектроскопия

3.4.1. Инфракрасная "романовская спектроскопия

Колебательная спектроскопия имеет дело с фотонами, связанными с переходами

между колебательными уровнями энергии молекул и твердых тел, обычно лежа­

ЩИМИ в инфракрасном (ИК)диапазоне частот от2 до 12·1013 Гц. В параграфе 2.1.5 обсуждались нормальные моды колебаний молекул и твердых тел. Энергетичес­

кая щель многих полупроводников лежит в этом же диапазоне частот и может ис­

следоваться инфракрасными методами.

ВИК-спектроскопии поглощение фотона hv вызывает переход между двумя

колебательными уровнями Еn и Еn"

где

 

г, =

(n + ~)hVO

(3.8)

Колебательное квантовое число n = О, 1,2, ... - положительное целое, а УО - ха­ рактеристическая частота конкретной моды. В соответствии с правилом отбора д'n = ± 1, инфракрасные переходы наблюдаются только между соседними колеба­ тельными уровнями и, следовательно, имеют частоту УО. В рамановской спектро­ скопии колебательные уровни возбуждаются при поглощеиии фотона с частотой Уinе И переизлучении другого фотона с частотой hvemit:

Еn = Ihvinc - hVem;~

(3.9)

Из уравнений3.8 и 3.9 следует; что разность частот Iv/nc -

Yem/~ = In'- n"l уо = УО, так

как выполняется то же самое правило отбора Аn = ±1. Наблюдаются два случая:

3.4. Спектроскопия

~

1) vinc >vemi1соответствует сгоксовским линиям, И 2) vinc <Veлri/ - антистоксовским. Активные в ИК-диапазоне колебательные моды возникают вследствие измене­

ния электрического дипольного моментам молекулы, в то время как рамановски

активные колебательные моды связаны с изменением поляризуемости Р = 1';",/Е, когда вектор напряженности электрического поля падающего света Е вызывает изменение дипольного момента I';nd в образце. Некоторые колебательные моды ик-активны, то есть видны в обычных ИК-спектрах, некоторые - рамановск:и

активны.

Оптическая и ИК-спектроскопия часто производится в отраженном свете, и при измерении на наноструктурах получают отражательную способность Я, ха­ рактеризующую долю отраженного света. Дпя нормального падения имеем:

(3.10)

где е - диэлектрическая проницаемоотъ вещества. Диэлектрическая проницае­ мость e(v) - комплексная величина, действительная часть которой е'(е) влияет на частоты ИК-полос, а мнимая -e"(v) ответственназа логлощениеэнергии (поте­ ри). для полученияявных частотныхзависимостейe'(v) и e"(v) из измеренных их-спектров отражения используется методика, называемая анализом Крамер­ са-Кронига.

Классическим способом регистрации ИК-спектра является сканирование ча­

стоты падающего света, что позволяет детектору измерять изменения интенсив­

ности отражения для тех частот, на которых образец поглощает энергию. Основ­ ным недостатком такого подхода является то, что детектор дает полезную инфор­

мацию только при попадании частоты на линию поглощения, в то время как

большинство времени частота сканирования лежит вдали от таких линий, а де­ тектор прастаивает. Дпя избавления от этого недостатка современные ИК-спек­ грометры облучают образец широким диапазоном частот одновременно. Полу­ ченные результаты затем обрабатываются с помощью преобразования Фурье для приведения к классическому виду спектра. Полученный таким образом сигнал называется Фурье-преобразованным ИК-спектром. Преобразование Фурье так­

же широко используется в методах ядерного магнитного резонанса, описанных

далее, и других областях спектроскопии.

На рис. 3.23 покаэвн такой спектр нанопорошка нитрида кремния (SiзN4)

с заметными линиями поглощения, соответствующими наличию гидроксиль­

ных Si - ОН, амино- Si - NH 2 и амидо- Si - NH - Si групп на поверхности. На рис. 3.24 показан аналогичный спектр нанопорошка карбонитрида кремния (SiCN), демонстрирующийприсугствие несколькиххимическихсоединений на поверхностипосле активациипри 873 К и их удаление часовым нагреванием при 773 К в атмосфере сухого кислорода.

На рис. 3.25 показано уширение линий рамвновекого спектра наночастиц германия, введенных в тонкопленочную подложку из Si02, при уменьшении их

Глава З. Методы измерений

NH

б

4000

3500

3000

2500

2000

1500

Волновое число. см-]

Рис. 3.23. Фуръе-преобразованный ИК-спектр нанопорошка нитрида кремния при комнатной температуре в условиях вакуума (кривая а) и после акти­ вации при 773 К (кривая б).

Si-OH

Si-OH

\

NH

СН,

трехвалентные

группы

б

4000

3500

3000

2500

2000

1500

Волновоечисло. см"

Рис. 3.24. Фурье-преобразованный ИК спектр нанопорошка карбонитрида кремния после активации при 873 К (кривая а) и последующего нагревания в атмо­ сфере сухorо кислорода при 773 К в течение 1 часа (кривая б).

размера ниже - 20 нм. На рис. 3.26 приведен рамановокий спектр, полученный

для нанокристаллов германия с распределением размеров частиц, имеющим среднее значение около 6,5 нм, и гистограмма распределения размеров, получен­ ная путем просвечивеющей электронной микроскопии. Эти нанокристаллы при­

готавливались с помощью химического восстановления и осаждения с последую-

(Pc-Ge),

З.4. Спектроскопия ~:)

 

~c-Ge

 

 

 

 

 

 

 

 

в Si02

 

Средний

 

 

 

 

размер

 

 

 

 

 

 

 

 

частиц (ИМ)

 

g

 

 

 

 

 

 

 

 

=в

 

 

bulkGe

 

 

 

 

"о

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

,"

 

 

 

 

,

 

 

 

 

,

 

15.0

 

о

 

 

 

 

"

 

 

 

 

~

 

10.7

 

 

 

 

 

8.0

7.7

 

 

 

 

 

 

 

9.8

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

260 280 эоо 320 Э4О

Рамяновский СД8Иг, см-1

Рис. 3.25. Зависимость рамановского спек­ тра микрокрисгаллов германия внедренныхв тонкую пленку Si02, ОТ раз­ меров кристаллов. На кривых приведсны средний размер частиц и ширина пика на полувысоте (ШПВ) для каждого образца.

g , в

~т.а

" о.в

,8 ,м

,о

~ 0.0

~

270

280

290

300

31О

320

Рамяновский СДВИГ, см-1

2

3

4

5

6

7

8

9

10

11

радиус R, им

Рис. 3.26. Гистограмма распределения раз­ меров ваночастиц германия (внизу) со средним значением около 6.5 им, исполь­

зованная для вычисления рамановокого спектра (сплошная кривая вверху), и экс­

периментально измеренный рамановокий спектр (прерывистая линия вверху). Рас­

пределение по размерам получено на про­

свечивающем электронном микроскопе.

шим отжигом фазы SixGeyOz. Дальнейшие исследования методом рамановской

спектроскопии показывают увеличение размеров получающихся наночастиц при

увеличении времени и температуры отжига.

Выше обсуждалось то, что традиционно называется рамановским рассеянием света, комбинационным рассеянием, рассеянием Рамана, или рамановской спе­ ктроскопией. Это - спектроскопия, при которой фононные колебания решетки (формула 3.8) соответствуют разнице энергий (формула 3.9) оптических фоно­ нов, описанных D предыдущем парагрвфе, а именно фонснов с частотами коло­

баний, лежащими в ИК области спектра, что соответствует примерно 400 см' или частотам около 1.2·1013 Гц. Когда в рассеяние, описываемое формулой 3.9,

вовлекаются низкочастотные акустические фононы, процесс называется рассея­ нием Бриллюэна. Акустические фононы могут иметь частоты колебаний или

энергии в 1000 раз меньше, чем оптические фонсны. Типичные значения состав­ ляют 1,501010 Гц или 0,5 см", Бриллюэновская спектроскопия, использующая,

как и рамановская, и стоксговские, и антистоксовские линии, обсуждается в Главе 8.

Соседние файлы в папке Книги и монографии